光弹调制器

发布:昊量光电 2012-08-23 10:15 阅读:2034
美国Hinds Instruments, Inc公司是世界著名的(同时也是世界唯一的一家)光弹调制器(photoelastic modulators)生产商。Hinds Instruments公司的PEM光弹调制器可以控制光束的偏振状态的改变,调制速率为20~100kHz。光弹调制器(PEM)的作用就像一个“动态的波片”,可以使快轴和慢轴之间产生一个周期变化的折射率差,从而控制透过光束的偏振进行周期性的变化。具体而言即,光弹调制器(photoelastic modulators)通过对线偏振光添一定的相位使输出光在圆偏振、椭圆偏振、线偏振等状态之间井进行变化,同时光弹调制器(PEM)还可以使光在左旋、右旋两种状态之间进行切换。 "ktuq\a@  
NUYKMo1ze  
5<dg@,\  
光弹调制器对比声光调制器、电光调制器、液晶调制器的独特之处包括: \L(cFjLIl  
isL zgN%  
~^' ,4<K-}  
    非常大通光孔径(15到30mm,标准),同时保持很高的调制器频率 t<Yi!6  
    超大接受角度(市场角)范围(+/- 20°) GLtd<M"  
    波长覆盖范围大(170nm~10um,FIR~THZ) )~wKRyQff  
    高损伤阈值 1OM Xg=Y  
    可精确控制相位延迟 =WT$\KYGv  
=|z:wlOs  
T<pG$4_  
PEM光弹调制器电学和光学头封装在不同的部件中。这样能够最小化光学系统单元的尺寸,同样也使得光学头与磁场或真空兼容(当这些有需要的时候)。 H9(?yI@Zr#  
/ovVS6Ai  
Dhn7N8(LF!  
J;>epM ;*  
需要进一步了解关于光弹调制器原理,请点击这里 "iK= 8  
HXa[0VOx  
dR]-R/1|  
(0NffM1  
应用举例: Dm)B? H"  
Sk|e#{  
光弹调制器在偏振方向调制中的应用介绍.pdf tRdf:F\X  
Jr !BDg  
9-c3@ >v  
:Ph>\aG  
L5FOlzn  
Hinds Instruments光弹调制器主要分为两个系列: 1p. c6[9 -  
eT".psRiC  
GP%V(HhN  
Series I 系列光弹调制器使用矩形光学原件,波长覆盖紫外、可见光和红外至1或者2um。 =o##z5j K  
&!CVF  
Series II系列光弹调制器使用对称或者八角形的光学原件,波长覆盖可见和红外(到中红外)频谱区域。特殊的型号可用于紫外。 t`H1]`c?  
9S|sTf  
%v8 &  
}i~k:kmV  
Hinds Instruments公司光弹调制器的光学头使用不同的光学材料,材料的选取主要取决于仪器频谱透射率的需要。表1列出了通常使用的材料。 (kLaXayn  
$os]$5(  
@.W;3|~qc  
 B(;MI`  
TABLE 1 $IE}fgA@5  
   uslu-|b!%  
    1c0' i  
,- AF8BP  
SPECTRAL REGION dxs5woP  
SERIES ez'NHodwk2  
MATERIAL @JbxGi  
d&Nnp jH}c  
Vacuum UV, UV <YU?1y?V  
I G JRl{Y  
Lithium Fluoride n= <c_a)Nb  
.]vb\NBK7  
Vacuum UV to mid-IR 4,sE{%vb  
I,II 0~ho/_  
Calcium Fluoride xvOz*vM?  
RK!9(^Ja  
Vacuum UV to near-IR '. "_TEIF  
I,II x fb .Z(  
Fused Silica TGF$zvd  
0zH-g  
Mid-visible to mid-IR  =1Sny7G  
II *-9i<@|(U^  
Zinc Selenide C.S BJ  
EVqW(|Xg  
Near- to mid-IR z}MxMx c4h  
II sv=U^xI  
Silicon 3lp'U&3`5  
~!Nj DDk  
*K|~]r(F?  
3*h"B$g!  
<,)R`90_X6  
相对于Series II八角形光学元件,Series I矩形的光学元件在相同厚度的情况下,相位延迟量更少。在红外波段,这是一个缺点,但是在紫外波段,尤其是真空紫外,这则变成为了一个很大优点。 n*7^lAa2  
/2Wg=&H  
=>;&M)+q  
/"Vd( K2Z  
<r#FI8P;X  
八角形(Series II)光学元件在给定的厚度下更加的有效率,因此在红外波段有更多的优势。使用Series II操作低延迟量(例如:深紫外)或许会造成一些问题。 oy8jc];SO  
v?VDASR2`  
 cHvm  
@ual+=L  
kGV:=h  
?62Im^1/  
可选选项(规格和价格会因为客户需要而改变,详情询问昊量光电的工程师) !.6n=r8 d  
<<0sv9qw1  
LaQ7A,]  
    增透膜,Model ARC。防反射膜可用于任何光学调制器上,窄带宽和宽带宽镀膜都可得。 f}bq  
    请联系昊量光电关于频谱范围和透射率要求 p]mN)  
    无干涉选项,Model NIO。这一项用于偏转光束路径,因此消除了调制器干涉 E y:68yU  
    特殊频率,Model SFO。标准的调制头配以特殊频率 %V>%AP  
    特殊光学头/电学头电缆,Model SLHH N9!L8BBaK  
    特殊调制头附件,Model SHE。光学头可以根据客户需要提供特殊形状 t+U.4mS-  
    真空操作。PEM可用于真空环境,详情请询问Hinds %R >n5m  
           磁场兼容选项,Model MFC。光学头不含任何磁铁材料,用于强磁场中 01'>[h#_n  
hoq2zDjD  
u#Ig!7iUu  
Yj@ Sy  
基本指标 9O 'j+?(`@  
#s{^fUN6  
+4:eb)e  
Model o-rX4=T  
Optical Material F@?-^ E@  
Nominal qnp}#BZ  
&3t973=  
Frequency >`AK'K8{M  
Retardation Range 8._uwA<[  
Useful Cx2# 0$  
-Rpra0o. C  
Aperture1 LFax$CZc  
e{E\YEc  
Quarter Wave UQDAql  
Half Wave nB`|VYmOP1  
q}t]lD %C  
I/FS50 z,aMbgt  
Fused Silica =Ydrct  
50 kHz  @/s|<*  
170nm - 2μm r]!#v{#.  
