微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 O hR1Jaed  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 (w2= 2$  
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目录 `!w^0kZ  
译者序 Eo{EKI1  
前言 4^!4eyQ^  
第1章面浮雕衍射光学元件 K
v+Bfh  
1.1制造方法 !g0cC.'  
1.2周期和波长比 vg8O] YF  
1.3光栅形状 LBX%HGH  
1.4深度优化 KC&`x|  
1.5错位失对准 ->yeJTsE9  
1.6边缘圆形化 (buw^ ,NwZ  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ;WI]vn  
1.8表面纹理结构 mPmB6q%)]  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 +*t|yKO>[  
1.10太阳电池的表面纹理结构 e!o(g&wBj  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 $+:(f{Va*  
1.12成形金属基准层的制造工艺 M<qudi  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 4S *,\q]q  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ^&:'NR  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 M g!ra"  
致谢 } 21j  
参考文献 |ft:|/^F&  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 o1YU_k<#  
2.1概述和回顾 U4_"aT>My  
2.2基本的刻蚀处理技术 _IYY08&(r  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 ~+m,im8}  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀  |R'i:=  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 J#7(]!;F  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 vbn>mg5  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 b]`^KTYK  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 dp^N_9$cdO  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 XZ:1!;  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 KF{a$d  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 w<d*#$[,*  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 98<zCSe\]  
致谢 RW
ahsJTu  
参考文献 ${e&A^h  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 b|E/LKa  
3.1概述 0QR.   
3.2相位掩模技术 ;?8Iys#  
3.3光学元件的设计和制造 Ve14rn  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 $j !8?
 
3.3.2相位掩模的设计 4!2SS  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 KF$%q((  
3.4轴对称元件的设计和制造 ~_}4jnC  
3.5结论 FT_k
^CC  
参考文献 ]hUKuef  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 )@c3##Zp)  
4.1概述 .cw=*<zeg  
4.2电子束光刻术 B&nw#saz.  
4.2.1电子束光刻术发展史 qP`?M\!O  
4.2.2电子束光刻系统 $SF3odpt  
4.2.3电子束光刻技术 4sd-zl$Of  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 dP3VJ3+ %  
4.3.1回顾 s=\7)n=,M  
4.3.2硅 R1 qMg
+  
4.3.3砷化镓 -wIM0YJ  
4.3.4熔凝石英 &z0iLa4q)  
4.4光学器件加工实例 Nz @8  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ;8EjjF [>  
4.4.2熔凝石英微偏振器 *(VbPp_H_  
4.4.3砷化镓双折射波片 h*l4Y!
7  
4.5结论 A[RN-R,  
致谢 ct.Bg)E  
参考文献 | /#'S&!U  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用  /Ef4EX0  
5.1概述 D`fc7m  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 \#_@qHAG  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 q"p#H8  
5.3.1纳米压印组件和工艺 )x9]xqoR  
5.3.2纳米压印设备 C[W5d~
@;E  
5.4商业化器件的应用 ;y,NC2Xj  
5.4.1通信用近红外偏振器 :28@J?jjO  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 UR\ZN@O  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Qq>ElQ@  
5.4.4高亮度发光二极管 Obg@YIwn  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 K5+!(5V~  
5.4.6多层集成光学元件 SZI7M"gf/+  
5.4.7分子电子学存储器 ?P
YNE  
5.4.8光学和磁数据存储 2:n|x5\H  
5.5结论 ;HT0w_,  
致谢 o[2Y;kP3*P  
参考文献 ],$6&Cm  
第6章平面光子晶体的设计和制造 x:vrK#8D>  
6.1概述 (S3jZ  
6.2光子晶体学基础知识 mf#fA2[  
6.2.1晶体学术语 #VQ36pCd  
6.2.2晶格类型 4KZSL:A  
6.2.3计算方法 SUSc  
6.3原型平面光子晶体 tc5M$b3^2  
6.3.1电子束光刻工艺 7ia"
u+Y  
6.3.2普通硅刻蚀技术 4g S[D  
6.3.3时间复用刻蚀 NywB3  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 U=M#41J  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 lt
P
  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ~S!L!qY  
6.4.2负折射 -wBnwn-  
6.5未来应用前景 V_{vZ/0e  
参考文献 ^v#+PyW  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 a{5H33JA  
7.1对称性、拓扑性和PBG AK%=DVkM  
7.2金属光子晶体 -Zttj/K  
7.3金属结构的可加工性 A"`L~|&  
7.4三维光子晶体的制造 O5c_\yv=  
7.5胶体模板法 6_pDe  
7.6微光刻工艺 Xk 5oybDI  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 KhLg*EL  
7.8膜层应力 K@y-)I2]  
7.9对准 !Jh*a *I}  
7.10表面粗糙度 5ZZd.9ZgM  
7.11侧壁轮廓
g2!0vB>  
7.12释放刻蚀 NEZH<#  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 32TP Mk  
7.14结论 Cl%V^xTb  
致谢 `6dy U_f  
参考文献