案例:LED和准分子激光的匀滑和整形

发布:piaodongdewo 2014-10-28 13:33 阅读:1595
案例:LED和准分子激光的匀滑和整形
功能
需要的工具箱
基本
光栅
衍射光学
照明
LC'F<MpM  
微光学元件的分析和设计
B3L4F"  
透镜阵列
U'3Fou}  
_p4}<pG  
zv%J=N$G  
}V^e7d  
J@bW^>g*6u  
蝇眼聚光镜
VJ1*|r,  
8gpBz'/,  
Hcl"T1N*  
.98.G4J>  
0^\/ERK  
衍射扩散器
 1KJZWZy  
( Yi=v'd  
:`<psvd  
F X 1C e  
 <qn,  
单元阵列    光栅单元阵列
i]M"Cu*  
-lp"#^ ;  
rsSue_Q  
rUFFF'm\*a  
i/: 5jI|  
            棱镜单元阵列
/oDpgOn  
QeK{MF  
97x%2.\:  
B "n`|;r5  
&l!$Sw-u;  
            反射镜单元阵列
D{svR-~T  
\L#QR  
<[8@5?&&  
pDhY%w#  
xK!DtRzsA  
DOE产生的光分布
rys<-i(  
高帽
.WO/=# O  
GXEcpc08  
f#mx:Q.7I  
}MjQP R  
1*#bfeoM  
平顶
Gx;xj0-"  
3*2I$e!Jt  
x.G"D(  
V@Kn24''  
r+TK5|ke  
焦线
\AJS,QD  
]F_r6*<  
%6Rp,M9=  
iRouLd  
kXCY))vnn  
二元二维强度分布
<hMtE/05B  
DOT=U _  
,M{Q}:$+4  
:r^klJ(m  
a G@nErdW  
任意二维强度分布
Y^X:vI  
)8bFGX7|  
z[Z2H5[  
T(&kXMaB  
A~XOK;sB  
点阵
C;%Y\S  
1h{>[ 'L  
>.n;mk  
kLq( !Gs  
EM=xd~H  
点线
?'Oj=k"c7  
{Wa~}1`Kl  
L2d:.&5  
6#O#T;f)  
S$\.4*_H\  
整形和匀滑
^pN 5NwC5  
单色LED
k=ts&9\  
7}A5u,.,ht  
d4% `e&K]'  
e& p_f<  
JxnuGkE0[#  
白光LED
-E}>h[;qZ  
NWb} OXK/  
xM%`K P.8X  
wy YtpW  
_/ct=  
准分子激光
</|)"OD9  
})KJ60B  
M5F(<,n;  
,%[LwmET  
) b/n)%6  
常见光束整形推荐使用的工具箱
Ri; =aZ5m  
推荐的工具箱
:Jjw"}SfK#  
FOc|*>aKP  
is9}ePC7Xu  
=l_rAj~I|  
wLY#dm  
优化
"Wo.8  
局部和全局参数优化
Y~:}l9Qs  
6g}^Q?cpV#  
\QliHm!  
7Pwg+|  
*}>Bkq9h  
使用参数运行的全局优化
PEfE'lGj  
|MR%{ZC^i  
>_-!zjO8u  
,.[.SU#V  
4 #aqz9k  
迭代傅里叶变换算法(IFTA
TH<fbd  
G4O,^ v;Q  
SOhSg]g  
T~s&)wD  
IY V-*/ |  
单元阵列设计算法
=x=1uXQv5  
"!xvpsy  
4pLQ"&>}80  
8n;kK?  
ok%EqO  
公差仿真
%I_&Ehu  
高度公差
==nYe { 2  
9!5b2!JL  
C5>{Q:.`e'  
m~##q}LZ  
{An8/"bv}  
掩膜蚀刻深度公差
&1*4%N@'  
`@4 2jG}*  
Sc%aJ1  
NR ;q`Xe-  
9cVn>Fb  
边缘圆滑模拟
uFGv%W  
N =x]A C,  
/ c +,  
;>inT7?3|  
^?E^']H)5u  
对准误差
-zPm{a  
g!p+rq_f  
c zZrP"  
<+<)xwOQ ]  
P=f<#l"v  
波长误差
dK:l&R  
:5r:I[FFy  
2dv|6p  
yonJd  
YnKFcEJrT  
远场和近场分布的变化
bs:C1j\&  
<FXQxM5"  
x%b]e a  
d 8xk&za  
UeMnc 5y  
由参数运行产生的实验系列
F(T=WR].o  
+i:  E  
{KW&wsI  
M /n[&  
V->.|[J  
加工数据的导出
B(S5+Y  
GDSII文件
k\4g|Lya  
Q'FX:[@x-S  
M \ :"~XW  
VFe-#"0ZO  
Xulh.: N}  
CIF文件
)v*v  
Wwn5LlJ^  
G/x3wR  
|usnY  
~0VwF  
位图文件
+W V@o'  
b|X>3(  
E&RoaY0  
I T*fjUY&  
5O;/ lX!u  
ASCII/.csv文件
Y}V)4j  
Ktg&G<%J0  
D6C -x  
9Q SUCN_  
nr 'YWW  
Point-Cloud文件
Mft0D j/  
*>}McvtTw  
&*V0(  
&%_y6}xIw  
Q1N,^71  
STL文件
LM'*OtpDG  
pl1EJ <  
Li?{e+g  
S>/I?(J  
(P]^8qc  
蚀刻掩膜的计算
Og&0Z)%  
n:}MULy;  
@&am!+z  
IkE'_F  
x|~D(zo  
自定义
EkfGw/WDw  
可编程元件
a$ +e8>  
K'{wncumQ  
iTKG,$G  
S`'uUvAA  
,M+h9_&0?  
可编程探测器
EmBfiuX  
KweHY,  
>mGGJvTx  
z- {"pI  
?j^?@%f0  
可编程光源
gZ79u  
Og%zf1)aZM  
n WO~v{h3J  
]0/~6f  
S+e-b'++?  
MATLAB可编程界面
'%JMnU  
&H p\("  
U_zpLpm^  
*$WiJ3'(m  
b`;b}ug  
C#可编程界面
Eb{4.17b  
i,U-H\p&  
!O%f)v?  
TF ([yZO'  
EC\rh](d 1  
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