大偏离度非球面检测畸变校正方法 e=XP4h
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在高数值孔径（NA）投影光刻物镜中，随着数值孔径的增加，非球面的偏离度越来越大。对这种大偏离度非球面进行亚纳米量级的检测，一直是光学检测的一大难题。本文首先对一偏离度超过500 μm的偶次高次非球面进行了计算全息图（Computer-Generated Hologram，CGH）设计，设计出了满足高精度面形检测和刻蚀加工要求的CGH。然后，针对此设计方案，定量分析了CGH的成像畸变及畸变对像差分析的影响。分析结果表明，不同径向位置的成像倍率偏差（畸变）最大达到了2.7∶1，并且由于畸变的存在，低阶像差衍生出了明显的高阶像差。最后，针对用CGH检测大偏离度非球面时出现的成像畸变，提出了采用光线追迹与最小二乘法相结合的成像畸变的校正方法，并通过实验验证了此方法的准确性。实验结果表明，畸变校正之后相对剩余残差小于0.2%，可以满足高精度非球面检测加工的要求。
