微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 ~Z5AImR|  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 suQTi'K1  
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目录 h2'6W)  
译者序 6 5zx<  
前言 %fF,Fnf2  
第1章面浮雕衍射光学元件 `LoRudf_`  
1.1制造方法 (RI)<zaK ;  
1.2周期和波长比 ,LwinjHA*  
1.3光栅形状 Osz=OO{  
1.4深度优化 "3VX9{'%@  
1.5错位失对准 M.Q HE2  
1.6边缘圆形化 oO;L l?~  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 d3znb@7  
1.8表面纹理结构 3P
kZXeH/  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 jvQ^Vh!mC  
1.10太阳电池的表面纹理结构 _Yo)m|RaB  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 g#i~^4-1  
1.12成形金属基准层的制造工艺 9gA@D%0  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀  B=*0  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 CE M4E  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 A o*IshVh  
致谢 [NE!  
参考文献 d_(>:|oh  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 rL\}>VC)  
2.1概述和回顾 @Nb/
n  
2.2基本的刻蚀处理技术 hRXnig{;3  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 J t.<Z&  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 7[=G;2<  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ZNH-0mk  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 %!iqJ)*~  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 !Fs$W  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 5@l5exuG*m  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 -Y+pLvG*  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ~ ?nn(Q-  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺  pF6u3]  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 `ZL^+h<b>M  
致谢 TNh&g.  
参考文献 Otu?J_d3  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 h];H]15&  
3.1概述 f~l pa7  
3.2相位掩模技术 .pZYPKMaE  
3.3光学元件的设计和制造 +8ib928E  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 _t,aPowX  
3.3.2相位掩模的设计
I wj[ ^  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 N'{Yhx u  
3.4轴对称元件的设计和制造 &p#PYs|H  
3.5结论 :C^{L
c  
参考文献 <`-sS]=d}  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 a9&[Qv5-/  
4.1概述 .]exY i  
4.2电子束光刻术 DCa[?|Y  
4.2.1电子束光刻术发展史 #<Y3*^~5d  
4.2.2电子束光刻系统 Ruq;:5u  
4.2.3电子束光刻技术 #:=c)[G8  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 5Kd"W,  
4.3.1回顾 @G]*]rkKb  
4.3.2硅 vy2<'V*y}  
4.3.3砷化镓 vg?(0Gasm*  
4.3.4熔凝石英 aVHID{Gf Z  
4.4光学器件加工实例 v2rzHzFU  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 FLJ&ZU=s  
4.4.2熔凝石英微偏振器 ^+%bh/2_W  
4.4.3砷化镓双折射波片 851BOkRal4  
4.5结论 A%EhRAy  
致谢 \$Ky AWrZi  
参考文献 X)(K|[  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 y)LX?d  
5.1概述 #/I+[|=[O  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 Q7pCF,;  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 Msvs98LvW  
5.3.1纳米压印组件和工艺 N (\n$bpTt  
5.3.2纳米压印设备 ga KZ4#  
5.4商业化器件的应用 w)K547!00  
5.4.1通信用近红外偏振器 .>,Y |  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 g#fn(A  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） D',7T=C   
5.4.4高亮度发光二极管 ~ecN4Oo4q;  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 KiMlbF.~V  
5.4.6多层集成光学元件 vS ( Y_6  
5.4.7分子电子学存储器 +(`D'5EB(  
5.4.8光学和磁数据存储 G \a`F'Oo  
5.5结论 HQF@@  
致谢 B.?F^m@zS  
参考文献 %qJg
tu"8  
第6章平面光子晶体的设计和制造 GLub5GrxR  
6.1概述 =MJRQV67  
6.2光子晶体学基础知识 AzzHpfv,  
6.2.1晶体学术语 DB|w&tygq  
6.2.2晶格类型 F@z%y'5 Z*  
6.2.3计算方法 *Q2 oc:6  
6.3原型平面光子晶体 Tw%1m  
6.3.1电子束光刻工艺 o=7e8l  
6.3.2普通硅刻蚀技术 Dg~m}La  
6.3.3时间复用刻蚀 w"D1mI!L 7  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Y]~-S
 
6.4基于色散特性的平面光子晶体 #v$wjqK5  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 3XUVUd~  
6.4.2负折射 ?t}s3P!Q3w  
6.5未来应用前景 <j  
参考文献 *>2FcoN;  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法
v 9G~i  
7.1对称性、拓扑性和PBG Y$,++wx  
7.2金属光子晶体 d/+s-g p  
7.3金属结构的可加工性 `o9:6X?RA  
7.4三维光子晶体的制造 T6?03cSE  
7.5胶体模板法 E>#@
H  
7.6微光刻工艺 IEM{?  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 1H%p|'FKA  
7.8膜层应力 S+Ia2O)BA  
7.9对准 '8R5Tl  
7.10表面粗糙度 c9@3=6S/  
7.11侧壁轮廓 39[ylR|\  
7.12释放刻蚀 fhdqes])  
7.13测量方法、测试工具和失效模式
{&Rz>JK  
7.14结论 A3HNMz  
致谢 E>E^t=;[  
参考文献