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发表于: 2014-08-15
附件是一些英特尔近年来让摩尔定律得以延续关键技术:三栅极3d晶体管技术和14nm光刻。同时献上三篇蔡司光刻
镜头
专利
,该专利和英特尔14nm技术的关联性极小,从搜集情报来看英特尔所采购的光刻
系统
很有可能应用
尼康
的光刻
物镜
。国内光刻
设备
和光刻
工艺
和国际水准有巨大落差。工艺方面台积电(TW)年内有可能实现18nm-16nm工艺!中芯国际有可能实现28nm工艺,由高通提供相关帮助。
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