光致发光成像光谱仪

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世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！ nh|EZp]  
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。 Ty}R^cy{d  
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产品关键词：光致发光 成像光谱 光谱成像 荧光光谱仪 高光谱成像 显微高光谱成像 荧光高光谱成像仪 n8?KSQy$  
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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。 4I1K vN<A  
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。 Fi k@hu  
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技术指标 _6J<YQK  

KPg[-d   光谱范围*	<mn-=#)   400-1000nm
@d P~X   光谱分辨率	Qq>ElQ@   2nm
z.A4x#>-   空间分辨率	Lo5Jb6nm   次微米
l^BEFk;   显微镜	.^GFy    Olympus BX51
u-1@~Z   物镜	]t7ClT)n!   20X 50X or 100X
_dY:)%[]   相机*	PgqECd)f   带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
v6KL93   样品最大尺寸	}RH lYN   10cm X 10cm
f!^)! ~   X，Y轴行程	% M+s{ l   76mm X 52mm
w8U2y/:>   Z轴最小位移	tc5M$b3^2   1um
O<Jwaap   扫描速度	gnYnL8l`J   150ms
fyGCfM   波长精度	i~(#S8U4d   0.25nm
[gTQ-   激发光源*	M$gvq:}kt   355nm 532nm 780nm
'>"`)-   高光谱数据格式	^CO#QnB @   FITS HDF5
nO-d"S*   图像格式	$To4dJb   JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
z{@=_5;   软件	R<_mK33hd   PHySepcTM 分析和控制软件
[p2g_bI8yK   尺寸	![qRoYpbg8   76cm X 76cm X 76cm
'o7R/`4KR   重量	}#YIl@E   80Kg

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*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等