如下要求,基片为晶体, 3+5\xRq
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% vh8Kd' y
eb@Lh!
qXGLv4c`Q
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% neFno5d j
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iQC&d_#
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 'LLx$y.Ei[
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 2z# @:Q
配置的设备才能做出来,谢谢