[讨论]离子源加速电流是否越大越好 [复制链接]

现在使用的离子源存在两个问题： _ TiuY  
1、加速电流非常不稳定，突变比较大，数量在10mA以内波动；是否跟离子源工作状态的稳定性有关？ SIBtmm1W  
2、加速电流设置不知道多少数值为佳？ l3Xfc2~ 2  
有没有懂得，指点一二。 '))0Lh l  

是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~ J[l7di5  
v\c>b:AofD  
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓

10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 +9M^7/}H  
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 I@T8Iv=  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 F}F&T  
bp* ^z,w  
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 z6U\
axO6  
所以最大电流分布是最好的。但是电流大了电压高了， \K5DOM "#  
温度也就高了，膜系的应力会受影响。 vmU@^2JSJ  
可能会产生脱膜，变形等问题。

rexchou:是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06)  Z)e/!~""]  

D|lzGt  
加速电压是膜系参数设置的，电流好像可以通过界面设置，但是镀膜过程记录中这个加速电流一直在波动，外观做不好，我怀疑跟这个有关系。但是不能确定，所以问一下你们有没有做过这些验证。

ouyuu:10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 t![7uU.W  
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 UN7EF/!Zz  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 062,L~&E  
....... (2017-12-01 17:22)  'QG xd!4  

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Hkpx52  
膜层倒是没有受多大的影响，但是外观感觉不太稳定，会不会与加速电流波动有关啊？

外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ -1Jg?cPzk  
原因不一样的。

我以前有一个类似的情况：我是AR气瓶端接口处漏气，使MFC气流量不稳定，但beam电流是稳定的，镀出的膜色也不稳定。你那个情况beam不稳，折射率有偏差。

10mA的变化不算什么。如果设定是1000mA的话，也就1%左右。 \Fl+\?~D  
这点变化量比伞差还小，根本不可能引起折射率问题。 KgV3j]d  
:d3bt~b'  
漏气也不太可能造成气流不稳。 $J4 *U  
气流是MFC控制的，而漏点在MFC前面，漏不漏气MFC一样控制。 + r!1<AAE$  
真正的原因在气体纯度变化了，空气里大部分是氮气。 "rTQG6`  
你镀的氧化物材料变成了部分的氮化物材料。

ouyuu:外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ lJ+0P2@h*  
原因不一样的。 (2017-12-04 00:36)  9k9_mjLZ  

tS|9fBdCs  
外观就是点子，具体是灰尘还是啥，还真不好说，呈现出来的是密集型的小点子一样。

点子更可能是中和器引起的。 O_cbP59Y.  
中和器多维护，点子就会少很多。