微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 |Skhx9};  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 QetyuhS~  
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目录 _ "H&  
译者序 ~k'SP(6#C  
前言 jZ>x5 W  
第1章面浮雕衍射光学元件 1gDsL  
1.1制造方法 h7F5-~SpD  
1.2周期和波长比 BBlYy5x  
1.3光栅形状 L~>~a1p!  
1.4深度优化 &`Ek-b!7  
1.5错位失对准 Z+G/==%3#,  
1.6边缘圆形化 Y4I;-&d's  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ,FDRU  
1.8表面纹理结构 gano>W0  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 7Nt6}${=z  
1.10太阳电池的表面纹理结构 <#F@OU  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 ?I332,,q  
1.12成形金属基准层的制造工艺 E8]kd  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ;dZuO[4\  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 0;2"X
[e  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 4Bz:n  
致谢 oA]rwaUX  
参考文献 ~l"]J'jF"H  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 b,uudtlH  
2.1概述和回顾 jPa"|9A  
2.2基本的刻蚀处理技术 ]YWz;
Z  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Wg!JQRHtT  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 g}n-H4LI  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 T?HW=v_a  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 )uu1AbT+e  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 :.aMhyh#*  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 LeaJ).Maw  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 SZ
(]su:  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 (rm*KD"]  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 R]<N";-  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 T1#r>3c\  
致谢
]-"G:r  
参考文献 xTg=oq  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 m6Mko2  
3.1概述 !!?TkVyEyM  
3.2相位掩模技术 " `FcW  
3.3光学元件的设计和制造 v8f1o$R  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 7-#   
3.3.2相位掩模的设计 Ra/Pk G
-7  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 #%7)a;'  
3.4轴对称元件的设计和制造 +^|_vq^XR  
3.5结论 b|oT!s  
参考文献 aI;-NnC  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 7BkY0_KK  
4.1概述 Oe ~g[I;  
4.2电子束光刻术 "Tz'j}< 9C  
4.2.1电子束光刻术发展史 #ADm^UT^  
4.2.2电子束光刻系统 {2F@OfuCF  
4.2.3电子束光刻技术 j9xu21'
!%  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 5Deo}(3  
4.3.1回顾 f9D01R fo  
4.3.2硅 c*.-mS~Z`  
4.3.3砷化镓 d$hBgJe>N  
4.3.4熔凝石英 we8aqEomr  
4.4光学器件加工实例 L Iz<fB  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 |p.|zH  
4.4.2熔凝石英微偏振器 V:h7}T95  
4.4.3砷化镓双折射波片 Z7XFG&@6  
4.5结论 N@0cn q:"  
致谢 ZeLed[J^xJ  
参考文献 Z\3~7Ek2m  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ,pIh.sk7s*  
5.1概述 7@ \:l~{  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 )$ M2+_c  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 Bmt^*;WY+  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ^B:;uyG]M  
5.3.2纳米压印设备 3 3zE5vr  
5.4商业化器件的应用 pO92cGJ8  
5.4.1通信用近红外偏振器 \@[,UZ  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 l];/,J^  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） dTjDVq&Hz  
5.4.4高亮度发光二极管 +pRNrg?k  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 _iL?kf  
5.4.6多层集成光学元件 !<24Cy  
5.4.7分子电子学存储器 X|-[i hp;  
5.4.8光学和磁数据存储 :V1j*)  
5.5结论 ~7anj.  
致谢 #a9O3C/MP  
参考文献 Al=ByX@  
第6章平面光子晶体的设计和制造 [5!dO\-[  
6.1概述 .$@+ /@4  
6.2光子晶体学基础知识 NfUt\ p*  
6.2.1晶体学术语 >,[@SF%  
6.2.2晶格类型 @VPmr}p:{  
6.2.3计算方法 Q(36RX%@  
6.3原型平面光子晶体 Wy%FF\D.Y  
6.3.1电子束光刻工艺 *YSRZvD<\  
6.3.2普通硅刻蚀技术 bQ(-M:  
6.3.3时间复用刻蚀 IVY)pS"pR"  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 4jt(tZS  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 4(p`xdr}K  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 C]p@7"l  
6.4.2负折射 -n8d#Qm)  
6.5未来应用前景 oC-v>&bW  
参考文献 j+@3.^vK
 
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 uFh
aN\S  
7.1对称性、拓扑性和PBG ^=5x1<a9$  
7.2金属光子晶体 T7%!JBg
@  
7.3金属结构的可加工性 LT"H-fTgs  
7.4三维光子晶体的制造 GC:q6}  
7.5胶体模板法 ES?*w@x  
7.6微光刻工艺 -Caj>K  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 "F%JZO51  
7.8膜层应力 ^Kg n:l  
7.9对准 5VJe6i9;  
7.10表面粗糙度 X =%8*_  
7.11侧壁轮廓 ^H&U_  
7.12释放刻蚀 uKXNzz  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 Fn7OmxfD  
7.14结论 n}j6gN!O  
致谢 "?.#z]']  
参考文献