光致发光成像光谱仪

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世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！ X=QaTV  
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。 J]|Zh  
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产品关键词：光致发光 成像光谱 光谱成像 荧光光谱仪 高光谱成像 显微高光谱成像 荧光高光谱成像仪 -\ {.]KL  
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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。 6Z2a5zO8  
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。 b#ih=qE  
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技术指标 'Z^-(xG,+  

3zdm-5R.b   光谱范围*	z"[}Sk   400-1000nm
WS17DsWW   光谱分辨率	-u!{8S~wA   2nm
J['pBlEb\   空间分辨率	uvbXsO"z]]   次微米
/XfE6SBz   显微镜	Jat|n97$   Olympus BX51
'JA<q-Gn   物镜	{3s=U"\   20X 50X or 100X
=t,}I\_^c   相机*	zh{:zT)(1   带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
|}hV _   样品最大尺寸	6S`J7[   10cm X 10cm
;gE]*Y.Z.p   X，Y轴行程	|2ttdc.   76mm X 52mm
;: 2:f1_   Z轴最小位移	 ' ];|   1um
j,:vK   扫描速度	Pl2ZA)[g   150ms
m+Um^:\jX   波长精度	\%=GM J^[p   0.25nm
D' d^rT| H   激发光源*	3W<_J_[   355nm 532nm 780nm
I=vGS   高光谱数据格式	ONc-jU^   FITS HDF5
yu^n;gWH   图像格式	i.~*G8!DM   JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
cN]e{|   软件	m+3U[KKvG   PHySepcTM 分析和控制软件
BAy]&q|.   尺寸	gk-g!v&   76cm X 76cm X 76cm
&_1Ivaen6   重量	#KFpT__F   80Kg

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*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等