微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 Ep v3/`I  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 p ] $  
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目录 H)?" 8 s  
译者序 45!`g+)  
前言 {~B4F}ES  
第1章面浮雕衍射光学元件 %n V@'3EI  
1.1制造方法 .{Eg(1At  
1.2周期和波长比 BT*K,p  
1.3光栅形状 OFPd6,(E  
1.4深度优化 ><Mbea=U+  
1.5错位失对准 Eb{4.17b  
1.6边缘圆形化 6|(7G64{
 
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 >Y*iy  
1.8表面纹理结构 se*pkgWbz  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Wpg?%+Y  
1.10太阳电池的表面纹理结构 sN[@mAoH  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 4*ty&s=5OJ  
1.12成形金属基准层的制造工艺 w~
FO:/  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ,2:L{8_L  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 XTn{1[.O  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 ,_X,V!  
致谢 jy)9EU=  
参考文献 =tvm=  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 ^PCL^]W  
2.1概述和回顾 @_tA"E  
2.2基本的刻蚀处理技术
5kL#V  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 J4R  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 A_4\$NZ^  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 *rMN,B@  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 ^_#
gIT\  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 "~,(
Xa3x  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 \2LA%ZU  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 B#/~U`t*  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 w|U@jr*H]  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 a!6OE"?QQ  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 W3{5Do.h  
致谢 )8A=yrTIT  
参考文献 ^/RM;
`h0  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 !C)>  
3.1概述 rq|czQ  
3.2相位掩模技术 
]V[  
3.3光学元件的设计和制造 3T#3<gqM[  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 6T'43h. :  
3.3.2相位掩模的设计 I{P$
B-  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 uS+b* :  
3.4轴对称元件的设计和制造 E4fvYV_ra  
3.5结论 #| e5  
参考文献 t6U+a\-<  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 CI]U)@\U  
4.1概述 +Y%I0.?&5  
4.2电子束光刻术 f>JzG
,-  
4.2.1电子束光刻术发展史 w})&[d  
4.2.2电子束光刻系统 xN~<<PIZ  
4.2.3电子束光刻技术 [}g5Z=l  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
@X
/ =.  
4.3.1回顾 fJN9+l  
4.3.2硅 7Bb@9M?i  
4.3.3砷化镓 uZ{xt6 f  
4.3.4熔凝石英 |D_n4#X7u  
4.4光学器件加工实例 7!d<>_oH  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 KHC(MdZ  
4.4.2熔凝石英微偏振器 |r*1.V(  
4.4.3砷化镓双折射波片 hFF&(t2{^  
4.5结论 4xC6#:8  
致谢 gQzF C&g  
参考文献 zqEZ+|c=  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ^K@GK  
5.1概述 mgl' d  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 OaVL NA^{  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 X=RmCc$:  
5.3.1纳米压印组件和工艺 4w  
5.3.2纳米压印设备 _3?xIT  
5.4商业化器件的应用 W2V@\  
5.4.1通信用近红外偏振器 +/^q"/f F  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 TOP'Bmb  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） < 2r#vmM  
5.4.4高亮度发光二极管 2/W0y!qh1  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 2Uw}'J_N  
5.4.6多层集成光学元件 +hY
mL Sq  
5.4.7分子电子学存储器 "PM:&v  
5.4.8光学和磁数据存储 cF6@.)  
5.5结论 _!T$|,a  
致谢 O4+w2'.,  
参考文献  
rs KE  
第6章平面光子晶体的设计和制造 +.Ukzu~s  
6.1概述 _J#Hq 'K  
6.2光子晶体学基础知识 X>YOo~yS5  
6.2.1晶体学术语 206jeH9  
6.2.2晶格类型 '<jp.sZQ  
6.2.3计算方法 _25]>D$  
6.3原型平面光子晶体 trA `l/  
6.3.1电子束光刻工艺 tz>X'L  
6.3.2普通硅刻蚀技术 'Z%aBCM  
6.3.3时间复用刻蚀 gM:oP.  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 
y3$\ m  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 B#lj8I^|  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 =<tEc+!T3  
6.4.2负折射 O[J+dWyp  
6.5未来应用前景 ~w%+y  
参考文献 !,WRXE&j  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 X=}0+W  
7.1对称性、拓扑性和PBG B}bNl 7 ~  
7.2金属光子晶体 RB@gSHOc?  
7.3金属结构的可加工性 ~|jy$*m4A  
7.4三维光子晶体的制造 U*l>8  
7.5胶体模板法 DO*C]   
7.6微光刻工艺 LA3,e (e  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 0pG(+fN_9  
7.8膜层应力 7Et(p'  
7.9对准 /9gMcn9EB  
7.10表面粗糙度 jYx(  
7.11侧壁轮廓 %5w)}|fw  
7.12释放刻蚀 )W#g@V)>  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 LxGh *7K-  
7.14结论 UeTp,  
致谢 Y&%0 eI!  
参考文献