微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 6`JY:~V"  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 gAPD y/wM  
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目录 Ks>l=5~v|  
译者序 .G~Y`0  
前言 }QzF.![~z  
第1章面浮雕衍射光学元件 +;|" #  
1.1制造方法 +k<0:Fi  
1.2周期和波长比 i .GJO +K  
1.3光栅形状 GX\6J]x=^2  
1.4深度优化 |H%[tkW6c  
1.5错位失对准 `v"p""_H  
1.6边缘圆形化 m(0c|-  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 H-g CY|W  
1.8表面纹理结构 >DSD1i+
N  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 1<(('
H  
1.10太阳电池的表面纹理结构 # ^q87y  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 y~Ts9AE  
1.12成形金属基准层的制造工艺 B_3:.1>"BM  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 '&+5L.  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 'lIj89h<E  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 E/:mO~1< c  
致谢 Q8GI;`Rb  
参考文献 5B)z}g^h  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 j-%@A`j;  
2.1概述和回顾 W3E7y?  
2.2基本的刻蚀处理技术 \|f3\4;!  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 B(t`$mC  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 \\d!z-NOk?  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 d
Z6P)R  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 :+?w>  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 l RM7s(^l  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 bSv
r8FY3d  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 e{6I-5`|,#  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 .kf FaK  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 (M;jnQ0  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 Po*G/RKu4W  
致谢 A1p87o>  
参考文献 98ot{+/LK  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 $sS;#r0  
3.1概述 Ucqn3&  
3.2相位掩模技术 *I<L1g%9d  
3.3光学元件的设计和制造 69iY)Ob/  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 l+XTn;cS  
3.3.2相位掩模的设计 =#so
[Pd  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 VNT*@^O_=  
3.4轴对称元件的设计和制造 $TZjSZ1w  
3.5结论 |EZ\+!8N:{  
参考文献 EpUBO}q]  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 f j:q>}V  
4.1概述 /BQB7v
L  
4.2电子束光刻术 De^Uc  
4.2.1电子束光刻术发展史 GC3WB4iY@U  
4.2.2电子束光刻系统 &$NYZ3?9  
4.2.3电子束光刻技术 ,~nrNkhp  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Yj{-|2YzL  
4.3.1回顾 HE{JiAf  
4.3.2硅 {7Qj+e^  
4.3.3砷化镓 lK"m|Z  
4.3.4熔凝石英 m4_ZGjmJM  
4.4光学器件加工实例 (,XbxDfM  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 N/x]-$fl  
4.4.2熔凝石英微偏振器  0U&@;/?  
4.4.3砷化镓双折射波片 ttd ^jT  
4.5结论 TJ_pMU  
致谢 8~j1  
参考文献 %/}46z9\  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 E5QQI9ea  
5.1概述 vT{+Z\LL=  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 A81'ca/  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 FByA
4VxB  
5.3.1纳米压印组件和工艺 S>;+zVF]  
5.3.2纳米压印设备 T?k!%5,Kj  
5.4商业化器件的应用 5MHcgzyp  
5.4.1通信用近红外偏振器 mhW*rH*m  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 IcJQC  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） t b>At*tO  
5.4.4高亮度发光二极管 S.R|Bwj}(Y  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 ?^gq  
5.4.6多层集成光学元件 1a79]-j  
5.4.7分子电子学存储器 *&doI%q  
5.4.8光学和磁数据存储 M{4U%lk  
5.5结论 =Q~@
dP  
致谢
<^(>o  
参考文献 oYAHyCkVq  
第6章平面光子晶体的设计和制造 | {Tq/  
6.1概述 t|?eNKVV9'  
6.2光子晶体学基础知识 ngOGo =
 
6.2.1晶体学术语 P^^WViVX  
6.2.2晶格类型 VM}7 ~  
6.2.3计算方法 RMs+pN<5  
6.3原型平面光子晶体 L/xTW  
6.3.1电子束光刻工艺 }!QVcu"+t/  
6.3.2普通硅刻蚀技术 cq"#[y$r  
6.3.3时间复用刻蚀 U28frRa  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ]XjL""EbC  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 8 -YC#&  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 9?tG?b0  
6.4.2负折射 9GtVcucN  
6.5未来应用前景 jK\AVjn  
参考文献 vw6DHN
)k  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 qGdoRrp0Ov  
7.1对称性、拓扑性和PBG #c$z&J7e  
7.2金属光子晶体 61Wh %8-  
7.3金属结构的可加工性 #+8G`  
7.4三维光子晶体的制造 wY=k$  
7.5胶体模板法 yYiu
69v  
7.6微光刻工艺 m[qW)N:w  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 >4&0j'z"  
7.8膜层应力 6PT"9vR`)  
7.9对准 4u=v  
7.10表面粗糙度 *nSKIDw  
7.11侧壁轮廓 `Sal-|[Cv[  
7.12释放刻蚀 )x3p7t)#  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 +vIsYg*#2M  
7.14结论 w>wzV=R  
致谢 oVQb
c\P3  
参考文献