微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 79J-)e9  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 z T%U!jqI  
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目录 pI`?(5iK6|  
译者序 $ls[|N:y0l  
前言 1a0kfM$  
第1章面浮雕衍射光学元件 :)f7A7:;  
1.1制造方法 "kMzmo=Pv5  
1.2周期和波长比 EfLO5$?rm  
1.3光栅形状 6+rlXmd  
1.4深度优化 !X>=l  
1.5错位失对准 4\t1mocCSN  
1.6边缘圆形化 *TW=/+j  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 YO)$M-]>%J  
1.8表面纹理结构 ".*x!l0y7  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 V5}nOGV9  
1.10太阳电池的表面纹理结构 7
"X>?@  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 `D7C?M#j]  
1.12成形金属基准层的制造工艺 }n,Zl>T9  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 $>M<j  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 89}Y5#W  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 1&=0Wg0ig  
致谢 mwv(
j_  
参考文献 .k{ j]{k  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 Yx'res4e  
2.1概述和回顾 ;#GoGb4AM  
2.2基本的刻蚀处理技术 p4>$z& _  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 u),Qa=Wp  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 1xJ TWWj-  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺  q}Z3?W  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 iL{M+Ic  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 NIr@R7MKd  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 UAF<m1  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 c47")2/yO  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 {)f~#37  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Rr(* aC2P  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 C8N{l:1f]  
致谢 8qi
+IGRg  
参考文献 Sgb*tE)T  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 z7.|fE)<6  
3.1概述 EY`H}S!xy  
3.2相位掩模技术 jg 2qGC  
3.3光学元件的设计和制造 7DW]JK l  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 pqM~l&  
3.3.2相位掩模的设计 s}&bJ"!Z  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 m^%|ZTrwN7  
3.4轴对称元件的设计和制造 Z{IUy  
3.5结论 NW|f7 ItX  
参考文献 QlFZO4 P3|  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 <BWkUZz\P|  
4.1概述 /5AW?2)  
4.2电子束光刻术 ub0zJTFJ#  
4.2.1电子束光刻术发展史 Mkp/0|Q*  
4.2.2电子束光刻系统 1RLY $M  
4.2.3电子束光刻技术 |6:=}dE#[  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 2s*#u<I  
4.3.1回顾 u/
b7Z`yX}  
4.3.2硅 j83? m  
4.3.3砷化镓 HC {XX>F^  
4.3.4熔凝石英 A|#`k{+1-  
4.4光学器件加工实例 5\mTr)\R  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 wmNHT _  
4.4.2熔凝石英微偏振器 4Ph0:^i_  
4.4.3砷化镓双折射波片 z_;3H,z`  
4.5结论 ,?UM;^  
致谢 4:3rc
7_ 1  
参考文献 e
/_C  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 +j+5ud`  
5.1概述 QZAB=rR  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 ;?fS(Vz~  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 seFGJfN\?f  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ubsSa}$q  
5.3.2纳米压印设备 {3a&1'a0g  
5.4商业化器件的应用 %z]U LEYrZ  
5.4.1通信用近红外偏振器 R9We/FhOY  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 #mR4fst  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 1[F3 Z  
5.4.4高亮度发光二极管 %A1@&xrbl  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 #TK~eHi  
5.4.6多层集成光学元件 \mM<\-'p  
5.4.7分子电子学存储器 g]@(E  
5.4.8光学和磁数据存储 #qU-j/Qf  
5.5结论 !2\ r LN  
致谢 z@|dzvjl Q  
参考文献 &adI (s~  
第6章平面光子晶体的设计和制造 })xp%<`  
6.1概述 hD,:w%M  
6.2光子晶体学基础知识 mpC`Yk  
6.2.1晶体学术语 v dbO(  
6.2.2晶格类型 M4LP$N  
6.2.3计算方法 ]G.%Ty  
6.3原型平面光子晶体 +i ?S  
6.3.1电子束光刻工艺 rVvR!"//yH  
6.3.2普通硅刻蚀技术 A,CW_  
6.3.3时间复用刻蚀 'X).y1'  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 4EI7W,y  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 A61^[Y,dX_  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 UsGa  
6.4.2负折射 @}_WE,r  
6.5未来应用前景 T#%/s?_>.  
参考文献 mOpTzg@  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 C$Lu]pIL*  
7.1对称性、拓扑性和PBG Tm^89I]L  
7.2金属光子晶体 +h^jC9,m~{  
7.3金属结构的可加工性 vr#+0:|  
7.4三维光子晶体的制造 uJx"W  
7.5胶体模板法 8 a!Rb-Q:  
7.6微光刻工艺 I&?Qq k  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 84HUBud76Y  
7.8膜层应力 0tISXu-  
7.9对准 D.D$#O_n.S  
7.10表面粗糙度 'K@|3R  
7.11侧壁轮廓 I jr\5FA[p  
7.12释放刻蚀 .Xm(D>>k  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 ]3
ONFa  
7.14结论 <9ig?{'  
致谢 YzosZ! L!<  
参考文献