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    [书籍]微光学和纳米光学制造技术 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2012-09-29
    关键词: 光学纳米制造
    《国际信息工程先进技术译丛:微光学纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 kk %32(By  
    《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 8LbwEKl  
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    f<NR6],}  
    目录 B1V{3  
    译者序 1Y|a:){G  
    前言 3''S x8p  
    第1章面浮雕衍射光学元件 }5-w,m{8/  
    1.1制造方法 Ttt'X<9  
    1.2周期和波长 D7;9D*o\  
    1.3光栅形状 m[^lu1\wn  
    1.4深度优化 } o%^ Mu B  
    1.5错位失对准 X H-_tvB  
    1.6边缘圆形化 Ks-$:~?5":  
    1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 WwDM^}e  
    1.8表面纹理结构 r 3W3;L   
    1.9熔凝石英表面的纹理结构 1z? }'&:  
    1.10太阳电池的表面纹理结构 %GHGd'KO&  
    1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Q?#I{l)V(  
    1.12成形金属基准层的制造工艺 Dwp,d~z  
    1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 7l D-|yx  
    1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 w G%W{T$  
    1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 xG9Sk  
    致谢 i"WYcF |  
    参考文献 k, HC"?K  
    第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 {FNkPX  
    2.1概述和回顾 ']r8q %  
    2.2基本的刻蚀处理技术 0NXH449I=  
    2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 CMXF[X)%  
    2.4硅材料微光学结构的刻蚀 v1 .3gzR  
    2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ffZ~r%25{  
    2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 8]ZzO(=@{  
    2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Yc:%2KZ"  
    2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 SIe!=F[  
    2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 #c^V %  
    2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 Y;"k5 + q  
    2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺  c0oHE8@  
    2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 *doNPp)m  
    致谢 ={qcDgn~C  
    参考文献 c0qp-=^&.  
    第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 5(3O/C{?~  
    3.1概述 qt@L&v}~j  
    3.2相位掩模技术 P {TJ$  
    3.3光学元件的设计和制造  =<HDek  
    3.3.1光致抗蚀剂的性质 O>~,RI!  
    3.3.2相位掩模的设计 /yOx=V  
    3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 Lo%n{*if  
    3.4轴对称元件的设计和制造 F (*B1J2_g  
    3.5结论 \|]mClj#  
    参考文献 Nep4 J;  
    第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 6b2UPI7m~  
    4.1概述 k }=<51c  
    4.2电子束光刻术 x:|Y)Dn\  
    4.2.1电子束光刻术发展史  I//=C6  
    4.2.2电子束光刻系统 i"^>sk  
    4.2.3电子束光刻技术 z3o i(  
    4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 %6UF%dbYH`  
    4.3.1回顾 :xd;=;q5  
    4.3.2硅 y&/IJst&aq  
    4.3.3砷化镓 |#oS7oV(  
    4.3.4熔凝石英 )@PnpC%H  
    4.4光学器件加工实例 p4`1^}f&Ie  
    4.4.1熔凝石英自电光效应器件 LdPLC':}x|  
    4.4.2熔凝石英微偏振器 dftBD  
    4.4.3砷化镓双折射波片 Shm> r@C?  
    4.5结论 SmRlZ!%e  
    致谢 G t w>R  
    参考文献 uDf<D.+5Ze  
    第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ,X4e?$7g  
    5.1概述 <W4F`6`x  
    5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 d9N[f>  
    5.3纳米压印光刻术的相关概念 34@[ZKJ5  
    5.3.1纳米压印组件和工艺 hAGHb+:  
    5.3.2纳米压印设备 wPA^nZ^}9c  
    5.4商业化器件的应用 nhV"V`|d  
    5.4.1通信用近红外偏振器 Ei;tfB  
    5.4.2投影显示用可见光偏振器 y.rN(  
    5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD) IGlR,tw_/  
    5.4.4高亮度发光二极管 )!T~l(g  
    5.4.5微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件 O'y8q[2KE  
    5.4.6多层集成光学元件 18X@0e  
    5.4.7分子电子学存储器 v}B%:1P4  
    5.4.8光学和磁数据存储 k6G _c;V  
    5.5结论 FFHq':v  
    致谢 zLI0RI.Pe  
    参考文献 ;nY#/%f  
    第6章平面光子晶体的设计和制造 Sj9fq*  
    6.1概述 aeqz~z2~8s  
    6.2光子晶体学基础知识 "M I';6  
    6.2.1晶体学术语 S,Y|;p<+^  
    6.2.2晶格类型 jc^QWK*q  
    6.2.3计算方法 1b,a3w(:1  
    6.3原型平面光子晶体 3DU1c?M:  
    6.3.1电子束光刻工艺 7_0 p& 3  
    6.3.2普通硅刻蚀技术 VF]AH}H8I  
    6.3.3时间复用刻蚀 }X(&QZ7i`  
    6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Z;BS@e  
    6.4基于色散特性的平面光子晶体 +7Ws`qhEe  
    6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 )^2eC<t  
    6.4.2负折射 tFN >]`Z  
    6.5未来应用前景 n3^(y"q  
    参考文献 Z8$}Rpo  
    第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法 Q&9 yrx.  
    7.1对称性、拓扑性和PBG &C 9hT  
    7.2金属光子晶体 =ily=j"hK  
    7.3金属结构的可加工性 P4zo[R%4  
    7.4三维光子晶体的制造 oA1_W).wJ  
    7.5胶体模板法 s**<=M GK  
    7.6微光刻工艺 sD|l}f  
    7.7利用“模压”技术制造光子晶体 _)A|JC!jId  
    7.8膜层应力 $ Y/9SD  
    7.9对准 nl@an!z  
    7.10表面粗糙度 RObnu*  
    7.11侧壁轮廓 .@1+}0  
    7.12释放刻蚀 \kADh?phV  
    7.13测量方法、测试工具和失效模式 TpjiKM  
    7.14结论 Z6!Up1  
    致谢 Z!p\=M,%  
    参考文献
     
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