案例:LED和准分子激光的匀滑和整形

发布:piaodongdewo 2014-10-28 13:33 阅读:1641
案例:LED和准分子激光的匀滑和整形
功能
需要的工具箱
基本
光栅
衍射光学
照明
bS*9eX=K  
微光学元件的分析和设计
!^y'G0  
透镜阵列
sPut@4[S  
vV%w#ULxE~  
SJ<nAX  
?Pa5skqR  
T5ol2  
蝇眼聚光镜
FbF P  
KcHW>IBxdv  
ct`89~"  
~x2azY2DP  
d;K,2  
衍射扩散器
b^0=X!bg  
T{Av[>M  
W_%Dg]l   
gkDB8,C<j  
XLB7 E  
单元阵列    光栅单元阵列
&4LrV+`$V  
{q:6;yzxl  
v81<K*w`P  
p~qdkA<  
5-*/wKjLz  
            棱镜单元阵列
+d<o2n4!  
+ps(9O/B>  
-GH>12YP  
q>t#5Z81  
0`:0m/fsU  
            反射镜单元阵列
T)MKhK9\Ab  
nPE{Gp) }  
fTMn  
nGq{+ G  
`#R[x7bA1  
DOE产生的光分布
) }(Po_  
高帽
6YNd;,it>p  
BKi@c\Wb  
9J*.'Y  
wZ0RI{)s'  
.r 4 *?>  
平顶
y2cYRHN[X}  
XU_gvz  
OQ&l/|{O0?  
JD9)Qelw^$  
qx|~H'UuBN  
焦线
\I (g70  
KSz;D+L \  
&sJ-&7YZ  
EV/DJ$C }  
<- L}N '  
二元二维强度分布
1R-WJph  
yw\Q>~$n[=  
BlnR{Y  
sFt"2TVr3  
W[/Txc0$  
任意二维强度分布
>P@g].Q-  
JV ydTvc  
)Vd^#p  
5X&Y~w,poU  
2{|Z?3FJ^  
点阵
5If.[j{  
?.Q$@Ih0  
w{mw?0  
>e^bq/'  
@CMEmgk~  
点线
^p)#;$6b  
z;DNl#|!L  
Wz%H?m:g#  
|P@N}P@  
,<k%'a!B  
整形和匀滑
C~Hhi-Xl)  
单色LED
H-\Ym}BGu  
PzOnS   
>$,P )cB'  
1_WP\@ O  
Qo32oT[DM  
白光LED
'Fy"|M;2  
CFC15/yU  
`*6|2  
ClG\Kpi rh  
R:4@a ':H  
准分子激光
60;_^v  
LTxP@pr  
%_."JT$v{  
OClG dFJ|  
hC[ =e`j  
常见光束整形推荐使用的工具箱
1w~PHH`~  
推荐的工具箱
4sRM" w;  
63'm @oZ  
Ge_fU'F  
HjIIhl?UY  
fLnwA|n=  
优化
rY 6x):sC  
局部和全局参数优化
R2v9gz;W  
p[w! SR%=  
 9u^M{6  
(<YBvpt4>  
EB| iW2'  
使用参数运行的全局优化
r4pX4 7H  
KCO.8=y3  
oUwo!n}  
3_<l`6^Ns/  
8t Q;N'  
迭代傅里叶变换算法(IFTA
SV@*[r  
(?m{G Q  
d7Vp^^}(  
C7ug\_,s  
udu<Nis4  
单元阵列设计算法
>ei~:z]R  
o2X95NiH  
c ef[T(>  
?h6|N%U'  
mFg$;F  
公差仿真
<4+P37^ ~  
高度公差
jB8Q% {%  
||JUP}eP  
L/ Q[N^ (^  
P&sWn?q Ol  
pd:7K'yaw  
掩膜蚀刻深度公差
XjF@kQeM=  
qmFG  
''YqxJ fb  
a;t}'GQGk  
Bhxs(NO  
边缘圆滑模拟
RI@\cJ\}  
]R_R`X?  
R|n  
=nHKTB>  
`p&[b]b  
对准误差
k?Z:=.YW  
V_:`K$  
l3sF/zkH  
7Y9#y{v1  
ao2^3e  
波长误差
uX*2Rs$s  
is4}s,]$6  
hE|P|0U,n  
sqrLys_S  
IplOXD  
远场和近场分布的变化
4p,:}h  
E +_n@t"  
S3\NB3@qC&  
sq!$+=1-X  
5Jbwl$mZ  
由参数运行产生的实验系列
>G:Q/3jh  
@ j^R+F  
x="Wqcnj{  
oT-gZedW(  
m<h%BDSzr{  
加工数据的导出
o/w3b 8  
GDSII文件
T&lgWOls  
ysz =Xw  
SXk.7bMV6  
uZC=]Ieh  
UJL2IF-x  
CIF文件
Ipk;Nq  
} :0_%=)N<  
f' ?/P~[  
CIx(SeEF  
,X.[37  
位图文件
8M99cx*K  
L}`/v]E"eU  
t(u2%R4<d  
@@AL@.*  
; ~pgF_  
ASCII/.csv文件
~[HzGm%  
<y@v v  
i>YS%&O?  
\rS*\g:i  
6kYluV+j  
Point-Cloud文件
3YHEH\60^  
$-}&RW9  
4!IuTPmr  
l~i?  
jE*{^+n  
STL文件
l =E86"m  
ev4[4T-( @  
k =5k)}i  
fpR|+`k  
=Hg!@5]H  
蚀刻掩膜的计算
P8eCaZg?(3  
 6:zPWJB  
j'D%eQI,V  
?9`j1[0  
A NhqS  
自定义
|V a:*3u  
可编程元件
Pk;\^DRC  
DpRMXo[  
kelBqJ-,p  
.KrLvic  
2:38CdkYp  
可编程探测器
@ap!3o8,9  
ui%#f1Iq  
w?ugZYwX*  
T#ls2UL*xh  
}9^:(ty2A  
可编程光源
cYA:k  
!D=!  
Nx 42k|8  
wW%b~JX  
vNSUrf,r  
MATLAB可编程界面
,X|Oe@/  
^B<-.(F  
GHsDZ(d3.  
cXq9k!I%  
r8EJ@pOF2w  
C#可编程界面
|5^ iqW  
1aAOT6h  
=t,oj6P~  
}b456J  
A%^?z.  
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