微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 d0@&2hO  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 {8'f>YP  
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j. @CB`  
目录 0E6>PE;  
译者序 v)^8e0vx  
前言 -tQi~Y[]  
第1章面浮雕衍射光学元件 [,s{/32s  
1.1制造方法 ~1_v;LhH5+  
1.2周期和波长比 MLu@|Xgh  
1.3光栅形状 nnv&~
C  
1.4深度优化 AW;ncx;  
1.5错位失对准 mz|#K7:  
1.6边缘圆形化 +3;`4bW  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 1MntTIT  
1.8表面纹理结构 :A~6Gk92A  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 s)gUvS\  
1.10太阳电池的表面纹理结构 2J>v4EWC  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 ~9[^abz  
1.12成形金属基准层的制造工艺 1 P0)La#  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 91|0{
1  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 #@quuiYq  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 B)5QI  
致谢 vz\^Aa #fv  
参考文献 hd~3I4D  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 5,i0QT"  
2.1概述和回顾 kYwV
0xQ  
2.2基本的刻蚀处理技术 vpnOc2 -  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 1FkS$ j8:  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ~
d9R:t1  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 <Mt>v2a3Y  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 K!L0|WH%!  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 | Ns-l (l  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 5{`a\;*  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 :1O49g3R  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 `$fKS24u  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 PP]Z~ne0X  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 X:0-FCT;\  
致谢 ?}mbp4+j[  
参考文献 ,V>7eQt?  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 HVG:q#=C  
3.1概述 2@W'q=+0  
3.2相位掩模技术 P+9%(S)L3  
3.3光学元件的设计和制造 @4ccZ&`  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 
h'wI  
3.3.2相位掩模的设计 v`G[6Z  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 i_[nW  
3.4轴对称元件的设计和制造 dTATJ)NH  
3.5结论 Xb/W[rcs  
参考文献 vrGx<0$  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 -45xa$vv  
4.1概述 n'i~1pM,?  
4.2电子束光刻术 54^2=bp  
4.2.1电子束光刻术发展史 :!c
NkJa  
4.2.2电子束光刻系统 {&I3qk2(  
4.2.3电子束光刻技术 ?'jRUfl   
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Xy[*)<  
4.3.1回顾 [f8mh88r  
4.3.2硅 3-%F)@n  
4.3.3砷化镓 Qf$3!O}G  
4.3.4熔凝石英 +~ZFao qf  
4.4光学器件加工实例 -9X#+-  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 zCuN8  
4.4.2熔凝石英微偏振器 5nQxVwY  
4.4.3砷化镓双折射波片 #P^cR_|\  
4.5结论 FN>ns,  
致谢 2B!Bogs  
参考文献 W "}Cfv  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 LQr+)wI  
5.1概述 +{7/+Zz  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 @D3|Ak1  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 asLvJ{d8s  
5.3.1纳米压印组件和工艺 Y/Dah*  
5.3.2纳米压印设备 aj\ zc I  
5.4商业化器件的应用 ?T (@<T  
5.4.1通信用近红外偏振器 U~nW>WJ+.  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 `#Yv(a2TY  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） k2@|fe  
5.4.4高亮度发光二极管 :'+- %xUM  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 =0" Zse,  
5.4.6多层集成光学元件 \-2O&v'}  
5.4.7分子电子学存储器 1P '_EJ]M  
5.4.8光学和磁数据存储 9Z_!}eY2mc  
5.5结论 =eB^(!M  
致谢 \-F F[:|J  
参考文献 ]y52%RAKI  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Xb'UsQ  
6.1概述 V39`J*fI  
6.2光子晶体学基础知识 6.0/asN}  
6.2.1晶体学术语 A2xfNY<  
6.2.2晶格类型 >oOZDuj  
6.2.3计算方法 y wf@G; fK  
6.3原型平面光子晶体 iAd3w6  
6.3.1电子束光刻工艺 '{I YANVT  
6.3.2普通硅刻蚀技术 JIYZ  
6.3.3时间复用刻蚀 +Vsd%AnN"l  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 fdCN?p[_  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 u,f$c
R  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 5Y}=,v*h}  
6.4.2负折射 u&7c2|Q  
6.5未来应用前景 KgCQ4w9  
参考文献 {Bd 0  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 PRpW*#"EI  
7.1对称性、拓扑性和PBG hOTqbd}  
7.2金属光子晶体 {rE]y C^  
7.3金属结构的可加工性 _=s{,t &u  
7.4三维光子晶体的制造 fg8"fbG`:  
7.5胶体模板法 g~Hmka_fD1  
7.6微光刻工艺 `&rt>Bk /  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 no`>r}C  
7.8膜层应力 x8v2mnk  
7.9对准 qyl9#C(a  
7.10表面粗糙度 9bVPMq7}i  
7.11侧壁轮廓 ' 6#e
n9{L  
7.12释放刻蚀 <T0+-]i  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 'nR'o /!  
7.14结论 IBY(wx[5S  
致谢 k#Bq8d  
参考文献