微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 TEt+At`]  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 @?\[M9yK  
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T`gR&n<D  
目录 BA t0YE`-,  
译者序 v6q oH)n  
前言 ^-GzWT  
第1章面浮雕衍射光学元件 \C.s%m  
1.1制造方法 fkmN?CU{1%  
1.2周期和波长比 wYIlp  
1.3光栅形状 qL?`l;+  
1.4深度优化 A9L {c!|-  
1.5错位失对准 cas5  
1.6边缘圆形化 ^CWxYDG*  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 .PJ
CBTe  
1.8表面纹理结构 oz[: T3oE>  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 cczV}m2)  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ~v+A6N:qC  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 5fqQ;r  
1.12成形金属基准层的制造工艺 F2#s^4Ii  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀  YD|;xuh  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 d iGkwKj  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 L?slIGp%-  
致谢 N);2 2-  
参考文献 V$';B=M  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 @K:TGo,%I  
2.1概述和回顾 27q=~R}  
2.2基本的刻蚀处理技术 3}lT"K  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 c.;}e:)s  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 G34fxhh  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 "{F e  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 Bc^MZ~+ip  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Y3RaR 9  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 \Q m1+tg  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 <+\ w.!  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 PH]/*LEj  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 qZz?i  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 oYn|>`+6:y  
致谢 AYnk.H-v  
参考文献 9p{7x[C  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ?1kXV n$  
3.1概述 +P5\N,,7R  
3.2相位掩模技术 WMw^zq?hd@  
3.3光学元件的设计和制造 YLVZ]fN=>  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ?@uyqi~:U  
3.3.2相位掩模的设计 `C+>PCO  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 i SD?y#  
3.4轴对称元件的设计和制造 Y)oF;ko:  
3.5结论 "0ZBPp1q  
参考文献 'W2B**}  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 B !}/4"  
4.1概述 `: R7jf  
4.2电子束光刻术 8'}D/4MUr  
4.2.1电子束光刻术发展史 aIXN wnq  
4.2.2电子束光刻系统 `BOG e;pl  
4.2.3电子束光刻技术 Q?uHdmY*X  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 #
D2.RN  
4.3.1回顾 Q]v><  
4.3.2硅 K#>@T<  
4.3.3砷化镓 -cL{9r&X  
4.3.4熔凝石英 Pv#>j\OR&  
4.4光学器件加工实例 [')C]YQb=  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 c?H@HoF  
4.4.2熔凝石英微偏振器 I"5VkeIx  
4.4.3砷化镓双折射波片 BV@xE  
4.5结论 []I_r=  
致谢 zlhHSyK  
参考文献 .WV5Gf)  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 5tG\5  
5.1概述 fp`k1Uq@  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 [42Eq
VR  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 8v V<A*`  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ]aN]Ha  
5.3.2纳米压印设备 xb22:  
5.4商业化器件的应用 abgAUg)  
5.4.1通信用近红外偏振器 cq#=Vb  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 \zMx~-2oN  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） (aTpBXGr=  
5.4.4高亮度发光二极管 ?[z@R4at  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 |JVp(Kx  
5.4.6多层集成光学元件 IB%Hv]  
5.4.7分子电子学存储器 E-?@9!2 &  
5.4.8光学和磁数据存储 }VDJ  
5.5结论 .2v)x  
致谢 Sz'H{?"  
参考文献 Gjka %  
第6章平面光子晶体的设计和制造 :% m56  
6.1概述 o_@6R"|  
6.2光子晶体学基础知识 Hph$Z1{  
6.2.1晶体学术语 =`W#R  
6.2.2晶格类型 XRx^4]c  
6.2.3计算方法 IQNvhl.{  
6.3原型平面光子晶体 @5:#J!  
6.3.1电子束光刻工艺 yZyB.wT  
6.3.2普通硅刻蚀技术 3:ELYn  
6.3.3时间复用刻蚀 l/6$BPU`  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 dc=~EG-_rM  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 3U
!#rz"  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 tYST&5Kh~  
6.4.2负折射 (D~NW*,9  
6.5未来应用前景 3^-yw`  
参考文献 }h=}!R'm   
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 t}x^*I$*  
7.1对称性、拓扑性和PBG l`(pV ;{W  
7.2金属光子晶体 >uy(N  
7.3金属结构的可加工性 >'g>CD!  
7.4三维光子晶体的制造 7:Be.(a  
7.5胶体模板法 \s^4f#  
7.6微光刻工艺 <S@XK%  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 @?CEi#-  
7.8膜层应力 =?oYEO7  
7.9对准 %XiF7<A&  
7.10表面粗糙度 Y'eE({)<K  
7.11侧壁轮廓 *DS>#x@3*i  
7.12释放刻蚀 OkfnxknZ|  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 w3E#v&"=Y  
7.14结论 7rSads  
致谢 yDmx)^En  
参考文献