2014年光学技术大会最新日程发布

'fGKRd|)  
2014年慕尼黑上海光博会同期活动 KK #E qJ  
地点：上海新国际博览中心大会官网 qbeUc5`1  
G"E_4YkJ  
亚洲领先光学会议PHOTONICS CONGRESS CHINA将与慕尼黑上海光博会再次同期举办！PHOTONICS CONGRESS CHINA议题丰富，主题包括激光加工、先进激光器、光学技术、红外线成像技术、激光安全、光束分析等最新研发成果和进展，全面覆盖多个激光和光电子领域。大会和慕尼黑上海光博会一起将科学、研发和产业应用紧密结合，赋予科研生产更多独特的实用价值。2013年光学技术大会共吸引了1,810 名听众蜂拥到与会聆听！ (AtyM?*  
t"YsIOT:O"  
一、    第九届国际激光加工技术研讨会(LPC 2014) Fz,jnV9=j  
[2Zy~`*y{  
会议时间：2014年3月18-20日 jq*`| m;Q  
会议地点：上海新国际博览中心E2-M17-18 =#[oi3k  
大会主题： hL6;n*S=  
?    先进激光光源与光电子元件 ;aWk-  
?    微纳米技术与超快激光精密加工 b^C27s  
?    增材制造与激光3D打印 Iq4B%xo6G  
?    新型控制技术和系统在激光加工中的应用 N'9T*&o+  
论文征集： 1w(3!Ps+  
科研论文：所有符合会议议题的学术报告、技术研究、科研成果，未在任何国内外期刊上发表过。此部分论文可在《应用激光》发表。经专家评审的优秀论文可选择将推荐至到国内EI收录核心期刊和美国《Journal of Laser Applications (JLA)》全文发表！ =WW5H\?  
工业应用类：所有符合会议议题的，在应用领域可得到技术应用的研究内容。请在线提交论文时对应以上分类进行提交。在接到审核通过通知后请提供完整论文。 p> >H$t  
d[p2?]  
?.%dQ0  
联系方式： -u'"l(n)~  
pKy4***I3  

