光致发光成像光谱仪

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世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！ N!K%aH~O  
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。 c[Fc
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产品关键词：光致发光 成像光谱 光谱成像 荧光光谱仪 高光谱成像 显微高光谱成像 荧光高光谱成像仪 X"{%,]sb G  
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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。 3:WqUb\QK  
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。 ['mpxtG  
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技术指标 gRY#pRT6d  

v}$Q   光谱范围*	GeR#B;{   400-1000nm
c]9gf\WW   光谱分辨率	|A3"Jc.2o   2nm
W>pe-   空间分辨率	J>_mDcPo   次微米
=!\Nh,\eQ   显微镜	+VUkV-kP   Olympus BX51
y[ dBmTY   物镜	^Hn}\5   20X 50X or 100X
,%9XG077   相机*	~wa4kS<>   带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
1ubu~6   样品最大尺寸	x$LCLP#$H   10cm X 10cm
KtQs uL%   X，Y轴行程	i<ES/U\   76mm X 52mm
:4{ `c.S   Z轴最小位移	HJl?@&l/   1um
[edF'7La   扫描速度	kORWj<   150ms
hY4#4A`I   波长精度	wiN0|h>,   0.25nm
p.W7>o,[w   激发光源*	|P5dv>tb F   355nm 532nm 780nm
\g34YY^L3   高光谱数据格式	I1]YT   FITS HDF5
1n`[D&?q   图像格式	o26Y}W   JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
85E$m'0O   软件	\n_7+[=E   PHySepcTM 分析和控制软件
L0![SE>   尺寸	\m7\}Nbz0/   76cm X 76cm X 76cm
&;$uU   重量	Nn_fhc>   80Kg

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*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等