《国际信息工程先进技术译丛:微
光学和
纳米光学
制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的
模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。
/ b_C9'S 《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、
光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
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< 目录
y^#jM 译者序
yk4Huq&2 前言
pFLR!/J 第1章面浮雕衍射光学元件
1Y"[Qs]"mU 1.1制造方法
^gwVh~j 1.2周期和
波长比
aD aQ7i 1.3光栅形状
p#9.lFSX 1.4深度
优化 Lzzf`jN] 1.5错位失对准
5JE8/CbH 1.6边缘圆形化
{CM%QMM 1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
>bia
FK>t 1.8表面纹理结构
J
00%,Ju_ 1.9熔凝石英表面的纹理结构
=rV*iLy 1.10太阳
电池的表面纹理结构
xr uQ=Q 1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
W_NQi 1.12成形金属基准层的制造工艺
d~](S<k 1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀
A#gmKS<J/7 1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
IS`1}i$1% 1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
!\Y85o>JU 致谢
$= '_$wG
8 参考文献
85rXm*Df 第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
&D
"$N" 2.1概述和回顾
Vx5ioA]{ 2.2基本的刻蚀处理技术
#{)=%5=c 2.3玻璃类
材料的刻蚀工艺
X6jW mo8] 2.4硅材料微光学结构的刻蚀
zPp?D_t 2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺
- Dm/7Sxd` 2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
nYJ)M
AG@ 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺
^u zJu( 2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
#?)g? u%g= 2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6
>=|Dir 2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
G992{B 2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
\IL/?J
5d 2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
xEN""*Q 致谢
1$Rua 参考文献
X/ 第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
^2L\Y2 3.1概述
d'~
k f# 3.2相位掩模技术
v\>!J? 3.3光学元件的设计和制造
5;wA7@ 3.3.1光致抗蚀剂的性质
+H5=zf2 3.3.2相位掩模的设计
1b:3'E.#w 3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺
V @A+d[ 3.4轴对称元件的设计和制造
q@K;u[zFK 3.5结论
8<UD#i@:C 参考文献
vtyk\e) 第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术
`y5?lS* 4.1概述
z1t
YD 4.2电子束光刻术
tMxa:h;/x 4.2.1电子束光刻术发展史
uGIA4CUm 4.2.2电子束光刻
系统 )UA$."~O 4.2.3电子束光刻技术
lP*_dt9 4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
[5
Mt,skC: 4.3.1回顾
j(4BMk 4.3.2硅
}J27Y;Zp9 4.3.3砷化镓
BsV2Q`(gT 4.3.4熔凝石英
}eUeADbC 4.4光学器件加工实例
iHoQNog-! 4.4.1熔凝石英自电光效应器件
S(kj"t*3 4.4.2熔凝石英微偏振器
_-aQ.p ?T 4.4.3砷化镓双折射波片
5)fEs.r0U 4.5结论
QeP8Vl&e: 致谢
R I Bj9kd 参考文献
DIR_W-z 第5章纳米压印光刻技术和器件应用
M{gtu'. 5.1概述
/QDlm>FM4 5.2压印图形化和压印光刻术的发展史
KI~BjP\e 5.3纳米压印光刻术的相关概念
T =r7FU 5.3.1纳米压印组件和工艺
%a%x`S3 5.3.2纳米压印设备
UxI0Of&: 5.4商业化器件的应用
fZU#%b6G 5.4.1通信用近红外偏振器
l:v:f@M& 5.4.2投影显示用可见光偏振器
bF:]MB^VK 5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD)
nQ4 s 5.4.4高亮度发光二极管
r|t;# 5.4.5微光学(微
透镜阵列)和衍射光学元件
Ws'OJ1 5.4.6多层集成光学元件
9U1cH qV 5.4.7分子电子学存储器
MxMrLiqU6l 5.4.8光学和磁数据存储
>vE1,JD)w 5.5结论
eekp&H$'s 致谢
X]6Hgz66 参考文献
\DsP'-t 第6章平面光子晶体的设计和制造
:A%|'HxH3 6.1概述
,c#IxB/0 6.2光子晶体学基础知识
$Lpt2:.(( 6.2.1晶体学术语
k$`~,LJ p 6.2.2晶格类型
L'k) 6.2.3计算方法
(=:9pbP 6.3原型平面光子晶体
=Q985)Y& 6.3.1电子束光刻工艺
&|( 'z\k 6.3.2普通硅刻蚀技术
90OSe{ 6.3.3时间复用刻蚀
9-)D"ZhLe 6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
[gm[mwZ 6.4基于色散特性的平面光子晶体
AF5.)Y@. 6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
9?c0cwP? 6.4.2负折射
m89-rR:Kc 6.5未来应用前景
Xq`|'6]/ 参考文献
vZj:\geV 第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法
ud]O'@G< 7.1对称性、拓扑性和PBG
nG<_&h 7.2金属光子晶体
C?6wIdp 7.3金属结构的可加工性
S]3K5Z| 7.4三维光子晶体的制造
*nUD6(@g 7.5胶体模板法
le%&r