切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 3083阅读
    • 2回复

    [原创]采用重要性采样前后的效果比较 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线hurrying
    助理工程师
     
    发帖
    250
    光币
    629
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2016-06-05 , 来自群:TracePro软件运用群
    上传几张结果图，希望对大家重要性采样功能的理解有帮助 I)9 ,  
    0W_u"UY$c  
    有工作站的可自行跳过 h Fan$W$  
    c>T)Rc  
    <]_[o:nOP  
    Z N&9qw*  
    C[l5[DpH  
    32y 9rz  
    .81 ~ K[  
     
    回复
    举报
    分享到
    离线光杆司令
    高级工程师
    发帖
    895
    光币
    7451
    光券
    1
    只看该作者 1楼 发表于: 2016-06-06
    请问哪些是重要性采样前，哪些是后？
    回复
    举报
    离线hurrying
    助理工程师
    发帖
    250
    光币
    629
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 2016-06-06
    回 光杆司令 的帖子
    光杆司令:请问哪些是重要性采样前，哪些是后？ (2016-06-06 12:53)  BPVOBL@   
    Dt iM}=:  
    第一张是没有采用重点采样 \5Y<UJ Ki  
    第二张、第三张是采用了重点采样，只不过设置的不一样
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表