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[分享]VirtualLab5.11版本功能介绍 [复制链接]

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离线xunjigd

助理工程师

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只看楼主倒序阅读楼主发表于: 2014-12-25

VirtualLab™5.11主要发展的是分步传播技术的改进。分步传播技术可以用来分析GRIN介质，光纤和波导。新版本允许用户观察折射率调制介质的内部场分布。VirtualLabTM5.11允许对光学元件进行绝对位置的设置。VirtualLabTM5.11目录里边添加了搜索引擎，允许用户搜索要使用的材料、介质、元件和光源等。

1、     位置/公差
    所有的光路元件可以被设置绝对位置，也就是相对实验室坐标系统（光源）的位置。

2、     光路流程图（LPD）
    子系统元件的孔径尺寸可以在子系统元件的3D视图中有相应显示。
    自动传播算子将记录选用的传播方法作分析时所花费的时间。
    分步传播技术将记录模拟过程。

3、     传播
    分步传播技术的精度控制能够让用户方便的进入到传播技术的数值参数设置当中，通过参数运行来查看配置的传播技术的数值收敛可以实现所有的精度参数的修正。
    分步传播技术需要对使用的介质折射率进行积分来分析该介质。积分可以通过梯形近似来构建，这种积分方法比直接数值计算来对折射率做积分要快的多。对于折射率与Z轴无关的介质，梯形积分不需要近似。
    分步传播技术在软件中是并行计算的。

4、     光源
    光源可以直接设置椭偏。琼斯矩阵可以设定椭偏的偏振角和偏心率。
    多模高斯光源在单色参数下可设定瑞利长度或发散角。
    在光源编辑对话框的光谱列表中加入了每个波长的序号。

5、     探测器
    对于探测器的尺寸和分辨率的“从……复制”工具（按键）现在也可以处理横向位置的此项选择。用户需要设定是否对横移进行复制。

6、     分析仪
    分步方法的内部场分析仪可以观察系统中的非均匀区域的内部场。
    可编程光栅分析仪可用来对2D光栅的严格分析结果做用户自定义的评价函数进行分析。

7、     参数运行
    转捩点列表界面的转捩点可在参数运行中变化。
    可编程元件的边框的高度、宽度和厚度在参数运行中变化。

8、     照明工具箱
    照明工具箱中用于严格的光栅计算结果查表的操作有了重大改进，这能够对严格的结果有一个更快速的求值评价，以及对大的查表往硬盘上存储的速度也会更快。

9、     编程
    在LightTrans.Programming.dll中用于计算界面坐标下的菲涅尔系数矩阵有了新的方法可用（此功能需升级）

10、设计
    IFTA设计中的日志可以被完全禁用，这能够根据设计配置来大大提升运算性能。

11、介质、材料和面型
    介质目录中添加了光纤介质，可设定光纤直径，涂覆层材料以及纤芯介质。几种内置算法可以使用这些参数来实现光纤介质的快速分析。

12、视图和数组
    添加了两种新的查表色彩，当然可用于轮廓图
    1D数组转换工具可以将包含子集的一维数组转换为二维数组。
    转捩点列表界面对话框允许输入/输出数组。这使得VirtualLab数据类型的使用更容易保持一致性。

13、操作
    LPD中的节点被约束在隐藏的网格上。
    为了用户更方便的使用目录，在目录视图中加入了搜索引擎可让用户按名字来搜索。
    对于主窗口的傅里叶变换，用户需要设定在傅里叶变换之前是否将球面相位因子采样或移除。
    可将一维场像二维场一样输出为bmp格式的，这能够方便我们做进一步处理。

14、目录
    在LightTrans定义的元件目录中加入了非球面SPATM透镜。
    在LightTrans定义的材料目录中加入了VITRON IG的玻璃。

15、计算器
    调制深度计算器可以计算一个明确的加工任务的调制深度，用户输入加工参数，VirtualLabTM通过TEA近似来计算相应的调制深度。
    矢量&坐标系统观测仪可根据VirtualLabTM定义的不同角度来观察坐标系统方向。这个工具可在计算器菜单中选择。