170nm - 1μm B $g\;$G  
16mm @S@VsgQ%3Z  
y^C5_w(^jZ  
I/FS20 ]AYP\\Xi  
Fused Silica 1'o[9-  
20 KHz rn|]-^ku/  
170nm - 2μm !i t orSl  
170nm - 1μm +;~N; BT  
22mm 6bPxEILm  
vW &G\L  
I/CF50 !`e`4y*N  
Calcium Fluoride W_}j~[&  
50 kHz W4o8]&A  
130nm - 2μm ;<M}ZL@m  
130nm - 1μm uA#K59E+  
16mm |<u+Xi ~  
m8L *LB  
II/FS20A 0''p29  
Fused Silica Rt?CE jy  
20 kHz ~LuGfPO^  
170nm - 2μm Kzrd<h]`)  
170nm - 1μm SZW_V6\t>  
56mm  g!}]FQBb  
)J[m>tyY5  
II/FS20B j1;[6XG  
Fused Silica +ALrHFG  
20 kHz Ye3o}G9z  
1.6μm - 2.6μm v/ N[)<  
800nm - 2.5μm v^ ^Ibv  
56mm Es+I]o0K  
+bE{g@%@ +  
II/FS42A R$awo/'^  
Fused Silica /F;2wT;  
42 kHz vcFR Td  
170nm - 2μm _p6 r5Y  
170nm - 1μm Q2 !GWz$  
27mm ZR\N~.  
3*<@PXpK&  
II/FS42B 3JGrJ!x  
Fused Silica ',R%Q0Q  
42 kHz C$[iduS  
1.6μm - 2.6μm !+eU  
800nm - 2.5μm -| FHv+  
27mm 08xo_Oysq  
q~}oU5  
II/FS47A OdFF)-K >~  
Fused Silica ^W$R{`  
47 kHz z0rYzn?MR  
170nm - 2μm b,+Sa\j)(  
170nm - 1μm LL e*| :  
24mm ];k!*lR)  
a_c(7bQ  
*F%1~  
2VY7?1Ab(@  
II/FS47B mI7lv;oN<5  
Fused Silica hZ1enej)  
47 kHz /''=V.-N  
1.6μm - 2.6μm #A5X ,-4G  
800nm - 2.5μm `o#(YEu  
24mm  skl3/!  
}W'j Dz7O  
II/FS84 +UDt2  
Fused Silica 5! );4+  
84 kHz Zy+ERaF|]  
800nm - 2.5μm F{jxs/~  
400nm - 2.5μm y>=YMD  
13mm y!1X3X,V  
b3%x&H<j  
II/IS42B /C8}5)  
Fused Silica ?TpjU*Cxy  
42 kHz }OEL] 5  
1.6μm - 3.5μm )'m;a_r`  
800nm - 2.5μm 0 8)f  
27mm o:{Sws(=  
3*I\#Z4p1  
II/IS84 tF),Sn|*  
Fused Silica w=XIpWl  
84 kHz %JBLp xnq  
800nm - 3.5μm '/<\X{l8  
400nm - 1.8μm {Lal5E4-  
27mm Q`*U U82!  
PR"x&JG@  
II/CF57 sAc1t`  
Calcium Fluoride RVA ku  
57 kHz  +#,J`fV%  
2μm - 8.5μm (xW+* %  
1μm - 5.5μm qfXt%6L  
23mm Lan|(!aW  
l8?C[, K%  
II/ZS37 4}DFCF%B  
Zinc Selenide 8;pY-j #  
37 kHz s/hgWW$  
2μm - 18μm R{c~jjd  
1μm - 9μm I8!>7`L  
19mm ,G0"T~  
6MM\nIU)/  
II/ZS50 P@@MQ[u?!.  
Zinc Selenide )!0}<_2  
50 kHz  jfK&CA  
2μm - 18μm y]t19G+  
1μm - 10μm eikZ~!@  
14mm )&T 5 /+  
K9ia|2f  
II/SI40 g^ ?G)>  
Silicon d,?D '/  
40 kHz ]*=!lfrV  
FIR - THz HTQTDbhV^  
FIR - THz P Ptmh. }e  
36mm E] g Lwg9K  
Wi=zu[[qc  
II/SI50 fNi&r0/-t  
Silicon 2'=)ese  
50 KHz Vj4 h#NN$  
FIR - THz  d;>G  
FIR - THz Jvc<j:{^w  
29mm b4wT3  
/1Gmga5  
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