微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 =Nr?
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《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 !#PA#Q|cO  
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目录 U[hokwZ  
译者序 HE+
D]7^  
前言 'wo}1^V  
第1章面浮雕衍射光学元件 Nh^q&[?  
1.1制造方法 -`PLewvX  
1.2周期和波长比 C
J6vS  
1.3光栅形状 R+9 hog  
1.4深度优化 1+xi1w}3a  
1.5错位失对准 b:$q5  
1.6边缘圆形化 r>t|.=!  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 e
_3B\59k  
1.8表面纹理结构 J>fq5  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 a@!O}f*  
1.10太阳电池的表面纹理结构 e+y%
M  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 N"zl7.E  
1.12成形金属基准层的制造工艺 p@wtT"Y  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 _!%
@V=  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 Q!h+1fb  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 lN_b&92  
致谢 Lv *USN  
参考文献
nE4rB\  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 Z*.rv t  
2.1概述和回顾 R4S))EHg  
2.2基本的刻蚀处理技术 h3Nbgxa.  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 ?_. SV g  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 iAXF;'|W  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 eH%
i8a  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 |wuN`;gc"  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 2c3/iYCKP  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 wIF)(t-):  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 b2~5LZ  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 srH.$Y;~  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 {T3wOi
  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 afjEN y1  
致谢 Iz&<rL;s  
参考文献 LftzW{>gI"  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 }{.V^;  
3.1概述 2]H?q!l!O  
3.2相位掩模技术 H`7T;`Yb  
3.3光学元件的设计和制造 J$&2GAi  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ^%qQ)>I=j  
3.3.2相位掩模的设计 3Q_)Xs r`  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 /.(F\2+A  
3.4轴对称元件的设计和制造 *7),v+ET  
3.5结论 h2 >a_0"  
参考文献 [V0%=q+R  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 *\^(-p~M  
4.1概述 ^vTp.7o~5  
4.2电子束光刻术 DOq"=R+  
4.2.1电子束光刻术发展史 _FN#Vq2  
4.2.2电子束光刻系统 vH6.;j'^  
4.2.3电子束光刻技术 LqS_%6^  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Z;6?,5OSc  
4.3.1回顾 TZarI-A  
4.3.2硅 r`PD}6\  
4.3.3砷化镓 T|uG1  
4.3.4熔凝石英 #W/ATsDt  
4.4光学器件加工实例 "}:SXAZ5`  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 >eX9
dA3X  
4.4.2熔凝石英微偏振器 HyIyrUrYW  
4.4.3砷化镓双折射波片 'Kd-A:K2g  
4.5结论 u`u{\ xN9  
致谢 7M$cIWe$
 
参考文献 >&Vz/0  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 D*ZswHT{y  
5.1概述 yRt7&,}zL  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 /&yc?Ui  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 `=2p6<#z  
5.3.1纳米压印组件和工艺 3/8<dc  
5.3.2纳米压印设备 _hEr,IX=J  
5.4商业化器件的应用 {G{>Qa|  
5.4.1通信用近红外偏振器 }zrapL"9X  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 4C9k0]k2  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） _Pn 1n  
5.4.4高亮度发光二极管 U
Fyk%#L  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 M/YS%1  
5.4.6多层集成光学元件 Kae-Y  
5.4.7分子电子学存储器 =lx~tSiS  
5.4.8光学和磁数据存储 .v['INK9  
5.5结论 )&ucX  
致谢 {6>$w/+~  
参考文献 ;+lsNf  
第6章平面光子晶体的设计和制造 /$|-!e<5b\  
6.1概述 ~g*5."-i  
6.2光子晶体学基础知识 Nu+DVIM  
6.2.1晶体学术语 eCG{KCM~_Z  
6.2.2晶格类型 Sp[]vm8N  
6.2.3计算方法 0+KSD{  
6.3原型平面光子晶体 $rPQ%2eF4  
6.3.1电子束光刻工艺  Rp6q)  
6.3.2普通硅刻蚀技术 '-P+|bZW4  
6.3.3时间复用刻蚀 MaZS|Zei[  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 iK8jX?  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 rW`l1yi*$  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 cuL/y$+EY  
6.4.2负折射 1eI_F8I U  
6.5未来应用前景 vZXdc+2l  
参考文献 Fp>nu_-"  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 @I?:
x4  
7.1对称性、拓扑性和PBG &5hs W1`  
7.2金属光子晶体 xggF:El3{  
7.3金属结构的可加工性 C4gzg  
7.4三维光子晶体的制造 ]^<\a=U  
7.5胶体模板法 c~!ETwpHQ  
7.6微光刻工艺 =D)ADZ\<r  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 M0%nGpVj>  
7.8膜层应力 &5QvUn
  
7.9对准 @QF;m  
7.10表面粗糙度 Nop61zj  
7.11侧壁轮廓 #{J+BWP\o  
7.12释放刻蚀 P[r$KGz  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 aTs9lr:  
7.14结论 xsU3c0wbr8  
致谢 N3wy][bo  
参考文献