微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 $+= 
<(*  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 9>*c_  
Rhgj&4  
n[+'OU[  
定价：￥ 66.00 4n( E;!s  
优惠价格：￥ 49.50 可以享受免费送货，货到付款。 70W"G X&  
GUp;AoQ  
}U5Y=RYo  
5a`
%)K  
本帖为实体书购买信息推荐，暂无电子文档！ dz9Y}\2tf  
Qc-(*}  
目录 [uuj?Rbd
 
译者序 {+T/GBF-K=  
前言 {aq9i  
第1章面浮雕衍射光学元件 'VnwG  
1.1制造方法 6DF  
1.2周期和波长比 s&PM,BFf  
1.3光栅形状 8QgA@y"  
1.4深度优化 ?r_kyuU  
1.5错位失对准 LgqGVh3\s  
1.6边缘圆形化 qk{'!Ii  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 u:P~j  
1.8表面纹理结构 5mB]N%rfW%  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Gm8E<iTP  
1.10太阳电池的表面纹理结构 x-m/SI]_N  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Z|6{T  
1.12成形金属基准层的制造工艺 2!&pEqs  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 =yiOJyx  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 Mhpdaos  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 }6m?d!m  
致谢 C0C0GqN,  
参考文献 I*)VZW  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 C".1+Um  
2.1概述和回顾 6vs3O  
2.2基本的刻蚀处理技术 v|t{1[C  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 2ypIq
  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 Lubrn"128  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 o+?@5zw-&  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 mf$j03tu  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 +++pI.>(*Q  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ur%$aX)  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 wz(K*FP  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 [s6C ZcL  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 khX|"d360  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 a:!uORQby  
致谢 )c<6Sfp^B  
参考文献 APBK9ky
 
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 UZxmhsv  
3.1概述 h[Tk;h  
3.2相位掩模技术 [/9(NUf  
3.3光学元件的设计和制造 f=:.BR{  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 V0i9DK|!  
3.3.2相位掩模的设计 RXSf,O  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ;Rnhe_A.  
3.4轴对称元件的设计和制造 .KA V)So"  
3.5结论 6].:.b\qQc  
参考文献 .XH8YT42  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 05e>\}{0  
4.1概述 vgG}d8MW37  
4.2电子束光刻术 =Viy^ieN$  
4.2.1电子束光刻术发展史 `lCuU~~ag  
4.2.2电子束光刻系统 H'Qo\L4H  
4.2.3电子束光刻技术 |r=DBd3  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 v<h;Di@  
4.3.1回顾 ?l6jG  
4.3.2硅 S`g;Y '  
4.3.3砷化镓 L]-w;ll-  
4.3.4熔凝石英 *8A6Q9YT  
4.4光学器件加工实例 %v=!'?VT  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 -F`he=Ev9  
4.4.2熔凝石英微偏振器 zY APf &5  
4.4.3砷化镓双折射波片 o:\XRPB  
4.5结论 >{&A%b4JF  
致谢 C3"&sdLb$  
参考文献 B@cz ?%]  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 :t$A8+A+0  
5.1概述 JZx%J)  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 A~71i&  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 ;h=S7M9.  
5.3.1纳米压印组件和工艺 2P}I'4C-  
5.3.2纳米压印设备 rK=6]j(K  
5.4商业化器件的应用 I,P!@  
5.4.1通信用近红外偏振器 ww,
Z )m  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 Rt4di^v  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） X>3^a'2,E  
5.4.4高亮度发光二极管 j$PI,
`  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 OgMI  
5.4.6多层集成光学元件 2VYvO=KA  
5.4.7分子电子学存储器 gxM[V>[  
5.4.8光学和磁数据存储 AzjMv6N   
5.5结论 uWc:jP  
致谢 @PXXt#  
参考文献 Z3;=w%W  
第6章平面光子晶体的设计和制造 j#igu#MB
*  
6.1概述 JMsHK,(  
6.2光子晶体学基础知识 9q|7<raS  
6.2.1晶体学术语 P|}\/}{`  
6.2.2晶格类型 I'A:J  
6.2.3计算方法 m5gI~1(9
 
6.3原型平面光子晶体 <Cq"| A  
6.3.1电子束光刻工艺 M,..Kw/ }~  
6.3.2普通硅刻蚀技术 *.8:'F  
6.3.3时间复用刻蚀 OmNn,PCl8  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 qZsnd7o{l.  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 EAyukM2  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 #s^s_8#&e  
6.4.2负折射 =]KIkS3  
6.5未来应用前景 !sK#zAR2  
参考文献 6\`DlUn'*  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 !%62Phai  
7.1对称性、拓扑性和PBG I#c(J  
7.2金属光子晶体 4x]NUt  
7.3金属结构的可加工性 6/7F">@j  
7.4三维光子晶体的制造 ZKQo#!}  
7.5胶体模板法 B\zoJg&7(  
7.6微光刻工艺 <Kp+&(l,l  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 t|=n1\=?  
7.8膜层应力 a7 )@BzF#  
7.9对准 Fwv\pJ}$  
7.10表面粗糙度 =Z
MF]|  
7.11侧壁轮廓 x!+Z{x  
7.12释放刻蚀 Wa, 7P2
r  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 pn*d[M|k  
7.14结论 _LsYMUe  
致谢 
3_U\VGm  
参考文献