TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:6055
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 f1/i f:~6  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 d0 yZ9-t  
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照明课程费用 ¥3000元 KHt#mQy)9  
NE!]  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 &0@AM_b  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 .?-]+ -J?`  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 Vb8{OD3PK  
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DP7B X^e  
课程名称
]AdL   
课程编号
,[ M^rv  
课程日期
yDBMm^  
课程地点
wE09%  
授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
H=7Nh6v  
TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
C*,PH!$k  
3月22日-3月23日
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南京
&Kc'g H  
TracePro
T6p2=o&p  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
5iP{)  
TracePro
5Gsjt+ o  
TracePro 照明设计培训课程
~l>2NY  
TP
cvl1 X"  
7月7日-7月8日
2*@.hBi  
南京
9Kd:7@U  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
joJ:* oL  
9月10日-9月11日
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深圳
[I7([l1Wvd  
TracePro
Pi:=0,"XOp  
TracePro 照明设计培训课程
"f<+~  
TP
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10月20日-10月21日
H@hHEzO  
北京
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TracePro
Di8;Tq  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
TdH~ sz  
12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
sOLR*=F{  
本课程特色: PFnq:G^L  
^L;k  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 v"a.%" oN8  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 _ 0Ced&i  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 oc3}L^aD  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 3teanU`  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 qo" _w%{  
Rk.GrLp  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 P",E/beV  
v<U +&D{  
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TracePro 照明设计培训课程表 gELb(Y\ak  
\9t6 #8  
上课时间
|]9Z#lv+I  
第一天
=q-HR+  
第二天
] /{987  
9:00-10:30 +B0G[k7  
!HP/`R  
简单的照明系统实例光通量计算 \v}3j^Yu  
色度学与应用CIE色坐标
qxe%RYdA'j  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 d(-$ { c  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
|r=.}9 -  
10:30-10:45
U\Hd?&`9gz  
课间休息
xz$S5tgDQK  
课间休息
d4#Ra%   
10:45-12:00
z.7'yJIP#  
LED色度学实例快速导览TracePro   _ooSMp|  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 (\6R"2  
TracePro的系统树
JrdH6Zg  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: Q5s?/r  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 SAEV "  
3 照明透镜均匀化设计优化
>O{/%(9  
12:00-14:00
0w_2E  
午餐
`1[GY){?)  
午餐
S3k>34_%9  
14:00-15:30
'Na/AcRdg  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 k5@_8Rc  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 tyLR_@i%%  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 9#;UQ.qA  
导入原厂IES光源
d^w*!<8  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 /B?hM&@z  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 i Y2%_b!5  
反光杯面型设计优化
&Tf R].  
15:30-15:45
;#$zHR  
课间休息
A<&:-Zz  
课间休息
Y{8L ~U:  
15:45-17:00
c[Mz#BWG  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 ,A>i)brc  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
o\luE{H .?  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 :-f"+v  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
(pjmE7 `"P  
63$ R')  
第一天课程内容 M]>JI'8  
LQMVC^ G  
2,>q(M6,EA  
光度学与色度学 +(3PY  e\  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 8elT/Wl  
rGZ@pO2  
光源建模 光线追迹 \\D~Yg\#  
照度分析 a91Q*X%  
光强分析 uK?T <3]'  
H\kqmPl&  
物体建模练习 X |f'e@  
3D模型文件导入导出 hfvs' .  
m,u? ^W  
7#,+Q(2  
IES文件导入 ;D/'7f7.}  
光科IES文件生成器的使用  *ihg'  
nDvny0^a  
方光手电筒设计 |jV4]7Luq  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC RU `TzD  
J<_&f_K0]  
光源数据图形识别 <EI'N0~KG  
表面光源特性生成器 is}Fy>9i  
MjU>qx::  
XEZ6%Q_  
光线追迹保存光源数据文件 xiRTp:>  
手动建立SIEMENS LED %!rsu-W:Y  
T6H"ER$  
散射ABg模型 反射 透射 )K2n!Fbd  
人眼观察效果-亮度计算 oRu S_X  
McnP>n  
CREE Xlamp 系列光源 XB;;OP12  
手电筒透镜设计实例 zMrZ[AU  
]Wa,a T'  
第二天课程内容 Gz*U?R-T  
l!iB -?'u  
LED反光杯矿灯设计实例 72-@!Z0e  
&P ;6P4x  
练习:1 >5 5/@+^  
GW $iK@  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 k5xirB_  
Q}2w~Cn\S  
PMMA 直径 < 23MM YgWnPp  
'`o+#\,b^%  
练习:2 5. l&nt'  
&2\.6rb.  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 nMc-kyl{  
hV8A<VT  
TracePro的自动优化 R1q04Zj{2  
光源坐标优化光效 */8\Z46z  
反光杯准直优化 \W@?revK  
吸顶灯均匀光斑自动优化 n(o Jb  
98O z  
LED透镜均匀光斑自动优化 hG;u8|uT^i  
反光杯均匀光斑自动优化 ;8 b f5  
*pWswcV/  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 jN {ED_  
(~#PzE :  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 "{0kg'fU  
2C8M1^0:Z  
设计过程: q5RLIstQ\  
第一步:打开初始文件 ZK'I$p]b  
光源Source 调节光线数量 oL6_Ya  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 -0\$JAyrx  
uw<Ruy  
第二步:执行Macro 了解主要参数 er<~dqZ}]  
透镜 中心厚度 外径 d~_OWCg`  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) ):[[Ch_  
7PvuKAv?k  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 FP\[7?ZLn  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) D>1Dao  
7xd}J(l  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 >ab=LDoM  
增加光线数量,看最终效果 Je*gMq:D  
{"y 6l  
设计过程参数: 3~S~)quwP  
5y~[2jB:  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) `150$*K&B  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) L`p[Dq.  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) a[JgR/E@x  
G dooy~cn  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 bBQp:P?E  
Fq3;7Cq=hD  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 PQs9@]w[  
]zm6;/ S  
CPC TIR透镜设计 >pYgF =J  
]Lh\[@#1f  
阵列Macro的使用 8_ LDS  
双向非球面Macro >ylVES/V  
9PBmBP ~  
花生粒LED路灯透镜设计 HvngjP{>  
LED投影机的整体设计 {%$=^XO  
5Tu.2.)N  
Tv KX8m"  
qnlj~]NV  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 F~Li.qF  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 x6t;=  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 Yx"z&J9 p  
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