9l&q}  
bI|G %  
二、    光学前沿—第九届全国激光技术与光电子学学术会议暨国际激光与光学技术论坛 kt)Et  
A2:}bb~H  
会议时间：2014年3月18-19日 HrvyI)4{  
会议地点：上海新国际博览中心E1 M16 （主会场）、E1-M12（分会场） )V2W:M  
会议文章出版：Chinese Optics Letters（增刊，EI收录）、《光学学报》（正刊或增刊，EI收录）、《中国激光》（正刊或增刊，EI收录）、《强激光与粒子束》（正刊，EI收录）、《光子学报》（正刊，EI收录）、《激光与光电子学进展》正刊（中文核心期刊，最快60天出版）、《光学与光电技术》正刊。 yT_W\"=8  
会议主题/征稿范围： =FhP$r*  
k%cE8c}R;A  
1. 激光器与激光应用技术 <JWU@A-.
y  
2. 激光生产与先进制造技术 15Mtlb  
3. 光学检测技术 (vZ-0Ep}  
4. 光学与光学制造技术 |*NZ^6`@  
b-VygLN  
=;uMrb4  
三、    展商论坛：光学测量和质量控制技术论坛 ,.QJS6Yv  
&=kv69v  
慕尼黑上海光博会期间的展商论坛：光学测量和质量控制技术论坛中,演讲企业将以其最新技术与产品为主题，结合演讲与展示，向参会嘉宾呈现其最新研究成果。展商论坛作为慕尼黑光博会-光学技术大会的一部分，将吸引众多光学企业及光学研究领域专业人士参加，为各企业向用户推广最新技术与产品提供了绝佳的展示平台！ F6[F~^9D  
会议时间：2014年3月19日 <z,)4z++  
会议地点：上海新国际博览中心，E1馆M11会议室 "Esl I  
会议主题： #Z2'Y[@.  
测量技术/系统在汽车行业的应用 Dc-K08c  
测量技术/系统在材料加工行业的应用 } jJKE  
精密加工领域的最新测量技术和产品 lEFd^@t  
质量控制中的新技术和新应用 %}9tU>?F#  
显微技术在质量控制中的应用 p lnH  
b+|Jw\k  
r3g^0|)  
hbx4[Pf  
四、    工业用激光器及系统使用安全培训班 `w:kY9  
>[;@ [4}  
时间：2014年3月19 JK =A=  
地点：上海新国际博览中心 E2-M20 /#Aw7F$Ey  
培训主题： Jh EC  
主题一：激光产品的危害及安全防护要求 bzNnEH`^]  
1. 工业用激光器的使用与安全防护 `;6M|5G  
1）光纤激光器 sq_>^z3T  
2）半导体激光器 n;Oe-+oSC  
3）CO2激光器 R xITMt  
2. 激光成套设备与系统的使用与安全防护 rS BI'op  
主题二：相关执行标准 _Rii19k  
1. 欧盟的相关指令和标准 \ =hg^j  
2. 中国国家相关标准 L K#A  
3. 国际标准要求 AhF@  
培训讲师： jum"T\  
顾波博士，美国BOS PHOTONICS公司总裁 ;\0|1Eem`  
刘兴胜，西安炬光科技有限公司董事长、首席技术官 Zmyq6.1q~  
卢飞星，国际电工委员会光辐射安全和激光设备技术委员会（IEC/TC76）技术专家 CqnHh@]nu  
唐霞辉，华中科技大学光电学院，教授、博导、激光加工国家工程研究中心副主任 U7g`R@  
utZI'5i  
9!n:hhJM  
!.j{vvQ/  
8?nn4]P  
五、    先进激光技术及其应用高级培训班 *LB-V%{|'  
cj2Smgw&>  
培训时间：2014年3月18日下午—20日上午 5<(* +mP`  
培训地点：上海新国际博览中心 E3-M21 b/UXO$_~-  
培训内容: $Lstq_x+  
?    光纤激光器核心技术及其发展趋势 t08U9`w  
?    半导体激光器技术与发展趋势 ExO#V9DaW  
?    两种激光器的应用、对比与未来市场分析 N9/k`ZGC  
?    3D打印与激光技术、3D打印现场演示 s1_Y~<yX  
>k"O3Pc@  
授课专家：楼祺洪，中科院上海光机所研究员 ~},H+A!?  
顾波博士，美国BOS PHOTONICS公司总裁 4xW~@meNB  
刘兴胜，中科院西安光机所研究员西安炬光科技有限公司董事长 Hi[lN7ma8  
_ooHB>sH  
6h/!,j0:t_  
六、    光电成像及测试技术高级培训班 D/=05E%[81  
-I5]#%eX^  
培训时间：2014年3月18日—19日 C,W@C  
培训地点：上海新国际博览中心E2-M14 }` 3-  
培训内容: PJB_"?NTTC  
1.概述 @-)S*+8  
2.光电探测器技术进展及主要特性参数 X{#^O/  
3.光电成像系统及检测技术基础 _(f@b1O~
 
4.光学系统的基本参数测试评价方法 Q+Nnj(AQY  
5.光电成像质量评价技术进展 TE&E f$h  
6. 红外成像系统的性能参数与测试技术 jW#dUKS(  
7. 相关实例分析 ^iEf"r  
授课专家：林家明，北京理工大学，教授 '~b  
 $Z&6  
i-0 :Fs  
R~oY R,L;  
七、    光机设计与光学测试高级培训班 AT t.}-  
Y_*KAr'{P  
培训时间：2014年3月19-20日 a'`i#U  
培训地点：上海新国际博览中心 E1-M13 /TbJCZ  
授课专家： 4Ty?>'*|  
朱健强研究员，博士生导师-----光机系统设计与光学加工 7Z
]?a  
Sylvia Tan理波光电振动控制产品营销经理-----光学平台设计实例分析及检验标准 \|X 1  
Rick Sebastian理波光电振动控制产品营销经理-----光学加工设计实例分析 AIl`>ac  
W\<OCD%X