TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5903
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 b1xE;0uR  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 g%2G=gR$?z  
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照明课程费用 ¥3000元 L F?/60  
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南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 .0Ud?v>=  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 _/[qBe  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 q/U-WQ<+  
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课程名称
+Q&l}2  
课程编号
6/!:vsa"3  
课程日期
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课程地点
QW..=}pL  
授课软件
sbvP1|P8%  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
GtRpgM  
2月18日-2月19日
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深圳
tbQY&TO1  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
COi15( G2  
TP
F'~r?D  
3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
TF%n1H-sF  
TP
a- *sm~u  
4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
`=Mk6$%Cs  
TP
df{?E):  
7月7日-7月8日
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南京
e {6wFN  
TracePro
zDg*ds\  
TracePro 照明设计培训课程
R/u0,  
TP
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9月10日-9月11日
Iq|h1ie m+  
深圳
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TracePro
u`EK^\R  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
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10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
gvVy0nJI~  
TP
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12月8日-12月9日
K-YxZAf  
深圳
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TracePro
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本课程特色: }51QUFhL0  
}[%F  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 qX&+  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 zGe =l;  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 x~'_;>]r_  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 Ob%iZ.D|3<  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 X6sZwb  
wgDAb#Zuk  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 (muJ-~CJk  
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TracePro 照明设计培训课程表 02 FLe*zQ  
i K@RQi  
上课时间
5I* 1CIO  
第一天
pg!mOyn  
第二天
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9:00-10:30 EQnU:a  
FoIK, MdJ  
简单的照明系统实例光通量计算 `?:{aOI  
色度学与应用CIE色坐标
uP7|#>1%  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 r:xg#&"*  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
gISA13  
10:30-10:45
H/f}t w  
课间休息
x8z6 <  
课间休息
'bv(T2d~~  
10:45-12:00
zCq6k7u  
LED色度学实例快速导览TracePro   'Q'-7z-6  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 ?@A@;`0Y  
TracePro的系统树
q.:a4w J  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: GDj_+G;tO\  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 }+ W5Snx  
3 照明透镜均匀化设计优化
"6e3Mj\  
12:00-14:00
.&=\ *cZc  
午餐
c5CxR#O  
午餐
<q MX,h2  
14:00-15:30
a Sm</@tO&  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 i(u zb<  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 C#&b`  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 7DW-brd   
导入原厂IES光源
9<Zm}PE32  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 U ;4;>  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 "{{@N4^  
反光杯面型设计优化
N9c#N%cu  
15:30-15:45
_#<l -R`  
课间休息
TR?jT U  
课间休息
Mc  
15:45-17:00
G*v,-O  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 kSJ:4!lFU  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
Cn9MboXX  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 RXPl~]k#i  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
Xp^>SSt:4  
+'e3YF+'  
第一天课程内容 y9:o];/  
B*Q.EKD8s  
'?|.#D#-c  
光度学与色度学 5o|u!#6  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 ~"~uXNd  
bF@iO316H  
光源建模 光线追迹 {-IRX)m*  
照度分析 qyzeAK\Ia  
光强分析 m<9W#  
[s!cc:JR  
物体建模练习 $L"-JNS  
3D模型文件导入导出 v2#qs*sW8  
Z*5]qh2r8  
(i'wa6[E8  
IES文件导入 4p&SlJ  
光科IES文件生成器的使用 RG_)<U/B  
K)oN^  
方光手电筒设计 H% c{ }F  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC 0xutG/-&N  
5al44[  
光源数据图形识别 xeHqC9Ou  
表面光源特性生成器 7w"YCRKh  
Kib?JRYt  
rNHV  
光线追迹保存光源数据文件 20uR?/|@  
手动建立SIEMENS LED =>h~<88#5  
@l2AL9z$m>  
散射ABg模型 反射 透射 T\HP5&  
人眼观察效果-亮度计算 Xp3cYS*u  
#^/&fdK~A  
CREE Xlamp 系列光源 [26([H  
手电筒透镜设计实例 ~Urj:l  
DU4Prjb'  
第二天课程内容 cXokq  
ph1veD<ZZ  
LED反光杯矿灯设计实例 t\+vTvT)RE  
0:Lm=9o  
练习:1 whg?X&j\V  
pRdO4?l  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 1z(y>`ZBq  
dQFx]p3L  
PMMA 直径 < 23MM {z%%(,I  
cYTX)]^u  
练习:2 dTP$7nfe  
l>9ZAI\^  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 c~Hq.K$d  
Hv>Hz*s_I  
TracePro的自动优化 5k}UXRB?  
光源坐标优化光效 }%rz"kB  
反光杯准直优化 71w$i 4  
吸顶灯均匀光斑自动优化 R=M${u<t  
!$+J7\& 7p  
LED透镜均匀光斑自动优化 N|1k6g=0  
反光杯均匀光斑自动优化 {/ _.]Vh  
1<qq69x  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 VL<)d-  
`}u~nu<  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 >b/0i$8  
#H1yjJQ /x  
设计过程: T[eTT]Z{Ia  
第一步:打开初始文件  Wcn^IQ  
光源Source 调节光线数量 SR S~s  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 |xaA3UA  
;comL29l2`  
第二步:执行Macro 了解主要参数 ziy~~J  
透镜 中心厚度 外径 Oox5${#^  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) femAVx}go  
g;bkV q  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 X;p,Wq#D'  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) =RUKN38  
gzHjD-g-<  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 $0K9OF9$  
增加光线数量,看最终效果 :h3 Gk;u  
Md[nlz  
设计过程参数: d8 ve$X  
TZZ qV8  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) J2H8r 'T  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) Md_\9G .e  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) diqG8KaK  
A HKS [ N  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 +]  |J  
s6).?oE  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 H, =??wN  
Jo h&Ay  
CPC TIR透镜设计 %-T]!3"n  
P[ KJuc  
阵列Macro的使用 Mp$ uEi  
双向非球面Macro dmrM %a}W-  
Cl>'K*$F  
花生粒LED路灯透镜设计 P67r+P,  
LED投影机的整体设计 })bTQj7  
k2*^W&Z  
?^IM2}(p  
NCSb`SC:  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 NY1olnI  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 yZA }WTGe  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 b^5rV5d  
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