微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 LS;kq',  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 Z(#a-_g  
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目录 l`d=sOB^  
译者序 jd#{66:  
前言 HG3jmI+u>  
第1章面浮雕衍射光学元件 ,ua]h8  
1.1制造方法 H&I0\upd  
1.2周期和波长比 rz4S"4  
1.3光栅形状 7l?-2I'c  
1.4深度优化 W /IyF){  
1.5错位失对准 {Tx+m;5F  
1.6边缘圆形化 9K)2OX;$w  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 $OmtN
"  
1.8表面纹理结构 ^#;2 Pd>  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 0&<{o!>k  
1.10太阳电池的表面纹理结构 p!=/a)4X  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 wEk9(|  
1.12成形金属基准层的制造工艺 h)sc-e
 
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 rLp0VKPe  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ezFyd'P  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 ]^dXB0  
致谢 }pA0mW9  
参考文献 6x_8m^+m  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 q0Fy$e]u  
2.1概述和回顾 WFTTBUoH  
2.2基本的刻蚀处理技术 W Qe>1   
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 97Whn*  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 V<1dA\I"  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 +3VY0J  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 vAX %i(4  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 ?'^xO:  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
a93Aj  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 &}6=V+J;  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 [<6ez;2q'  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 V;9.7v  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 2: fSn&*/>  
致谢 iX}EJD{f  
参考文献 q^EG'\<^  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 .7{,u1N'  
3.1概述 s+,JwV?b  
3.2相位掩模技术 x-cg df  
3.3光学元件的设计和制造 OF!(BJL  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 )%P!<|s:5  
3.3.2相位掩模的设计 b16\2%Ea1  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 K-sJnQ23'  
3.4轴对称元件的设计和制造 ?z p$Wz;k  
3.5结论  T=9+  
参考文献 TtlZum\  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 fE,\1LK4  
4.1概述 .-uH ax0  
4.2电子束光刻术 ^C_ ;uz  
4.2.1电子束光刻术发展史 G8H=xr#  
4.2.2电子束光刻系统 1#6c sZW5  
4.2.3电子束光刻技术 "RiY#=}sm  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 |}=xA%)  
4.3.1回顾 ELPzqBI  
4.3.2硅 l.El3+  
4.3.3砷化镓 5V8WSnO  
4.3.4熔凝石英 5@6F8:x}V  
4.4光学器件加工实例 c#Y/?F2p  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 #,lJ>mTe4  
4.4.2熔凝石英微偏振器 V& _  
4.4.3砷化镓双折射波片 ;X*I,g.+H  
4.5结论 qJj"WU5  
致谢 [<rV "g  
参考文献 .liVlo@  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 PF~w$ eeQ  
5.1概述 Sjv_% C$  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 ,'Zs")Ydp  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 J4"?D9T3G  
5.3.1纳米压印组件和工艺 S8 .1%sw  
5.3.2纳米压印设备 7a\at)q/y  
5.4商业化器件的应用 gd#+N]C_  
5.4.1通信用近红外偏振器 }Ox5,S}ra  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 B'SLyf  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Z^wogIAV  
5.4.4高亮度发光二极管 9bwG3jn4?  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 E
9<oA.  
5.4.6多层集成光学元件 *:}9(8d  
5.4.7分子电子学存储器 g:8k,1y5  
5.4.8光学和磁数据存储 %=e^MN1  
5.5结论 rK(TekU
 
致谢 ?g+uJf  
参考文献 > &tmdE  
第6章平面光子晶体的设计和制造 '(fQtQ%  
6.1概述 j2^Vz{  
6.2光子晶体学基础知识 &!N9.e:-]  
6.2.1晶体学术语 /fgy07T  
6.2.2晶格类型 yI$KBx/]n  
6.2.3计算方法 @^R6}qJ  
6.3原型平面光子晶体 /#TtAkH  
6.3.1电子束光刻工艺 E&G]R!  
6.3.2普通硅刻蚀技术 [`(W(0U%  
6.3.3时间复用刻蚀 t.X8c/,;g  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺  r"YOA@  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 p.)IdbC`B  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 P.#@1_:gC  
6.4.2负折射 @KJ~M3d0l  
6.5未来应用前景 ~'lYQ[7  
参考文献 pm` f?
Py  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 %^pm~ck!  
7.1对称性、拓扑性和PBG mM(Z8PA9-  
7.2金属光子晶体 ;T hn C>U  
7.3金属结构的可加工性 *E.uqu>I  
7.4三维光子晶体的制造 pmfL}Dn  
7.5胶体模板法 ;x,yGb`  
7.6微光刻工艺 BMi5F?Q'G  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 !KC4[;Y  
7.8膜层应力 Y+)qb);  
7.9对准 *jCHv  
7.10表面粗糙度 ?LSwJ @#  
7.11侧壁轮廓 F,}7rhY(U^  
7.12释放刻蚀 zoibinm}Eg  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 Fa0Fl}L  
7.14结论 '/2)I8  
致谢 ^i[bo3  
参考文献