微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 je1f\N45  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 0[@9f1Nk4  
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目录 Fx2z lM&  
译者序 &o$E1;og  
前言 'awL!P--  
第1章面浮雕衍射光学元件 /gZrnd?  
1.1制造方法 Q6Z%T.1  
1.2周期和波长比 )=TD}Xb  
1.3光栅形状 @BWroNg{  
1.4深度优化 A2VN%dB  
1.5错位失对准 ^D8YF  
1.6边缘圆形化 v]|^.x:  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 :nYl]Rm  
1.8表面纹理结构
6Clxe Lk  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Mi&,64<  
1.10太阳电池的表面纹理结构 1TbY,3W  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 WJBi#(SY  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ALS\}_8  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ucQ2/B#'4l  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 8MgoAX,p  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 hM^#X,7  
致谢 &/*XA  
参考文献 ]YQ[ )  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 ''S*B|:  
2.1概述和回顾 J >Zd0Dn  
2.2基本的刻蚀处理技术 @K/}Ob4   
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Tct8NG  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ~Emeo&X  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 Reca5r1O  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 j(mbUB*  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 #y13(u,dN  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 Q':xi;?Kt  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 5qtZ`1Hq  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 tj

c3;9  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 %7 h_D  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 mDz{8N9<FG  
致谢 8#NtZ  
参考文献 p@]\N  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术

b=v  
3.1概述 z/u;afB9q  
3.2相位掩模技术 cmF&1o3_  
3.3光学元件的设计和制造 $A\fm`  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 1P(rgn:8e  
3.3.2相位掩模的设计 6KPM4#61o  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 =jIB5".  
3.4轴对称元件的设计和制造 7?<.L  
3.5结论 ^T`)ltI]V  
参考文献 s7=CH  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 _]8FCO  
4.1概述 .w3.zZ0[  
4.2电子束光刻术 d;O16xcM/  
4.2.1电子束光刻术发展史 DJ;il)^  
4.2.2电子束光刻系统 @~%R%Vu  
4.2.3电子束光刻技术 aOHf#!/"sb  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 'PRsZ`x.  
4.3.1回顾 (@*[^@ipV  
4.3.2硅 >2l1t}"\  
4.3.3砷化镓 }eh<F^  
4.3.4熔凝石英 P F#+G;q;  
4.4光学器件加工实例 n{JBC%^g  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 }}y$T(:l  
4.4.2熔凝石英微偏振器 NNSHA'F,.\  
4.4.3砷化镓双折射波片 j\& `  
4.5结论 ||3%REliC  
致谢 )8]O|Z-CU  
参考文献 f*KNt_|:  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 K|nh`r   
5.1概述 Yl%1e|WV  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 `s93P^%  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 0zfh:O  
5.3.1纳米压印组件和工艺 -Yx'qz@  
5.3.2纳米压印设备 8&?Kg>M  
5.4商业化器件的应用 N>##}i  
5.4.1通信用近红外偏振器 ZGgKCCt  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 9x@( K|  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 0nUcUdIf+  
5.4.4高亮度发光二极管 l&l&
eOE  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 rOd<nP^`\  
5.4.6多层集成光学元件 P34UD:  
5.4.7分子电子学存储器 4ti\;55{W  
5.4.8光学和磁数据存储 (os}s8cIh  
5.5结论 Bfe#,  
致谢 3lzjY.]Pgv  
参考文献 I3`WY-uv  
第6章平面光子晶体的设计和制造 As0E'n85  
6.1概述 $SAq/VHI1]  
6.2光子晶体学基础知识 9IJBK  
6.2.1晶体学术语 <[mT*   
6.2.2晶格类型 \d$fi*{  
6.2.3计算方法 2F9Gx;}t5=  
6.3原型平面光子晶体 -|;{/ s5  
6.3.1电子束光刻工艺 ?WPuTPw{
 
6.3.2普通硅刻蚀技术 IcmTF #{D  
6.3.3时间复用刻蚀 ;NNYJqWd^]  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 x=>B 6o-f  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 "TW%-67  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 &Omo\Oq&W>  
6.4.2负折射 3cfJ(%'X  
6.5未来应用前景 PyQt8Qlz  
参考文献 vN#?>aL  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 MLwh&I9)  
7.1对称性、拓扑性和PBG K|Jp
kEw  
7.2金属光子晶体 ]@E_Hx{
S  
7.3金属结构的可加工性 8R?X$=$]!.  
7.4三维光子晶体的制造 )e&U'Fx  
7.5胶体模板法 &V/n!|q<H  
7.6微光刻工艺 v2=Iqo  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 =rSJ6'2("  
7.8膜层应力 \Ps}1)wT  
7.9对准 32h}+fd  
7.10表面粗糙度 *IBT!@*Q&  
7.11侧壁轮廓 ,:6gp3  
7.12释放刻蚀 #dyz  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 7A:k  
7.14结论 7#/->Y  
致谢 c;siMWw;  
参考文献