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    [分享]离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜 [复制链接]

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    离线200833
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2016-12-26
    摘要:采用离子束溅射制备了AlF3、GdF3单层膜及193 nm减反和高反膜系,分别使用分光光度计、原子力显微镜应力仪研究了薄膜光学特性、微观结构以及残余应力。在优选的沉积参数下制备出消光系数分别为1.1×10-4和3.0×10-4的低损耗AlF3和GdF3薄膜,对应的折射率分别为1.43和1.67,193 nm减反膜系的透过率为99.6%,剩余反射几乎为零,而高反膜系的反射率为99.2%,透过率为0.1%。应力测量结果表明,AlF3薄膜表现为张应力而GdF3薄膜具有压应力,与沉积条件相关的低生长应力是AlF3和GdF3薄膜残余应力较小的主要原因,采用这两种材料制备的减反及高反膜系应力均低于50 MPa。针对平面和曲率半径为240 mm的凸面元件,通过设计修正挡板,250 mm口径膜厚均匀性均优于97%。为亚纳米精度的平面元件镀制193 nm减反膜系,镀膜后RMS由0.177 nm变为0.219 nm。  ;iy]mPd  
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    附件: 离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜.rar (1363 K) 下载次数:15 ,售价:2光币[记录]
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    lilisrlhj 光币 +1 优秀资料,加分! 2018-06-26
    cyqdesign 光币 +5 - 2016-12-26
     
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    离线古书生
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    只看该作者 1楼 发表于: 2017-04-13
    这是我看到得比较有含量的帖子!