杭州ZEMAX 高级成像+照明培训班报名即将结束
由南京光研软件系统有限公司11月在杭州举办的ZEMAX高级成像+照明培训班报名即将结束,还未报名者请抓紧时间! 开课时间:2013年11月25-30日 开课地点:杭州 报名截止日期:2013年11月19日 ●课程特色及内容 ZEMAX光学设计高级培训班 11月25 - 27日 ☆高级课程回顾并延伸了标准课程的设计思想,进一步加大了设计实例的深入研究,涵盖了更加复杂成像的设计和分析,包括如何根据需求设定不同的求解类型,如何选用局部和全局优化,利用Image Simulation功能进行实际像分析,同时介绍不同环境下的热分析,如何进行消热差分析。详细讲解了ZEMAX中的分析诊断工具,几种优化方法的技巧,各种求解方式的使用,玻璃替代优化等。 在衍射光学理论方面,课程向纵深发展,细致讨论了与衍射相关的物理光学设计(POP光束传播),高斯激光系统设计,小孔滤波设计,衍射二元面设计,双折射系统设计,衍射光学元件、单模与多模光纤耦合系统设计等。 其它设计实例包括:扫描系统F-Theta镜头设计,应用于传真机上的渐变折射率透镜设计,与环境结构相关的热分析,用户自定义面形设计,用户自定义膜层(分光,滤光等),完整序列与非序列系统结合设计。 |