微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 g'pK  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 ?Y)vGlWDW<  
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目录 /|r^W\DV&x  
译者序 BS /G("oZ[  
前言 \qR7mI/*  
第1章面浮雕衍射光学元件 oE<`VY|  
1.1制造方法 vh"R'o  
1.2周期和波长比 @xQgY*f#  
1.3光栅形状 LG-y]4a}  
1.4深度优化 0n@rLF  
1.5错位失对准 DamCF  
1.6边缘圆形化 JCz@s~f\y  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 y]2qd35u_A  
1.8表面纹理结构 +)kb(  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 E>&n.%  
1.10太阳电池的表面纹理结构 E_Im^a  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 D Gr> 2  
1.12成形金属基准层的制造工艺 4Yxo~ m(  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 wDcj
,:h`  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 s<*XNNE7  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 /rg*p  
致谢 if}-_E<F  
参考文献 SLO%7%>p  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
q:l>O5  
2.1概述和回顾 aki_RG>U'  
2.2基本的刻蚀处理技术 =6woWlfb  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 c#a@n 4  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 w<zIAQN  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 7Ok;Lt!x  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 g1XZ5P} f  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 [OHxonU  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 nNrPHNfqD  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 >fe-d#!{  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 *j]9vktH  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 W4hbK9y  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 eyefWn&  
致谢 pF&(7u  
参考文献 < XP9@t&  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 JmPHAUd  
3.1概述 &F\?  
3.2相位掩模技术 d_4T}%q  
3.3光学元件的设计和制造 &Ts-a$Z7?S  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 "u6`m?  
3.3.2相位掩模的设计 S M!Txe#  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 r~N"ere26  
3.4轴对称元件的设计和制造 ~vs}.kb  
3.5结论 5Ycco,x  
参考文献 u1t%(_h  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 T;@;R%  
4.1概述 K/A*<<r ~  
4.2电子束光刻术 $}lbT15a  
4.2.1电子束光刻术发展史 N5*u]j  
4.2.2电子束光刻系统 ~7Ts_:E-  
4.2.3电子束光刻技术 C3< m7h  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 fNb`X  
4.3.1回顾 -`<kCW"  
4.3.2硅 hc~s"Atck  
4.3.3砷化镓 {S,l_d+(  
4.3.4熔凝石英 (ohq0Y  
4.4光学器件加工实例 Y3r%B9~  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 D
_/^+H]1  
4.4.2熔凝石英微偏振器 Qi_>
Mg`x  
4.4.3砷化镓双折射波片 :/:.Kb  
4.5结论 #k_HN}B  
致谢 !6s"]WvF  
参考文献 mocI&=EF2X  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 JAAI_gSR3  
5.1概述 Q>/C*@  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 P8^hBv*  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 zXv3:uRp.  
5.3.1纳米压印组件和工艺 :>D[
n1v  
5.3.2纳米压印设备 bA\<.d  
5.4商业化器件的应用 p[<Dk$7K  
5.4.1通信用近红外偏振器 W5?yy>S6N  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 6fd+Q /  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） |AcRIq  
5.4.4高亮度发光二极管 NG  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 }| J79s2M  
5.4.6多层集成光学元件 70f Klp  
5.4.7分子电子学存储器 q6_u@:3u  
5.4.8光学和磁数据存储 'rMN=1:iu"  
5.5结论 L,mQ   
致谢 *.\  
参考文献 '|S%aMLZ)  
第6章平面光子晶体的设计和制造 pX&pLaF  
6.1概述 !PrwH
;  
6.2光子晶体学基础知识 o4*+T8[|5  
6.2.1晶体学术语 8wVY0oRnU  
6.2.2晶格类型 :T]o)  
6.2.3计算方法 A-,up{g  
6.3原型平面光子晶体 0$7s^?G0  
6.3.1电子束光刻工艺 Kl2lbe7  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ~=8uN<  
6.3.3时间复用刻蚀 KN7^:cC  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Lb;zBmwB  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 3pK*~VK  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 2zVJ
vn7  
6.4.2负折射 YyTSyP4  
6.5未来应用前景 cU{e`<xjA  
参考文献 Kv.>Vf.T}_  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 -8r  
7.1对称性、拓扑性和PBG TJ:]SB  
7.2金属光子晶体 Ku\Y'ub  
7.3金属结构的可加工性 ,$'])A?$  
7.4三维光子晶体的制造 Ga#:P F0  
7.5胶体模板法 qZ}P*+`Q  
7.6微光刻工艺 Gm9hYhC8  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 1Ab>4UhD  
7.8膜层应力 OiE;B  
7.9对准 -RS7h  
7.10表面粗糙度 n|b5? 3  
7.11侧壁轮廓 z)z{3rR|PW  
7.12释放刻蚀 5aln>1x>hn  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 F)
+{AQL  
7.14结论 Pu"R,a  
致谢 p/U+0f  
参考文献