微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 7$^V_{ej  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 @]cpPW-b  
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目录 <,LeFy\zW  
译者序 K<V(h#(.@  
前言 [7$<sN<'  
第1章面浮雕衍射光学元件 z9VQsC'K  
1.1制造方法 3Hq0\Y"Y  
1.2周期和波长比 xvgIYc{  
1.3光栅形状 eNXpRvY  
1.4深度优化 1Ce:<.99B  
1.5错位失对准 f(9w FT  
1.6边缘圆形化 ~kYF/B2*  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 @w2}WX>  
1.8表面纹理结构 [T
NYPA>{  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 O*jNeYA  
1.10太阳电池的表面纹理结构 C@KYg/nYw  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Bw{W-&$o  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ^%\p; yhL  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 8y+Gvk:  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ~L?p/3m   
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 L*FnFRhU  
致谢 (L~3nN;rr  
参考文献 \Ud2]^D=  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 y_J{+  
2.1概述和回顾 Jq.26I=  
2.2基本的刻蚀处理技术 S:DB%V3  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Wqy8ZgSC  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 N["(ZSS   
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 =lV
frna  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 m@jOIt!<  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 lMP|$C  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 @ cv`}k  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 q.MM|;_u`  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 !lHsJ)t  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 9WBDSx_(Q  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 `5x,N%9{  
致谢 dLj
T^ 9  
参考文献 !WDdq_n*v  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 c5Offnq'1  
3.1概述 K5k,47"  
3.2相位掩模技术 B{
zIW'Ld  
3.3光学元件的设计和制造 Q>||HtF$A  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 D:){T>  
3.3.2相位掩模的设计 ~-.q<8  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 {9P<G]Z  
3.4轴对称元件的设计和制造 #
&DJ3(T  
3.5结论 wus]  
参考文献 `M\L6o  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 Ot v{#bB$  
4.1概述 =#1/<q)L  
4.2电子束光刻术 i++ F&r[  
4.2.1电子束光刻术发展史 8lbNw_U  
4.2.2电子束光刻系统 q^,^tw  
4.2.3电子束光刻技术 O:D`6U+0  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 bZa?h.IF  
4.3.1回顾 vn|X,1o  
4.3.2硅 f *)t<1f  
4.3.3砷化镓 'd/A+W  
4.3.4熔凝石英 >R.~'A/$F  
4.4光学器件加工实例 Kz'W |  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 rJZ-/]Xf!6  
4.4.2熔凝石英微偏振器 mA{gj[@:x  
4.4.3砷化镓双折射波片 u*H2kn[DU  
4.5结论 oq;}q  
致谢 zYH6+!VBH#  
参考文献 egKYlfe"  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 3):7mE(  
5.1概述 Y
Mz[je  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 KA.@q AEB  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 GVFD_;j'  
5.3.1纳米压印组件和工艺 HaLEQ73  
5.3.2纳米压印设备 1=#`&f5f&  
5.4商业化器件的应用 !74*APPHR  
5.4.1通信用近红外偏振器 ~*G I<n  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 V GM/ed5-  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） M}us^t*  
5.4.4高亮度发光二极管 #Etz}:%W  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 drF"kTD"7  
5.4.6多层集成光学元件 yp!Xwq#n  
5.4.7分子电子学存储器 "BEU%,w  
5.4.8光学和磁数据存储 arDY@o~  
5.5结论 A.y
"R)G  
致谢 l$PO!JRD  
参考文献 MQp1j:CK  
第6章平面光子晶体的设计和制造 }p."7(  
6.1概述 #16)7  
6.2光子晶体学基础知识 {"s9A&  
6.2.1晶体学术语 u;y1leG  
6.2.2晶格类型 TS@EE&Wq  
6.2.3计算方法 D*_ F@}=  
6.3原型平面光子晶体 vO <;Gnh~  
6.3.1电子束光刻工艺 -cJ(iz9!  
6.3.2普通硅刻蚀技术 Rm6<"SLV  
6.3.3时间复用刻蚀 XIf,#9  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 +Hv%m8'0|  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 vR#A7y @!  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ^oaG.)3  
6.4.2负折射 Z=n& fsE  
6.5未来应用前景 `[Kh[|  
参考文献 cLJ|VD7  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 \:^$ZBQr<n  
7.1对称性、拓扑性和PBG <9B43  
7.2金属光子晶体 (S1$g ~t;  
7.3金属结构的可加工性 i_f"?X;D  
7.4三维光子晶体的制造 )FE'#\  
7.5胶体模板法 )HR'FlxOd  
7.6微光刻工艺 <K|_M)/9  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 )p ,-TtV  
7.8膜层应力 B*K%&w10~  
7.9对准 oM QH-\(}  
7.10表面粗糙度 aU5t|S6  
7.11侧壁轮廓 nn5S7!  
7.12释放刻蚀 CuU"s)  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 hF!yp7l;  
7.14结论 0+M1,?+GfF  
致谢 NS<lmWx+  
参考文献