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    [分享]光刻机照明系统设计 [复制链接]

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    离线hhxxgg00
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2013-04-02
    随着微电子产业的迅猛发展,我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为 193nm 的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至 32nm 节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向,对照明系统关键单元进行了光学设计仿真研究。 C23p1%#1  
    D@O5Gd  
    CAJ文件 &8pGq./lr=  
    长光机博士论文 E+|K3EJ  
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    这个时代,每个人都在大声说话,每个人都在争分夺秒。我们用最快的速度站上高度。但是也在瞬间失去态度。当喇叭声遮盖了引擎声,我们早已忘记,谦谦之道才是君子之道。你问我这个时代需要什么,在别人喧嚣的时候安静,在众人安静的时候发声。不喧哗,自有声。
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    离线hyoshun
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    只看该作者 172楼 发表于: 04-03
    好资料
    离线dyyp
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    只看该作者 171楼 发表于: 2023-11-09
    感谢分享 ,(Ol]W}  
    离线yzhengpeng
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    只看该作者 170楼 发表于: 2023-08-11
    看看,学习一下看看
    离线byron77
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    只看该作者 169楼 发表于: 2023-08-10
    学习学习,知网学习花费太高,还是这里学习才方便
    离线wanyl1018
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    只看该作者 168楼 发表于: 2023-08-10
    想学习一下
    离线foxtstorm
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    只看该作者 167楼 发表于: 2023-07-27
    学习学习
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    只看该作者 166楼 发表于: 2023-07-24
    看一看
    离线胡甜甜
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    只看该作者 165楼 发表于: 2023-07-20
    谢谢分享
    离线胡甜甜
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    只看该作者 164楼 发表于: 2023-07-20
    看看撒