[书籍]微光学和纳米光学制造技术 [复制链接]

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 %g&,]=W\N  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 nZCpT |M5  
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目录 W \}}gIEM+  
译者序 .)>/!|i  
前言 9K46>_TyH  
第1章面浮雕衍射光学元件 xY0QGQca  
1.1制造方法 P0ltN  
1.2周期和波长比 z<6P3x|  
1.3光栅形状 O2]r]9sh*  
1.4深度优化 |Xm4(FN\  
1.5错位失对准 ; axaZV  
1.6边缘圆形化 P9"D[uz  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 d Zz^9:C+  
1.8表面纹理结构 CY3\:D0I  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 pq?[wp"  
1.10太阳电池的表面纹理结构 NB5L{Gf6-  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 C.eV|rc@T  
1.12成形金属基准层的制造工艺 *{dD'9Bg  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 /;nO<X:XV  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 A Ok7G?Y  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 h2|vB+W-  
致谢 ( ssH=a  
参考文献 @@/'b'  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 _jrA?pY  
2.1概述和回顾 <]Pix)  
2.2基本的刻蚀处理技术 "aWX:WL&}s  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 [wio/wc  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 +z(,A  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 .l( r8qY#  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 !|<f%UO  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Wqs.oh  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 _"!{7e`Z  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 QE#-A@c  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 '5xuT _  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 ccN&h  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 =!S@tuY  
致谢 oa&US_  
参考文献 ;h-G3>Il  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 /[|}rqX(  
3.1概述 R!/,E  
3.2相位掩模技术 &Qq/Xi,bZ  
3.3光学元件的设计和制造 Ife,h s  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 Nx4DC  
3.3.2相位掩模的设计 X[~f:E[1J  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 1!;"bHpk  
3.4轴对称元件的设计和制造 R5NRCI  
3.5结论 |,a%z-l  
参考文献 S0.- >"L  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 EAC(^+15K  
4.1概述 GwMUIevO_  
4.2电子束光刻术 4lY&=_K[)  
4.2.1电子束光刻术发展史 ^;)SFmjg%  
4.2.2电子束光刻系统 U=c5zrs  
4.2.3电子束光刻技术 Nn,vdu{^2  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 z6FbM^;;  
4.3.1回顾 |%:qhs,  
4.3.2硅 t7*G91Hoq&  
4.3.3砷化镓 2w x[D  
4.3.4熔凝石英 Y uw E 0  
4.4光学器件加工实例 (!_X:+0_  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 }P&1s,S8J#  
4.4.2熔凝石英微偏振器 GFQG(7G9  
4.4.3砷化镓双折射波片 de=5=>P7  
4.5结论 K4?t' dd]  
致谢 s]F?=yEp  
参考文献 5S|}:~7T  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 u-%r~ }  
5.1概述 {p#l!P
/  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 c6?c>*z  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 XDP6T"h  
5.3.1纳米压印组件和工艺 2rR@2Vsw2  
5.3.2纳米压印设备 M]6w^\4j9  
5.4商业化器件的应用 Eo7 _v  
5.4.1通信用近红外偏振器 VeNNsg>&  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 <<7,kfR  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） ]Efh(Gb]  
5.4.4高亮度发光二极管 pjX%LsX\  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 ~zE 1'  
5.4.6多层集成光学元件 7GBZA=J  
5.4.7分子电子学存储器 nJldz;  
5.4.8光学和磁数据存储 (opROsFh  
5.5结论 .^[fG59  
致谢 ="5k\1W1M  
参考文献 ny!lja5[  
第6章平面光子晶体的设计和制造 fB;&n  
6.1概述 eEWroF  
6.2光子晶体学基础知识 ;S=62_Un  
6.2.1晶体学术语 K)Df}fVOc  
6.2.2晶格类型 a gmeiJT  
6.2.3计算方法 vI pO/m.3  
6.3原型平面光子晶体 sW]yuu!/  
6.3.1电子束光刻工艺 D+ah ok  
6.3.2普通硅刻蚀技术 Q-! i$#-  
6.3.3时间复用刻蚀 ;_?zB NW  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 k8InbX[  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 [Vrc:%Jk  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 26\
HV  
6.4.2负折射 /32Ta  
6.5未来应用前景 SE-!|WR  
参考文献 lF;ziF  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Ur_S [I  
7.1对称性、拓扑性和PBG -,K*~z.l  
7.2金属光子晶体 D:YN_J"kV  
7.3金属结构的可加工性 tIi!*u  
7.4三维光子晶体的制造 t/v@vJ`vSH  
7.5胶体模板法 \&eY)^vw  
7.6微光刻工艺 !XgQJ7y_Z  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 ~I8v5 H  
7.8膜层应力 [5]R?bQ0q{  
7.9对准 &%|xc{i  
7.10表面粗糙度 w$D
G=!  
7.11侧壁轮廓 cOzg/~\1  
7.12释放刻蚀 L"""\5Bn(  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 T4V[RN  
7.14结论 bajC-5R1k  
致谢 [b7it2`dl  
参考文献