微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 e
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《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 2>!?EIE7  
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目录 @*rED6zH  
译者序 7yK1Q_XY>  
前言 SJdi*>  
第1章面浮雕衍射光学元件 c@1q8,  
1.1制造方法 #RA3 T[A  
1.2周期和波长比 /P3s.-sL  
1.3光栅形状 [M{EO)  
1.4深度优化 ?dcR!-3  
1.5错位失对准 9?_ybO~Oq  
1.6边缘圆形化 8K/o/  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 w(xRL#%  
1.8表面纹理结构 tSvklI  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 bG6<=^  
1.10太阳电池的表面纹理结构 IAJYD/Y&?  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 7berkU
0P  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ^sjL@.'m$N  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 +e6c4Tw/  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 /-W-MP=Wd  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 >.-$?2  
致谢 K9J"Q4pEC  
参考文献 5@{+V!o,  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 l6S6Y  
2.1概述和回顾
n_Ka+Y<  
2.2基本的刻蚀处理技术 .V\M/q\Tv  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 N3`W%ws`~  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 U8b1 sz  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 j_r7oARL  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 v8`)h<:W?  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 "n3i(sZ  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ;I+"MY7D  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 Sp]i~#q_'  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ;|Z;YK@20  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 l?/.uNw  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ,OQ!lI_`R  
致谢 ~',}]_'oR-  
参考文献 "k${5wk#Fl  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 !j3V'XU#Zn  
3.1概述 dLSnhZ  
3.2相位掩模技术 cc%O35o  
3.3光学元件的设计和制造 4P>tGO&*x  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 u%7a&1c  
3.3.2相位掩模的设计 28j=q-9Z  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 Bn"r;pqWiT  
3.4轴对称元件的设计和制造 WLAJqmC]  
3.5结论 9o7d3ir)  
参考文献 R
ro{A+[,X  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 J\%<.S>  
4.1概述 Dk'EKT-  
4.2电子束光刻术 0)8QOTeT  
4.2.1电子束光刻术发展史 |-zwl8E  
4.2.2电子束光刻系统 
G@)I  
4.2.3电子束光刻技术 4pF U`g=  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 @HfWA
FT  
4.3.1回顾 I~R<}volu  
4.3.2硅 LaZF=<w(  
4.3.3砷化镓 lK^Q#td:`  
4.3.4熔凝石英 .'SXRrn&:C  
4.4光学器件加工实例 ~?}/L'q!b  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ndm19M8Y|  
4.4.2熔凝石英微偏振器 fJCh  
4.4.3砷化镓双折射波片 wE75HE`gW  
4.5结论 dv0TJ 0%  
致谢 eh'mSf^=p  
参考文献 WRAW%?$  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 QD:0iD?  
5.1概述 8-5a*vV,>  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 TKc&yAK  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 f*~ 4Kv  
5.3.1纳米压印组件和工艺 k~Pm.@,3o  
5.3.2纳米压印设备 cLlfncI  
5.4商业化器件的应用 33kI#45s  
5.4.1通信用近红外偏振器 e![Q1!r  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 71tMX[x  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） ![5<\  
5.4.4高亮度发光二极管 wN)R !6  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 D,eJR(5I  
5.4.6多层集成光学元件 'w%N(Ntq  
5.4.7分子电子学存储器 ,l<-*yMD  
5.4.8光学和磁数据存储 &Jj> jCg  
5.5结论 U!a"r8u|8q  
致谢 G 7)D+],{Y  
参考文献 ~,e!t.339  
第6章平面光子晶体的设计和制造 >B~jPU  
6.1概述 >V(2Ke Y  
6.2光子晶体学基础知识 SEchF"KJQF  
6.2.1晶体学术语 ~+>M,LfK  
6.2.2晶格类型 LbR/it'}  
6.2.3计算方法 <J-OwO a-1  
6.3原型平面光子晶体 vP}K(' (  
6.3.1电子束光刻工艺  ioi  
6.3.2普通硅刻蚀技术 }WGi9\9T&  
6.3.3时间复用刻蚀 Q]xW}5 /  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 29ft!R>[  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 o33{tUp'  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 zFi+6I$  
6.4.2负折射 wHZ!t,g  
6.5未来应用前景 `A <
yDy  
参考文献 lO $M6l  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 )+t5G>yKK  
7.1对称性、拓扑性和PBG H[N&Wiq/|  
7.2金属光子晶体 )Qxv9:X  
7.3金属结构的可加工性 Y)u}+Yg  
7.4三维光子晶体的制造 ($(1KE  
7.5胶体模板法 Mty]LMK  
7.6微光刻工艺 %yw*!A1  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 nv$  
7.8膜层应力 ['km'5uZ^  
7.9对准 =cC]8Pz?  
7.10表面粗糙度 f!$J_dz  
7.11侧壁轮廓 9_>4~!x`  
7.12释放刻蚀 4}LF>_+=  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 bOz\-=au  
7.14结论 yL Q&
<\  
致谢 C-Fp)Zs{0  
参考文献