微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 B~oSKM%8R  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 g{wIdV  
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目录 d&'z0]mOe  
译者序 $,"{g<*k;  
前言 U*F
|Z4{W  
第1章面浮雕衍射光学元件 9frP`4<)  
1.1制造方法 -dbD&8  
1.2周期和波长比 HpXMPHd  
1.3光栅形状 ?z0f5<dL  
1.4深度优化 2zR*`9$  
1.5错位失对准 b3}928!D-@  
1.6边缘圆形化 r*]0PQ{?  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 :gv`)  
1.8表面纹理结构 M$g%kqa  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 f%9EZ+OP  
1.10太阳电池的表面纹理结构 X1G
[&  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 /9dV!u!;  
1.12成形金属基准层的制造工艺 5(bG  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 m)9N9Ii#)  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ~d6_  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 7
?j$Lwt  
致谢 l!e8=QlJ  
参考文献 "Q9S<O8)  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 M>J8J*  
2.1概述和回顾 Im%|9g;P  
2.2基本的刻蚀处理技术 [^t"Hf  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 ie+&@u  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 j{N;2#.u  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺  !J!zi  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 T.="a2iS2  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 c/ %5IhX?  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ElAJR4'{*i  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 6'ye-}vD-  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ^zkTV_,cRp  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 fEc}c.!5  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 vfzGRr  
致谢 u.iFlU  
参考文献 #EtS9D'd+  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 vFY/o,b \  
3.1概述 j~c7nWfX  
3.2相位掩模技术 P$_Y:XI !  
3.3光学元件的设计和制造 g(<02t!OT=  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 \lHi=}0  
3.3.2相位掩模的设计 ^T"9ZBkb  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 V[,/Hw~d%  
3.4轴对称元件的设计和制造 T:x5 ,vpM  
3.5结论 %Bmi3 =Rr  
参考文献 AC3K*)`E  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 R[ S*ON  
4.1概述 _v4
TyJ  
4.2电子束光刻术 A$ %5l  
4.2.1电子束光刻术发展史 a*&P>Lwe7&  
4.2.2电子束光刻系统 XG<J'3  
4.2.3电子束光刻技术 d+~c$(M)  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 D2|-\vJ>  
4.3.1回顾 $1oU^VY  
4.3.2硅 OTd=(dwh  
4.3.3砷化镓 o*97Nbjn  
4.3.4熔凝石英 ;+K:^*oJ  
4.4光学器件加工实例 LfyycC2E  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 !J
UXq  
4.4.2熔凝石英微偏振器 &w:"e'FG`  
4.4.3砷化镓双折射波片 ^ef:cS$;  
4.5结论 mn\e(WoX  
致谢 n|NI]Qi*  
参考文献 z;1tJ  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 k#`.!yI,  
5.1概述 `ea;qWy  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 6k"Wy3/  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 2N)=fBF%-  
5.3.1纳米压印组件和工艺 NFY,$  
5.3.2纳米压印设备 MUz.-YRt  
5.4商业化器件的应用 D9e"E1f+"  
5.4.1通信用近红外偏振器 gqNd@tYI  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 hF+YZU]rT  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） tc@v9`^_  
5.4.4高亮度发光二极管 jD0^,aiG  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 :Y
y+%  
5.4.6多层集成光学元件 S+|aCRS  
5.4.7分子电子学存储器 Yg/e8Q2  
5.4.8光学和磁数据存储 O(,Ezyx  
5.5结论 4PTHUyX  
致谢 ,!kqE
Ip%  
参考文献 ^C>i(j&  
第6章平面光子晶体的设计和制造 @z$V(}(O^  
6.1概述 /4RKA!W  
6.2光子晶体学基础知识 Kr=DoQ."d8  
6.2.1晶体学术语 7u,56V?X  
6.2.2晶格类型 (rt DT  
6.2.3计算方法 82Nh;5Tr  
6.3原型平面光子晶体 f'Wc_L)  
6.3.1电子束光刻工艺 0KnlomuH2  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ?A(=%c|,g  
6.3.3时间复用刻蚀 T{]Tb=  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Y%p"RB[  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 9+@_ZI-  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 {i~qm4+o  
6.4.2负折射 ^w^cYM,  
6.5未来应用前景 ?YXl.yj  
参考文献 ~t<BZu  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Ee9u7TFT  
7.1对称性、拓扑性和PBG "My \&0-  
7.2金属光子晶体 zdyS"H}  
7.3金属结构的可加工性 xex/L%!Rj  
7.4三维光子晶体的制造 ^O#,%>1J  
7.5胶体模板法 J\_tigd  
7.6微光刻工艺 #E5#{bra  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 q ]rsp0P2  
7.8膜层应力 N-3w)23*:  
7.9对准 -:pLlN-f  
7.10表面粗糙度 q{@>2Al
K  
7.11侧壁轮廓 vBj{bnl  
7.12释放刻蚀 }pPxN@X  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 =4 &9!Z  
7.14结论 Niou=PI@  
致谢 y M , hF  
参考文献