光致发光成像光谱仪

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世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！ {p)",)td  
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。 V_>\9m  
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产品关键词：光致发光 成像光谱 光谱成像 荧光光谱仪 高光谱成像 显微高光谱成像 荧光高光谱成像仪 ;>506jZ  
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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。 4FEk5D  
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。 kUq=5Y `D  
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技术指标 ICuF %  

#%`|~%`{:   光谱范围*	WzAb|&?   400-1000nm
cnSJ{T   光谱分辨率	lwHzj&/ ~   2nm
P#pn*L*"T   空间分辨率	5 elw~u   次微米
bnm P{Ps   显微镜	 gG uZ8:f   Olympus BX51
qgE 73.!`6   物镜	2uG0/7   20X 50X or 100X
?bPRxR   相机*	hD\rtW   带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
MJ7Y#<u   样品最大尺寸	WEFlV4/   10cm X 10cm
&Q+Ln,(&L   X，Y轴行程	Ae mDJ8Y   76mm X 52mm
:Nu^   Z轴最小位移	MA;1;uI,   1um
)u3 Zm   扫描速度	g1XZ5P} f   150ms
[OHxonU   波长精度	"vXxv'0\f   0.25nm
8S>&WR%jH]   激发光源*	'I_Qb$   355nm 532nm 780nm
I'PeN0T f   高光谱数据格式	z."a.>fPaO   FITS HDF5
/[O(ea$U   图像格式	.^N/peUq   JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
g$HwxA9Gp/   软件	P9=?zh6G.   PHySepcTM 分析和控制软件
HkQ*y$$   尺寸	UQ'\7OS   76cm X 76cm X 76cm
+lJG(Qd   重量	dA@'b5N{"   80Kg

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*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等