微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 / b_C9'S  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 ,wN>
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目录 y^#jM  
译者序 yk4Huq&2  
前言 pFLR!/J
  
第1章面浮雕衍射光学元件 1Y"[Qs]"mU  
1.1制造方法 ^gwVh~j  
1.2周期和波长比 aD aQ7i  
1.3光栅形状 p#9.lFSX  
1.4深度优化 Lzzf`jN]  
1.5错位失对准 5JE8/CbH  
1.6边缘圆形化 {CM%QMM  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 >bia FK>t  
1.8表面纹理结构 J 00%,Ju_  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 =rV*iLy  
1.10太阳电池的表面纹理结构 xr uQ=Q  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 W_NQi  
1.12成形金属基准层的制造工艺 d~](S<k  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 A#gmKS<J/7  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 IS`1}i$1%  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 !\Y85o>JU  
致谢 $= '_$wG 8  
参考文献 85rXm*Df
 
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 &D "$N"  
2.1概述和回顾 Vx5ioA]{  
2.2基本的刻蚀处理技术 #{
)=%5=c  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 X6jW mo8]  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 zPp?D_t  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 - Dm/7Sxd`  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 nYJ)M AG@  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 ^uzJu(  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 #?)g?u%g=  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 >=|Dir  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 G992{B  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 \IL/?J 5d  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 xEN""*Q  
致谢 1$Rua  
参考文献
X/  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ^2L\Y2  
3.1概述 d'~ kf#  
3.2相位掩模技术 v\>!J?  
3.3光学元件的设计和制造 5;wA7@  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 +H5=zf2  
3.3.2相位掩模的设计 1b:3'E.#w  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 V @A+d[  
3.4轴对称元件的设计和制造 q@K;u[zF
K  
3.5结论 8<UD#i@:C  
参考文献 vtyk\e)  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 `y5?lS*  
4.1概述 z1t YD  
4.2电子束光刻术 tMxa:h;/x  
4.2.1电子束光刻术发展史 uGIA4CUm  
4.2.2电子束光刻系统 )UA$."~O  
4.2.3电子束光刻技术 lP*_dt9  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 [5 Mt,skC:  
4.3.1回顾
j(4BMk  
4.3.2硅 }J27Y;Zp9  
4.3.3砷化镓 BsV2Q`(gT  
4.3.4熔凝石英 }eUeADbC  
4.4光学器件加工实例 iHoQNog-!  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 S(kj"t*3  
4.4.2熔凝石英微偏振器 _-aQ.p ?T  
4.4.3砷化镓双折射波片 5)fEs.r0U  
4.5结论 QeP8Vl&e:  
致谢 RIBj9kd  
参考文献 DIR_W-z  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 M{gtu'.  
5.1概述 /QDlm>FM4  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 KI
~BjP\e  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 T =r7FU  
5.3.1纳米压印组件和工艺 %
a%x`S3  
5.3.2纳米压印设备 UxI0Of&:  
5.4商业化器件的应用 fZU#%b6G  
5.4.1通信用近红外偏振器 l:v:f@M&
 
5.4.2投影显示用可见光偏振器 bF:]MB^VK  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） nQ4s  
5.4.4高亮度发光二极管 r|t;#  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Ws'OJ1  
5.4.6多层集成光学元件 9U1cH qV  
5.4.7分子电子学存储器 MxMrLiqU6l  
5.4.8光学和磁数据存储 >vE1,JD)w  
5.5结论 eekp&H$'s  
致谢 X]6Hgz66  
参考文献 \DsP'-t  
第6章平面光子晶体的设计和制造 :A%|'HxH3  
6.1概述 ,c#IxB/0  
6.2光子晶体学基础知识 $Lpt2:.((  
6.2.1晶体学术语 k$`~,LJp  
6.2.2晶格类型 L'k)  
6.2.3计算方法 (=:9pbP  
6.3原型平面光子晶体 =Q985)Y&  
6.3.1电子束光刻工艺 &|('z\k  
6.3.2普通硅刻蚀技术 90OSe{  
6.3.3时间复用刻蚀 9-)D"ZhLe  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
[gm[mwZ  
6.4基于色散特性的平面光子晶体
AF5.)Y@.  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导  9?c0cwP?  
6.4.2负折射 m89-rR:Kc  
6.5未来应用前景 Xq`|'6]/  
参考文献 vZj:\geV  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 ud]O'@G<  
7.1对称性、拓扑性和PBG nG<_&h  
7.2金属光子晶体 C?6wIdp  
7.3金属结构的可加工性 S]3K5Z|  
7.4三维光子晶体的制造 *nUD6(@g  
7.5胶体模板法 le%&r  
7.6微光刻工艺  QDCu  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 c@d[HstBJ  
7.8膜层应力 df_hmkyj  
7.9对准 UH=pQm^W  
7.10表面粗糙度 g?,\bmHE  
7.11侧壁轮廓 oNHbQ&h  
7.12释放刻蚀 4/Ub%t-
 
7.13测量方法、测试工具和失效模式 =0,:w(Sb!  
7.14结论 ]?!#*<t r  
致谢 9PXG*r|D  
参考文献