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    [分享]光刻机照明系统设计 [复制链接]

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    离线hhxxgg00
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2013-04-02
    随着微电子产业的迅猛发展,我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为 193nm 的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至 32nm 节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向,对照明系统关键单元进行了光学设计仿真研究。 i6-&$<  
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    长光机博士论文 aYmN' POi  
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    这个时代,每个人都在大声说话,每个人都在争分夺秒。我们用最快的速度站上高度。但是也在瞬间失去态度。当喇叭声遮盖了引擎声,我们早已忘记,谦谦之道才是君子之道。你问我这个时代需要什么,在别人喧嚣的时候安静,在众人安静的时候发声。不喧哗,自有声。
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    离线xingyu4153
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    只看该作者 1楼 发表于: 2013-04-02
    长光机博士论文
    离线drymatini
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    只看该作者 2楼 发表于: 2013-04-02
    好资料!
    离线moth
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    只看该作者 3楼 发表于: 2013-04-02
    看看看················
    离线姜守望
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    只看该作者 4楼 发表于: 2013-04-02
    顶一下,……
    离线yu-xuegang
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    只看该作者 5楼 发表于: 2013-04-02
    顶一下,……
    离线tmdapple123
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    只看该作者 6楼 发表于: 2013-04-02
    光几所!哎
    离线maiwudi
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    只看该作者 7楼 发表于: 2013-04-02
    看看啦
    离线ciomp1312
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    只看该作者 8楼 发表于: 2013-04-04
    长光机博士论文
    离线光学行当
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    只看该作者 9楼 发表于: 2013-04-04
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