微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 PQFr4EY?i  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 1'{A,!  
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目录 P5^<c\Mr,Y  
译者序 }b5If7  
前言 Z}Ld!Byz  
第1章面浮雕衍射光学元件 y6*9, CF  
1.1制造方法 3Bk_
4n  
1.2周期和波长比 ya^zlj\`0e  
1.3光栅形状 !.nyIA(  
1.4深度优化 sF`ELrR \  
1.5错位失对准 p#eai  
1.6边缘圆形化 Anu`F%OzB  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 +jPs0?}s  
1.8表面纹理结构 ;Iu}Q-b*  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 '*6S0zt  
1.10太阳电池的表面纹理结构 w`")^KXi  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 ~Kr_[X:d5  
1.12成形金属基准层的制造工艺 D[5Qd)PIL  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 L6-zQztn  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 !leLOi2T  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 #o]/&T=N=  
致谢 ^+m6lsuA  
参考文献 lSu\VCG  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 quPNwNy  
2.1概述和回顾 &2EimP  
2.2基本的刻蚀处理技术 /
d\#|[S  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Bi'qy]%  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 Av#_cL  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 a2MFZe  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 pSvqG
JU3  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 E~y@ue:  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ?pF7g$>q  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 y)B>g/Hoh  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 O~1vX9  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 drr n&y  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 AP8YY8,  
致谢 ,a&&y0,  
参考文献 #H;yXsR`  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ,o3{?o]s  
3.1概述 $Z!$E,@c  
3.2相位掩模技术 rk$$gXg9/  
3.3光学元件的设计和制造 j~IX  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 q (?%$u.  
3.3.2相位掩模的设计 ;E"TOC  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 yv@td+-"D  
3.4轴对称元件的设计和制造 z)Is:LhS  
3.5结论 &ZmHR^Flz  
参考文献 Y2
)2 tzr]  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 {Gd<+tQg  
4.1概述 L1'#wH  
4.2电子束光刻术 ac-R q.GQY  
4.2.1电子束光刻术发展史 H1alf_(_ \  
4.2.2电子束光刻系统 `H:5D5]  
4.2.3电子束光刻技术 Z;nbnRz  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 / p_mFA]@  
4.3.1回顾 /qYo*S_cG  
4.3.2硅 <K$X>&Ts  
4.3.3砷化镓 -t<8)9q(  
4.3.4熔凝石英 jP]I>Tq  
4.4光学器件加工实例 S-M| 6fv  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 7(q EHZEr  
4.4.2熔凝石英微偏振器 w4S0aR:yL  
4.4.3砷化镓双折射波片 lO Rym:P  
4.5结论 MS Ml  
致谢 8op,;Z7Y  
参考文献 ~s :Ml  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 KNkVI K  
5.1概述 ,r&:C48dI  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 VI}.MnCa  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 VUo7Evc:.P  
5.3.1纳米压印组件和工艺 [_jd  
5.3.2纳米压印设备 cWd\Ki  
5.4商业化器件的应用 E!~Ok  
5.4.1通信用近红外偏振器 (Hr_gkGtM  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 5B
L4VGwJ  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） -R~!N#y  
5.4.4高亮度发光二极管 Auq)  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 "|2|Vju%  
5.4.6多层集成光学元件 hU:M]O0uw  
5.4.7分子电子学存储器 3Ishe
"  
5.4.8光学和磁数据存储 Tn$/9<Q  
5.5结论 y5td o'Ex  
致谢 q,ry3Nr4n  
参考文献 +w(sDH~kd  
第6章平面光子晶体的设计和制造 bJ[{[|yEd  
6.1概述 OZ/P@`kN.f  
6.2光子晶体学基础知识 A,tmy',d"  
6.2.1晶体学术语 cGevFlnh  
6.2.2晶格类型 QbF!V%+a's  
6.2.3计算方法 i|z=q  
6.3原型平面光子晶体 NW/RQ(  
6.3.1电子束光刻工艺  h:[8$]  
6.3.2普通硅刻蚀技术 %s+H& vfQs  
6.3.3时间复用刻蚀 igoXMsifT+  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ;"*\R5a  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 7XZ5CX&  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ,qx;
kJJ  
6.4.2负折射 0@FZQ$-  
6.5未来应用前景 v<*ga7'S  
参考文献 l5> H\  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 dG
6 G  
7.1对称性、拓扑性和PBG x
q?9w$  
7.2金属光子晶体 IfGmA.O  
7.3金属结构的可加工性 h  0EpW5  
7.4三维光子晶体的制造 uxGY/Zf  
7.5胶体模板法 5 A/[x$q  
7.6微光刻工艺 G_fP%ovh  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 \S[7-:Lu^  
7.8膜层应力 !+&Rn\e%7  
7.9对准 $VWeo#b  
7.10表面粗糙度 SJYy,F],V"  
7.11侧壁轮廓 : ryE`EhB  
7.12释放刻蚀 kRCuc}:SB  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 So?ScX\lG  
7.14结论 $6W o$c%  
致谢 E]^wsS>=  
参考文献