微光学和纳米光学制造技术

发布:cyqdesign 2012-09-29 22:55 阅读:3148
《国际信息工程先进技术译丛:微光学纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 5IE#\FITO|  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 6^]+[q}3  
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目录 !fE`4<|?  
译者序 jeoz* Dz  
前言 ]d$8f  
第1章面浮雕衍射光学元件 &u$Q4  
1.1制造方法 j#!IuH\]  
1.2周期和波长 .*OdqLz  
1.3光栅形状 5_GYrR2  
1.4深度优化 =^M/{51j  
1.5错位失对准 XP!S$Q]D  
1.6边缘圆形化 0CnOL!3.I  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 , qMzWa  
1.8表面纹理结构 +}Dw3;W}m  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 YvaK0p0Z  
1.10太阳电池的表面纹理结构 R@1xt@?  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 <FV1Wz  
1.12成形金属基准层的制造工艺 .s?L^Z^  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 &* M!lxDN  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 T<n  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 u-QB.iQ+s  
致谢 ,0 M_ Bk"  
参考文献 6AAz  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 |3(' N#|  
2.1概述和回顾 Vh|*p&  
2.2基本的刻蚀处理技术 t% d Z-Ym  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 LBw1g<&  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 9 P l  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 W=~~5jFX  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 l!D}3jD  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 5'OrHk;u  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 c[0}AG J  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 Z@4Ar fl  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 Vr3Zu{&2  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 lU8l}Ndz"  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 .Y tKS  
致谢 )8a~L8oN  
参考文献 )3cAQ'w  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 \1k79c  
3.1概述 $o+j El>  
3.2相位掩模技术 <$D`Z-6  
3.3光学元件的设计和制造 L^1NY3=$  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 (d(CT;  
3.3.2相位掩模的设计 9)l$ aBa  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 hZ|z|!g0  
3.4轴对称元件的设计和制造 0CHH)Bku  
3.5结论 cn3#R.G~  
参考文献 "BM#4  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 /!0={G  
4.1概述 &h}#HS>l  
4.2电子束光刻术 |Tv#4st  
4.2.1电子束光刻术发展史 ld[I}88$  
4.2.2电子束光刻系统 y'3rNa]G1  
4.2.3电子束光刻技术 lov!o: dJ  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 #$.;'#u'so  
4.3.1回顾 %Tfbsyf%f  
4.3.2硅 J"0`%'*/  
4.3.3砷化镓 ?e%ZOI  
4.3.4熔凝石英 dn& s*  
4.4光学器件加工实例 6,pnw  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ,V7nzhA2  
4.4.2熔凝石英微偏振器 -M\<nx  
4.4.3砷化镓双折射波片 n*h)'8`Ut  
4.5结论 T6'^EZZY  
致谢 zrvF]|1UP  
参考文献 !hm]fh_j  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 N"Z{5A  
5.1概述 hqD*z6aH  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 @="Pn5<]C  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 ez7A4>/  
5.3.1纳米压印组件和工艺 |NlO7aQ>2H  
5.3.2纳米压印设备 :@yEQ#nFp  
5.4商业化器件的应用 \P[Y`LYL  
5.4.1通信用近红外偏振器 C2!|OQ9A2  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 Z*F3G#A  
5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD) )L? P}$+  
5.4.4高亮度发光二极管 G0Iw-vf  
5.4.5微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件 Usvl}{L[  
5.4.6多层集成光学元件 :'Vf g[Uq  
5.4.7分子电子学存储器 T9=I$@/  
5.4.8光学和磁数据存储 <NMEGit  
5.5结论 7P } W *  
致谢 'B |JAi?  
参考文献 ]U+ LJOb  
第6章平面光子晶体的设计和制造 _O?`@g?i  
6.1概述 GblA9F7  
6.2光子晶体学基础知识 "69s) ~  
6.2.1晶体学术语 J4hL_iCQ  
6.2.2晶格类型 O 2V  
6.2.3计算方法 !t"4!3  
6.3原型平面光子晶体 y RqL9t  
6.3.1电子束光刻工艺 #<fRE"v:Q  
6.3.2普通硅刻蚀技术 [NTzcSN.  
6.3.3时间复用刻蚀 @F AA2 d  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Xg6Jh``  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 4Z3su^XR  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 L;z?a Z7n  
6.4.2负折射 p T?}Kc  
6.5未来应用前景 g _9C*  
参考文献 AI2)g1m  
第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法 g&L!1<, p  
7.1对称性、拓扑性和PBG kdiM5l70  
7.2金属光子晶体  }FROB/  
7.3金属结构的可加工性 qZdQD  
7.4三维光子晶体的制造 #\{l"-  
7.5胶体模板法 AYBns]!  
7.6微光刻工艺 { l/U6](  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 )_90UwWpj  
7.8膜层应力 ~12EQacOT  
7.9对准 ^dWa;m]l  
7.10表面粗糙度 ]h`&&Bqt  
7.11侧壁轮廓 kt#fMd$  
7.12释放刻蚀 [>I<#_^~  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 M)Z7k/=<P  
7.14结论 >Er|Jxy  
致谢 ;?Tbnn Wn  
参考文献
关键词: 光学纳米制造
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