微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 d^(7\lw|  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 "!w#E6gU  
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目录 8v}B-cS  
译者序 e=^^TX`I  
前言 >'1h  
第1章面浮雕衍射光学元件 C==yl"w  
1.1制造方法 7M/v[dwL  
1.2周期和波长比 'CMbqLk#  
1.3光栅形状 , UsY0YC  
1.4深度优化 4=~+Bz  
1.5错位失对准 #soV'SFG  
1.6边缘圆形化 ?Qxf~,F  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 W=:AOBK  
1.8表面纹理结构 8g0VTY4$jP  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 4`GOBX1b.y  
1.10太阳电池的表面纹理结构 5MCnGg@  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 %vil~NU  
1.12成形金属基准层的制造工艺 nSv@FT'~z  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 :N^+!,i  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 |z7V1xF  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 uc>":V  
致谢 Vak\N)=u  
参考文献 \(A A|;  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 $<QrV,T  
2.1概述和回顾 u*T(n s l  
2.2基本的刻蚀处理技术 ~].?8C.>*  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Fq$r>tmV  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 GXp`yK9c  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 _a#k3r  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 7 x'2  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 j
sFfrS"*  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ^)y8X.iO  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 r~z'QG6v/  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 16
ZyLt  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 5-hnk' ~  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 BsU}HuQZQ  
致谢 ]|-sZ<?<i  
参考文献 .VCF[AleS  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 n
$F~  
3.1概述 : eCeJ~&E  
3.2相位掩模技术 )ViBH\.*p  
3.3光学元件的设计和制造 :sQ>oNnz  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 EE^x34&=  
3.3.2相位掩模的设计 en'"" w  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 VsJiE0'%  
3.4轴对称元件的设计和制造 >J5C.hx  
3.5结论 [l3ys  
参考文献 <5?pa3  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 w_f.\\1r  
4.1概述 <iA\ZS:  
4.2电子束光刻术 a%A!DzS  
4.2.1电子束光刻术发展史 P6&%`$  
4.2.2电子束光刻系统 |AH>EXhv  
4.2.3电子束光刻技术 RG*Vdom  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 n)~*B
pL3  
4.3.1回顾 f S[-K?K  
4.3.2硅 a'-u(Bw  
4.3.3砷化镓 9O-2  
4.3.4熔凝石英 m):*>o55  
4.4光学器件加工实例 o{6q>Jm  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 i
y8Jl  
4.4.2熔凝石英微偏振器 m<49<O6o  
4.4.3砷化镓双折射波片  vTgx7gP  
4.5结论 @0'U p  
致谢 nT
v}/M&  
参考文献 {l)$9!  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 6\ yBA_z
 
5.1概述 HhL;64OYa  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 qVKdc*R-  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 %@Z;;5
L  
5.3.1纳米压印组件和工艺 1X[^^p~^  
5.3.2纳米压印设备 fd4C8>*7G  
5.4商业化器件的应用 z)S6f79`Q  
5.4.1通信用近红外偏振器 'f!U[Qatg  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 i84!x%|P  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） e{7\pQK  
5.4.4高亮度发光二极管 ;F#(:-:  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 w`;HwK$ ,  
5.4.6多层集成光学元件 SIV !8mz  
5.4.7分子电子学存储器 o//h|fU@  
5.4.8光学和磁数据存储 uN:KivVe  
5.5结论 mUbm3JIjJ  
致谢 h7E~I J  
参考文献 fO$){(]^  
第6章平面光子晶体的设计和制造 K J\kR  
6.1概述 ] \M+ju  
6.2光子晶体学基础知识 GPGE7X'  
6.2.1晶体学术语 _Z Sp$>)/  
6.2.2晶格类型 t|$jgM  
6.2.3计算方法 +?Ii=*7n  
6.3原型平面光子晶体 QJ3#~GYNr  
6.3.1电子束光刻工艺 7IkPi?&{  
6.3.2普通硅刻蚀技术 E?G'F3i  
6.3.3时间复用刻蚀 %W"u4 NT7  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ~x
^y5[5{  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 bAPMD  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 0k5-S~_\  
6.4.2负折射 RbX9PF"|+  
6.5未来应用前景 ,\s`T O  
参考文献 !,$#i  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Y>8Q
j+d  
7.1对称性、拓扑性和PBG d/bimQ  
7.2金属光子晶体 _6nAxm&x`%  
7.3金属结构的可加工性 >[AmIYg  
7.4三维光子晶体的制造 ' @RF  
7.5胶体模板法 ^o{{kju  
7.6微光刻工艺 q1T)H2S  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 /[<F f  
7.8膜层应力 J5G<Y*q  
7.9对准 &t^*0/~  
7.10表面粗糙度 Lw}-oE !U  
7.11侧壁轮廓 &{V|%u}v  
7.12释放刻蚀 J, -.5  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 [,;e,ld  
7.14结论 y#j7vO  
致谢
=/Gd<qz3  
参考文献