[求助]高反膜机差问题 [复制链接]

ouyuu:怀疑是排气能力差异。 <<w*_GM  
开镀真空一样吗？都开充氧了吗？充氧压力多少？ (2018-02-02 09:16)  m55|&Ux|  

5Q7Z$A1a 9  
开镀真空一样，都是2E-3Pa，都开充氧了，目前最主要问题是稳定性不好，有些Run次镀出来是OK的，有些就不好，不知道是哪里造成的稳定性差

dcfcwdx:[表情]单层的PEAK对比过，确实是有差异的，关键是怎样调节折射率和吸收呢？ (2018-03-03 22:41)  i&^]qL|J  

s+t[{i4|  
是什么差异呢？整体向上偏移？还是波峰更高，波谷更低？ (<2!^v0.M  
如果是吸收，那就改善充氧。 &6e A.  
如果是折射率差异，那就改变蒸发速率。 yXQ 2
8A  

ouyuu:是什么差异呢？整体向上偏移？还是波峰更高，波谷更低？ W/VEB3P>Z  
如果是吸收，那就改善充氧。 'U,\5jj'Y  
如果是折射率差异，那就改变蒸发速率。 7)RR
Csn  
 (2018-03-06 13:05)  `YY07(%  

.l,]yWwfK  
镀TiO2单层来比较是，较差的机台的波峰低，波谷高，也就是峰谷差小，还有，改善充氧就是改变APC压力吗？

dcfcwdx:镀TiO2单层来比较是，较差的机台的波峰低，波谷高，也就是峰谷差小，还有，改善充氧就是改变APC压力吗？ (2018-03-13 20:40)  p&\DG  

'UTMEN&  
看起来像是折射率问题。 VF+g+~  
你这边用离子源辅助吗？ wv=U[:Y  
如果有，就改变一下离子源参数 '@zMZc!  
如果没有，就改一下电子枪速率看看。

ouyuu:看起来像是折射率问题。 a/rQ@c>  
你这边用离子源辅助吗？ oW>e.}d!  
如果有，就改变一下离子源参数 l[<o t9P[  
如果没有，就改一下电子枪速率看看。 (2018-03-15 23:35)  ,Ww.W'#P  

dKevhm)R"  
既然是折射率差异，那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么；如果要变更速率，那折射率不也一样跟着变了，变量不就多了么。

.eCUvX`$  
机台不一样，折射率是有差异的，这个差异在镀膜厚是就明显

奔跑的小骏马:既然是折射率差异，那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么；如果要变更速率，那折射率不也一样跟着变了，变量不就多了么。 (2018-03-23 11:51)  ~`0=-Qkd  

uK[gI6M  
一般不建议改膜系，膜系不一致会带来更多问题。 l HZ4N{n  
而且随着设备使用，说不定折射率还会变的，你就不停改膜系？ o%h[o9i  
折射率则简单很多，找到影响折射率的因素这才是关键。 "&\]1A}Z-x  
o<g1;  
其实也不叫变更速率，水晶设置有一项叫TOOLING，这个TOOLING值改变一下就相当于改了速率。

现在膜系成熟了没有？？