微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 cq3Z}Cp  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 PyK!Cyq  
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3p?nQ O)L  
目录 ]
%FP*YU4O  
译者序 f4F%\ "  
前言 $d4&H/u^  
第1章面浮雕衍射光学元件 F+ RE  
1.1制造方法 qK2jJ3)>  
1.2周期和波长比 ]l+<-  
1.3光栅形状 ._<, Eodv  
1.4深度优化 ~Cg7  
1.5错位失对准 Qnt9x,
1m_  
1.6边缘圆形化 Uq{$j5p8  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 :xbj&
l  
1.8表面纹理结构 |-S+x]9  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 :*DWL!a  
1.10太阳电池的表面纹理结构 lFSvHs5  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
_'X  
1.12成形金属基准层的制造工艺 b?lRada{I  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 EE`[J0 (  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 vW!O("\7K<  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 '|),?  
致谢 iVf7;M8O  
参考文献 f1elzANy  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 3hje  
2.1概述和回顾 /lPnf7  
2.2基本的刻蚀处理技术 so/0f1R?~  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 !
>=lah$&  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ~Z*7:bPN!^  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 nt-_)4Fm  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 qN9 ?$\  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 6K<o0=,jm2  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 oOAkwc%)b  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 =1(7T.t  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 F?6Q(mRl  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Q-#<{' (  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ;*9<lUvu  
致谢 J7aYi]vI  
参考文献 +Wy`X5v  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 #Ufb  
3.1概述 9^`cVjD5  
3.2相位掩模技术 {D :WXvI  
3.3光学元件的设计和制造 kdx06'4o  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 2Oyw#1tdn  
3.3.2相位掩模的设计 +RR6gAma}<  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 bb\XZ~)F  
3.4轴对称元件的设计和制造 ZU`~@.`i  
3.5结论 Bt5 P][<  
参考文献 e8oAGh"  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 ]@Z nP,8  
4.1概述 &)JoB  
4.2电子束光刻术 =h +SZXe<r  
4.2.1电子束光刻术发展史 m|x_++3  
4.2.2电子束光刻系统 0R`>F">  
4.2.3电子束光刻技术 ^,vFxN--q  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 A #m_w*  
4.3.1回顾  "^BA5  
4.3.2硅 >.9V`m|  
4.3.3砷化镓 R^sgafGl=  
4.3.4熔凝石英 9HiyN>(  
4.4光学器件加工实例 Ui9;rh$1eU  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 !7Qj8YmS  
4.4.2熔凝石英微偏振器 8g-Z~~0W1  
4.4.3砷化镓双折射波片 ,`!lZ| U  
4.5结论 JC~4B3!  
致谢 zSk`Ou8M  
参考文献 *B{
]  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 /YU8L  
5.1概述 NV?XZ[<*<  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 f8qDmk5s  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 9=/4}!.  
5.3.1纳米压印组件和工艺 v*.iNA;&i  
5.3.2纳米压印设备 .0gfP4{1{  
5.4商业化器件的应用 7bRfkKD  
5.4.1通信用近红外偏振器 kTT%< e  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 u*u
HdV5  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） n5BD0q  
5.4.4高亮度发光二极管 )+8r$ i  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 
V EsM  
5.4.6多层集成光学元件 B B'qbX3xK  
5.4.7分子电子学存储器 KLVYWZib  
5.4.8光学和磁数据存储 =ud~  
5.5结论 Q8QB{*4  
致谢 :sLg$OF  
参考文献 m-;8O /  
第6章平面光子晶体的设计和制造 ,O-_Pv  
6.1概述 >hq{:m  
6.2光子晶体学基础知识 u>agVB4\F  
6.2.1晶体学术语 ^-mWk?>  
6.2.2晶格类型 LikCIO  
6.2.3计算方法 _y>drvg  
6.3原型平面光子晶体 F$1{w"&  
6.3.1电子束光刻工艺 3vAP&i'I  
6.3.2普通硅刻蚀技术 5!$sQ@#}D  
6.3.3时间复用刻蚀 8
9{;R  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 u;1[_~  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 ! 9*l!(  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 be]/ROP>H  
6.4.2负折射 i[FY
R;C  
6.5未来应用前景 GE=S.P;  
参考文献 vkR~nIp  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 On!+7is'  
7.1对称性、拓扑性和PBG K^tc]ZQ  
7.2金属光子晶体 )^4Ljb1  
7.3金属结构的可加工性 "-MB 
U  
7.4三维光子晶体的制造 mJ5%+.V  
7.5胶体模板法 q(hBqU
W  
7.6微光刻工艺 eLXL5&}`fh  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 1
{d;Ngx  
7.8膜层应力 PvjZoF["  
7.9对准 w\N\J^5,Q  
7.10表面粗糙度 @]}/vsI m  
7.11侧壁轮廓 fz|_c*&64  
7.12释放刻蚀 $dK430_B  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 T3SFG]H  
7.14结论 GVn'p Wg  
致谢 #8M^;4N>[  
参考文献