TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5659
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训  ja- ~`  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 ~9{;V KgK  
So.P @CCd  
照明课程费用 ¥3000元 =Fy8rTdk6r  
GTe:k  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 gCr|e}w-  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 =L),V~b  
S!W/K!wf  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 .4FcZJvy  
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课程名称
9XqAjez\  
课程编号
e)dWa'2<  
课程日期
poYAiq_3T  
课程地点
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授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
w1@b5-  
TP
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3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
Gh[`q7B Q  
TracePro 照明设计培训课程
Xu94v{u3  
TP
A :bPIXb  
4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
QK!:q{  
7月7日-7月8日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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9月10日-9月11日
'*N9"C  
深圳
EhIV(q9x  
TracePro
A?IZ( Zx(`  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
SQt|(r)  
10月20日-10月21日
BnaU)E h  
北京
?7kV+{.  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
oa &z/`@  
12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
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本课程特色: HLSfoQ&)v  
6/mkJj+"  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 @UpC{M--Wr  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 C](z#c~c  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 ^0Q=#p  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 \U!@OX.R'M  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 oT|P1t.  
%]chL.s  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 %|*nmIPq(  
NDRW  
Cgz&@@j,]  
TracePro 照明设计培训课程表 &gA6+b'  
-OrY{^F  
上课时间
vr{'FMc  
第一天
QOT)x4!)  
第二天
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9:00-10:30 ` y^zM/Ib  
){+[$@9  
简单的照明系统实例光通量计算 Gpdv]SON{  
色度学与应用CIE色坐标
c{mKra  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 2#AeN6\@  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
E[jXUOu-  
10:30-10:45
YgfSC}a  
课间休息
}z%OnP  
课间休息
I%}L@fZ  
10:45-12:00
Vl{~@G,@  
LED色度学实例快速导览TracePro   |jahpji6  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 7_Ba3+9jpa  
TracePro的系统树
6_R\l@a  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: y@o9~?M  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 ptV4s=G2  
3 照明透镜均匀化设计优化
{H=oxa  
12:00-14:00
,8c dXt   
午餐
_m9~*  
午餐
T[0V%Br{d+  
14:00-15:30
5Noe/6  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 ^uyNv-'F  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 y#S1c)vU  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 O9t=lrYV!  
导入原厂IES光源
F+ffl^BQ  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 L]k*QIn:h  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 9?uqQ  
反光杯面型设计优化
|Du,UY/  
15:30-15:45
%{R _^Y8t  
课间休息
H<`^w)?  
课间休息
|}_gA  
15:45-17:00
2?GXkPF2;A  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 Y 3o^Euou  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
Ln ~4mN^  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 uuu\f*<  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
r_Lu~y|  
S?*^>Y-e;  
第一天课程内容 C/F@ ]_y  
|/@0~O(6  
sf Dg/ a  
光度学与色度学 C@%iQ]=  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 o;3j:# 3 |  
SK's!m:r=  
光源建模 光线追迹 "E.\6sC  
照度分析 }dy9I H  
光强分析 G9\EZ\x!  
%VzYqj_P"  
物体建模练习 /sy-;JDnsu  
3D模型文件导入导出 6hZ.{8e0  
8{oZi]ob  
t-_#Q bzE{  
IES文件导入 j*XjY[  
光科IES文件生成器的使用 f[x~)=  
xXOR IlD  
方光手电筒设计 neF8V"-u&  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC c8T/4hU MN  
>gr<^$  
光源数据图形识别 W:WQaF`2x  
表面光源特性生成器 ,ohmc\*J  
wY/bA}%  
> 84e`aGE  
光线追迹保存光源数据文件 +6 ho)YL  
手动建立SIEMENS LED \fTTkpM  
6VC-KY  
散射ABg模型 反射 透射 *\D}eBd|  
人眼观察效果-亮度计算 +vf:z?I8  
[~COYjp  
CREE Xlamp 系列光源 }7%9}2}Iw  
手电筒透镜设计实例 >E, Q  
f_rp<R>Uu  
第二天课程内容 ((qGh>*  
F'1k<V?  
LED反光杯矿灯设计实例 xpAok]  
M;qBDT~)  
练习:1 K!p,x;YX  
^_sQG  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 P/G>/MD/l  
$%=G[/i'  
PMMA 直径 < 23MM "TfI+QgLF  
_C20 +PMO  
练习:2 teAukE=}  
d .p'pGL  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 e gI&epN  
m^Glc?g<  
TracePro的自动优化 6AAswz'$P  
光源坐标优化光效 U9 bWU'  
反光杯准直优化 L/yaVU{aEb  
吸顶灯均匀光斑自动优化 6|5H=*)DH  
D^|9/qm$  
LED透镜均匀光斑自动优化 g rspt}  
反光杯均匀光斑自动优化 BKay*!'PX  
eeW`JG-E  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 h,t:]  
<[ZI.+_Wt  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 n}JPYu  
&pL/ @2+  
设计过程: ~@D/A/|  
第一步:打开初始文件 wG8 nw;  
光源Source 调节光线数量 gqfDa cDJL  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 ?`H[u7*%  
<!F3s`7~  
第二步:执行Macro 了解主要参数 5]d{6Nc3P  
透镜 中心厚度 外径 {~_ Y _-  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) 'OD) v  
/OG zt  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 M?$ZJ-  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) O%&cE*eX  
H O*YBL  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 o/^1Wm=  
增加光线数量,看最终效果 h&`y$Jj  
6e.[,-eU  
设计过程参数: =ewyQ  
Juu+vMn1  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) moZm0` WR  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) Bd# TUy  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) <*wM=aq  
s$ z2 c  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 ]Lm'RlV  
y`S o&:1  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 - {{[cT I  
S)7/0N79A  
CPC TIR透镜设计 R,,Qt TGB  
J+ts  
阵列Macro的使用 E oe}l   
双向非球面Macro ^~1<f1(  
+ >nr.,qo3  
花生粒LED路灯透镜设计 gCJIIzl%Bh  
LED投影机的整体设计 u-:Ic.ZV  
` >U?v  
J# EP%  
jDX>izg;V  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 Q2QY* A  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 d%ME@6K)  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 Z :nbZHByh  
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