微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 .%)FK#s-  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 _K"|}bM  
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目录 f P'qUN  
译者序 :lj1[q:Y>
 
前言 zAT7^q^  
第1章面浮雕衍射光学元件 Q;r9>E!  
1.1制造方法 ny# ?^.1  
1.2周期和波长比 W4n;U-Hb  
1.3光栅形状 Bk,:a,
 
1.4深度优化 iSDE6  
1.5错位失对准 ]WlE9z7:8  
1.6边缘圆形化 ]D(!ua5|x`  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 XaT9`L<  
1.8表面纹理结构 4C@ .X[r  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 V1
y"  
1.10太阳电池的表面纹理结构 6*yt^[W  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 g<C_3ap/  
1.12成形金属基准层的制造工艺 =eG?O7z&  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 n^F:p*)Q%  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 &o{=  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 ;',hwo_LBf  
致谢 %`*`HU#X  
参考文献 6)<g%bH!
  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 \@G 7Kk*l  
2.1概述和回顾 &'%b1CbE  
2.2基本的刻蚀处理技术 kLc}a5;  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 OZ{YQ}t{^1  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 JjBG9Rp{  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 u!kC+0Y  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 kU uDA><1  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 /S4$qr cM  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 @9-/p^n1  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 poJ7q (  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 b4TZnO  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 9A|deETa-  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 'Xj9sAB  
致谢 yGGQ;!/  
参考文献 _H[LUl9  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 0 #*M'C#  
3.1概述 b.=bgRV2{x  
3.2相位掩模技术 :|j,x7&/{  
3.3光学元件的设计和制造 5R^e  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 &8kc0Z@y  
3.3.2相位掩模的设计 3&H#LGoV$  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 +Fn^@/?yC  
3.4轴对称元件的设计和制造 ryhme\%l;f  
3.5结论 Kob i!  
参考文献 kjCXP  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 |>w>}w`~  
4.1概述 05$;7xnf(  
4.2电子束光刻术 &x~&]  
4.2.1电子束光刻术发展史 +rT%C&ze  
4.2.2电子束光刻系统 RM^3Snd=V  
4.2.3电子束光刻技术 Z0o+&3a6  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 wUUDq?!k\  
4.3.1回顾 <5Ft3sd  
4.3.2硅 =+I~K'2  
4.3.3砷化镓 h8R3N?S3#  
4.3.4熔凝石英 3Z,J&d`[  
4.4光学器件加工实例 uJBs3X  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 !m7`E  
4.4.2熔凝石英微偏振器 d4y?2p ?3  
4.4.3砷化镓双折射波片 x2-i1#j`;  
4.5结论 n^} -k'l  
致谢 N?Wx-pK  
参考文献 j=raS  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 f
W/G_  
5.1概述 {VBn@^'s  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 RQaB_bg7  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 jO` b&]0  
5.3.1纳米压印组件和工艺 2Fi~GY_  
5.3.2纳米压印设备 (#|CL/&  
5.4商业化器件的应用 ^,P# <,D,  
5.4.1通信用近红外偏振器 uc.dtq!  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 CV9o,rL  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 2(SU# /,  
5.4.4高亮度发光二极管 M @|n"(P  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 z
%lu%  
5.4.6多层集成光学元件 Se0!-NUK0  
5.4.7分子电子学存储器 [C8lMEV~  
5.4.8光学和磁数据存储 #3b_#+,  
5.5结论 Z&f@)j  
致谢 :htz]  
参考文献 wiwAdYEQ\  
第6章平面光子晶体的设计和制造 @W4tnM,#  
6.1概述 5=;LHS*   
6.2光子晶体学基础知识 s} I8:ufT  
6.2.1晶体学术语 GJu[af  
6.2.2晶格类型 7H$I9e  
6.2.3计算方法 |4$.mb.  
6.3原型平面光子晶体 4tQ~Z6Jn;  
6.3.1电子束光刻工艺 IE)$.%q;)  
6.3.2普通硅刻蚀技术 -<g&U*/E  
6.3.3时间复用刻蚀 4AIo,{(  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 1Q5:Vo^B#  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 u[{j;l(  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 n@TK}?\UoR  
6.4.2负折射 e;|:
W A  
6.5未来应用前景 $#ve^.VHv  
参考文献 9<e%('@[  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 ~CtLSyB  
7.1对称性、拓扑性和PBG _u[2R=h  
7.2金属光子晶体 $ \yZ;Z:  
7.3金属结构的可加工性 u<g0oEs)  
7.4三维光子晶体的制造 t!=qt*  
7.5胶体模板法 p#\J
Kx  
7.6微光刻工艺 B4D#TlB  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 8vp*U  
7.8膜层应力 KT4h3D`,  
7.9对准 Bf21u9  
7.10表面粗糙度 1Bj
MVMH  
7.11侧壁轮廓 y[D8rFw  
7.12释放刻蚀 *]7$/%.D  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 Jbv[Ql#  
7.14结论 ?M/H{  
致谢 .jXD0~N8q  
参考文献