[书籍]微光学和纳米光学制造技术 [复制链接]

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 kk%32(By  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 8LbwEKl  
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目录 B1V{3  
译者序 1Y|a:){G  
前言 3''Sx8p  
第1章面浮雕衍射光学元件 }5-w,m{8/  
1.1制造方法 Ttt'X<9  
1.2周期和波长比 D7;9D*o\  
1.3光栅形状 m[^lu1\wn  
1.4深度优化 } o%^ Mu B  
1.5错位失对准 X H-_tvB  
1.6边缘圆形化 Ks-$:~?5":  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
WwDM^}e  
1.8表面纹理结构 r3W3;L  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 1z?}'&:  
1.10太阳电池的表面纹理结构 %GHGd'KO&  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Q?#I{l)V(  
1.12成形金属基准层的制造工艺 Dwp,d~z  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 7l D-|yx  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 w G%W{T$  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 xG9Sk  
致谢 i"WYcF|  
参考文献 k, HC"?K  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 {FNkPX  
2.1概述和回顾 ']r8q 
%  
2.2基本的刻蚀处理技术 0NXH449I=  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 CMXF[X)%  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 v1.3gzR  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ffZ~r%25{  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 8]ZzO(=@{  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Yc:%2KZ"  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 SIe!=F[  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 #c^V%  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 Y;"k5+ q  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺  c0oHE8@  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 *doNPp)m  
致谢 ={qcDgn~C  
参考文献 c0qp-=^&.  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 5(3O/C{?~  
3.1概述 qt@L&v}~j  
3.2相位掩模技术 P{TJ$  
3.3光学元件的设计和制造  =<HDek  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 O>~,R
I!  
3.3.2相位掩模的设计 /yOx=V  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 Lo%n{*if  
3.4轴对称元件的设计和制造 F (*B1J2_g  
3.5结论 \|]mClj#  
参考文献 N
ep4J;  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 6b2UPI7m~  
4.1概述 k }=<51c  
4.2电子束光刻术 x:|Y)Dn\  
4.2.1电子束光刻术发展史  I//=C6  
4.2.2电子束光刻系统 i"^>sk  
4.2.3电子束光刻技术 z3oi(  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 %6UF%dbYH`  
4.3.1回顾 :xd;=;q5  
4.3.2硅 y&/IJst&aq  
4.3.3砷化镓 |#oS7oV(  
4.3.4熔凝石英 )@PnpC%H  
4.4光学器件加工实例 p4`1^}f&Ie  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 LdPLC':}x|  
4.4.2熔凝石英微偏振器 dftBD  
4.4.3砷化镓双折射波片 Shm> r@C?  
4.5结论 SmRlZ!%e  
致谢 Gt w>R  
参考文献 uDf<D.+5Ze  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ,X4e?$7g  
5.1概述 <W4F`6`x  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 d9N[f>  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 34@[ZKJ5  
5.3.1纳米压印组件和工艺 hAGHb+:  
5.3.2纳米压印设备 wPA^nZ^}9c  
5.4商业化器件的应用 nhV"V`|d  
5.4.1通信用近红外偏振器 Ei;tfB  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 y.rN(  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） IGlR,tw_/  
5.4.4高亮度发光二极管 )!T~l(g  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 O'y8q[2KE  
5.4.6多层集成光学元件 18X@0e  
5.4.7分子电子学存储器 v}B%:1P4  
5.4.8光学和磁数据存储 k6G
_c;V  
5.5结论 FFHq':v  
致谢 zLI0RI.Pe  
参考文献 ;nY#/%f  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Sj9fq*  
6.1概述 aeqz~z2~8s  
6.2光子晶体学基础知识 "M I';6  
6.2.1晶体学术语 S,Y|;p<+^  
6.2.2晶格类型 jc^QWK*q  
6.2.3计算方法 1b,a3w
(:1  
6.3原型平面光子晶体 3DU1c?M:  
6.3.1电子束光刻工艺 7_0p& 3  
6.3.2普通硅刻蚀技术 VF]AH}H8I  
6.3.3时间复用刻蚀 }X(&QZ7i`  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Z;BS@e  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 +7Ws`qhEe  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 )^2eC<t  
6.4.2负折射 tFN >]`Z  
6.5未来应用前景 n3^(y"q  
参考文献 Z8$}Rpo  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Q&9
yrx.  
7.1对称性、拓扑性和PBG &C 9hT  
7.2金属光子晶体 =ily=j"hK  
7.3金属结构的可加工性 P4zo[R%4  
7.4三维光子晶体的制造 oA1_W).wJ  
7.5胶体模板法 s**<=M GK  
7.6微光刻工艺 sD|l}f  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 _)A|JC!jId  
7.8膜层应力 $Y/9SD  
7.9对准 nl@an!z  
7.10表面粗糙度 RObnu*  
7.11侧壁轮廓 .@1+}0  
7.12释放刻蚀 \kADh?phV  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 TpjiKM  
7.14结论 Z6!
Up1  
致谢 Z!p\=M,%  
参考文献