ZEMAX光学系统设计高级培训班北京6月25日-28日

发布：optotek_gk 2012-05-10 17:19 阅读：6433

南京光科信息技术有限公司光学系统设计高级培训课程
培训地点：北京理工大学
培训时间：2012年6月25日-6月28日共4天
课程费用：￥4500元课程编号：ZEMAX AD

课程内容：ZEMAX高级优化激光物理光学POP ZEMAX加工公差分析 ZPL宏语言编写 DLL动态链接库自定义面型 ZPL光纤公差分析

培训关键词：光学设计高级培训 ZEMAX软件光学软件公差分析 ZPL宏语言 ZEMAX自定义面型光科独创核心技术

课程特色及对象：

高级课程内容，针对具有一定经验的光学设计及ZEMAX光学工程师
主要针对企业中的ZEMAX软件使用的高级工程师
深入讲解光学镜头ZEMAX优化技术及技巧，详细讲解ZEMAX计算光学镜头的加工工艺及公差分析
ZPL宏语言编写，分享及深入剖析多个光科OPTOTEK独创ZPL扩展的ZEMAX功能

报名电话： 025-84305866 陈小姐

G5@fqh6ws 上课时间	第一天	第二天	第三天	第四天
N#-\JlJ) 9:00-10:30	6!Lq ZEMAX的优化方法 }[R@HmN 优化及评价函数的使用 nf@u7#6 ZEMAX全局搜索建立初始结构	~w}[ ._'#M ZEMAX物理光学传播POP _A0avMD} 激光二极管在ZEMAX中的设置 Vy*Z"k LD参数针对ZEMAX的转换	S{\|)9EKw ZEMAX的高级公差 OL+40J 用户自定义公差 @<{#v.T 根据制造商编写公差数据	&ZFAUE,[ ZEMAX的高级编程 @V CQ4X7T ZPL自定义求解类型 / {bK*A! ZPL语言实现自定义公差分析
D`@U[`Sw 10:30-10:45	课间休息	课间休息	课间休息	课间休息
&!aLOx*3` 10:45-12:00	jWmBUHCb 典型成像镜头的优化设计 dM$G)9N)K ZEMAX 几何及衍射光学分析 Qvg"5_26v 台阶式二元光学衍射面的优化	\|*\| a~t ZEMAX高级案例 f9bz:_;W_ ZEMAX设计CD、DVD读写头 q2pao?aa DVD读写头装配及产线测量工艺	OmuZ0@. ZEMAX的高级公差 ,TA[el%# ZEMAX敏感度分析加工指导 rKO*A7vE 光学镜头的公差优化	gQt@xNO ZEMAX 扩展程序的编写 P`v~L;f ZEMAX中编写C语言程序 9 3I9`!e 使用VC++编写ZEMAX程序
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KPcuGJ 14:00-15:30	W{/z-& ZEMAX高级案例 c&W.slE6 尼康广角长焦距变焦镜头设计 (:muxby% ZEMAX进行变焦凸轮曲线设计	;5_S ZEMAX高级案例 q%&7J< 单模光纤耦合效率优化 &Rt]K 多模光纤耦合效率优化	=5eDT~=2{U ZEMAX的高级编程 p&27\|1pZm ZPL语言的的关键字及函数 #al^Uqd 宏语言的自动调用	-+Dvyr ZEMAX Matlab 数据调用 ^( VB5p 用户自定义DLL动态链接库 AWNd(B2o 使用C语言编写自定义面型
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