微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 )wam8k5  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 |:nOp(A\*  
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目录 :~e>Ob[,"  
译者序 I5 o)_nc  
前言 =9y[1t  
第1章面浮雕衍射光学元件 p4.wh|n  
1.1制造方法 ]qethaNy  
1.2周期和波长比 |oH,   
1.3光栅形状 bhTb[r  
1.4深度优化 T! Y@`Ox  
1.5错位失对准 5{|7$VqPF  
1.6边缘圆形化 >Ea8G,  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 V+* P2|  
1.8表面纹理结构 gp};D  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 :1cV;gJ  
1.10太阳电池的表面纹理结构 [YRz*5  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Qi,j+xBp  
1.12成形金属基准层的制造工艺 /\ y?Y  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 B8.P
n  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 hm84Aq= f  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 XX7{-Yy  
致谢 5gH1.7i b  
参考文献 #a/5SZP Z\  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 a]JYDq`,3  
2.1概述和回顾 aE`c%T):`  
2.2基本的刻蚀处理技术 rHC>z7+z.  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 `slL%j
^"  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ypbe!Y<i]  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 9TgIB  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 "9ZID-~]  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 j~2{lCT  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ^1S!F-H4\  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 Jj>?GAir  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 iZ#!O*>  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 q!{y&.&\  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 oibsh(J3  
致谢 sv: 9clJ  
参考文献 6LOn
U~l,  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 p#01gB  
3.1概述 iqC|G/  
3.2相位掩模技术 oz,np@f)J  
3.3光学元件的设计和制造 <6EeD5{*  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 PXK7b2fE.  
3.3.2相位掩模的设计 +DW~BS3  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 fV &KM*W*@  
3.4轴对称元件的设计和制造 %}SGl${-  
3.5结论 8ZM?)#`@{  
参考文献 \kp8S'qVo  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 X@$f$=  
4.1概述 `>gd&u  
4.2电子束光刻术 Fz3fwLawI  
4.2.1电子束光刻术发展史 X}=n:Ql'YY  
4.2.2电子束光刻系统 .R)D3NZp  
4.2.3电子束光刻技术 "9m2/D`=  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 @KWb+?_H{<  
4.3.1回顾 4iqoR$3Fc  
4.3.2硅 j
5K]CTz#  
4.3.3砷化镓 I!^;8Pg  
4.3.4熔凝石英 gwOa$f%O  
4.4光学器件加工实例 dU6ou'pf  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 t
a35 K"  
4.4.2熔凝石英微偏振器 H2&@shOOQJ  
4.4.3砷化镓双折射波片 OP~Hdo
cB  
4.5结论 I3=%h  
致谢 Ov};e  
参考文献 D2<fw#  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 C\3y
{s  
5.1概述 '{a/2
l  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 vX{J' H]u  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 J,V9k[88  
5.3.1纳米压印组件和工艺 `s"'r !  
5.3.2纳米压印设备 1/RsptN"v  
5.4商业化器件的应用 XF Patd  
5.4.1通信用近红外偏振器 >/:" D$  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 NiWa7/Hr  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） ^M3~^lV  
5.4.4高亮度发光二极管 5\N(PL  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Qt iDTr  
5.4.6多层集成光学元件 {!.(7wV\  
5.4.7分子电子学存储器 SHvq.lYJ  
5.4.8光学和磁数据存储 "JVkVp[5D+  
5.5结论 vGc,vjC3x  
致谢
g$7{-OpB  
参考文献 0)%YNaskj  
第6章平面光子晶体的设计和制造 k'gh  
6.1概述 ,`wXg  
6.2光子晶体学基础知识 ~Fe${2
 
6.2.1晶体学术语 m#8m] Y  
6.2.2晶格类型 :}yi-/_8!  
6.2.3计算方法 *meZ8DV2DH  
6.3原型平面光子晶体 `k=bL"T>\  
6.3.1电子束光刻工艺 K\>tA)IPSV  
6.3.2普通硅刻蚀技术 3Vsc 9B"w  
6.3.3时间复用刻蚀 l\BVS)  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 G %
N $C  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 r>dwDBE  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 &J55P]7w  
6.4.2负折射 ZtV9&rd7  
6.5未来应用前景 YsG%6&zEq  
参考文献 3b*cU}go  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 6,"IDH|ND  
7.1对称性、拓扑性和PBG e`@ # *}A  
7.2金属光子晶体 d{rQzia"mV  
7.3金属结构的可加工性 QZ4v/
Ou  
7.4三维光子晶体的制造 /+8JCp   
7.5胶体模板法 VOKZ dC-  
7.6微光刻工艺 ie;]/va  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 9)0D~oUi  
7.8膜层应力 x N=i]~  
7.9对准 Dakoqke  
7.10表面粗糙度 -d8TD*^  
7.11侧壁轮廓 {SwQ[$k=_  
7.12释放刻蚀 WxW7qt  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 U3 */v4/  
7.14结论 BsBK@+ZyI  
致谢 ML:Q5 ^`  
参考文献