美国科学家发现光激发下单层二硫化钼导电能力下降
美国麻省理工学院和哈佛大学的研究人员发现,单层二硫化钼半导体在光激发下导电能力下降。利用这一新的光电导机制有望研制下一代激子设备。该发现发表在近日的《物理评论快报》上。 众所周知,电脑芯片及太阳能电池中使用的硅半导体在光的照射下,其导电能力增强。麻省理工学院和哈佛大学的研究人员发现,在强烈的激光脉冲照射下, 只有三个原子厚的单层二硫化钼的电导率会减少到最初电导率的三分之一。该研究小组利用光学激光脉冲形成该效应,并利用时滞太赫兹脉冲来检测材料的导电响应。 研究人员表示,这是半导体光电导的新机制,此前从未观察到。虽然曾报道某些半导体系统存在负光电导性,但大多是由于外在因素,如缺陷等,而目前的发现则是晶体的内在属性。 当光激发半导体时其导电率会增加,因为光吸收后,可形成松散的电子和空穴对,使电流通过材料比较容易。这种现象是设计和优化太阳能电池及数码相机等光电设备的基础。 |




