光致发光成像光谱仪

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世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！ /Kb7#uq  
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。 Mvoi   
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产品关键词：光致发光 成像光谱 光谱成像 荧光光谱仪 高光谱成像 显微高光谱成像 荧光高光谱成像仪 k<ds7k1m  
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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。 Q/4g)(~J  
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。 AR'q2/cw  
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技术指标 |mV*HdqU  

0rY<CV;fZ   光谱范围*	{y=H49   400-1000nm
R{)Sv|+`   光谱分辨率	: :8UVLX   2nm
{c |nIwdB   空间分辨率	> taT;[Oa   次微米
_={*<E   显微镜	$6atr-Pb   Olympus BX51
2H fP$.   物镜	\^SL Zhe   20X 50X or 100X
Y>Q9?> }Q   相机*	ORlz1&hW   带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
3toY#!1Ch   样品最大尺寸	@5Q}o3.zA-   10cm X 10cm
iyrUY   X，Y轴行程	My'M~#kO,   76mm X 52mm
XLp tJ4~v   Z轴最小位移	\\ M2_mT   1um
)zI<C=])"   扫描速度	IJO`"da   150ms
bG67TWY)   波长精度	' ^gF   0.25nm
ULMG"."IH   激发光源*	|ap{+ xh   355nm 532nm 780nm
O:Bfbna   高光谱数据格式	zTrAk5E   FITS HDF5
pmB}a7   图像格式	,7SLc+   JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
"cRc~4%K   软件	_WtX8   PHySepcTM 分析和控制软件
4fw>(d(2   尺寸	)mxY]W+   76cm X 76cm X 76cm
/L'm@8   重量	RfDIwkpp   80Kg

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*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等