TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5696
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 d<Q%h?E  
]k7%p>c=B  
2012年举办城市 深圳、南京、北京 5 D^#6h 4  
@_-,Q5  
照明课程费用 ¥3000元 rM A%By^L-  
*!&?Xy%\"j  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 l9a81NF{s  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 |/n7(!7$[v  
%,02i@Fc  
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YARL/V  
科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 "49dsKIOH  
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Kd+E]$F_OH  
sfn^R+x4,9  
课程名称
H8 ? Y{H  
课程编号
uZrp ^  
课程日期
%~Rg`+  
课程地点
Y8v[kuo7  
授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
(P-^ PNz&  
2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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7月7日-7月8日
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南京
|*g#7 YL  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
Lv%t*s2$/  
TP
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9月10日-9月11日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
V>)/z|[  
12月8日-12月9日
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深圳
T]&?^QGAZ  
TracePro
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本课程特色: &57~i=A 3  
GZrN,M  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 q`2dL)E  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 }9\6!GY0  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 "M iJM+,  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 U~ a\v8l~  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 vPYHM2  
2H9hN4N  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 ^|Fy!kp  
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TracePro 照明设计培训课程表 7"'PfP4c  
>Df; 1:U  
上课时间
(VM CVZ  
第一天
xgIb6<qwY  
第二天
)JTQZ,f3]  
9:00-10:30 nn:'<6"oV  
uNuFD|aQ.  
简单的照明系统实例光通量计算 iKPgiL~  
色度学与应用CIE色坐标
I[K4/91  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 au50%sA~  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
Gy):hGgN  
10:30-10:45
&K'*67h  
课间休息
--l UEo~  
课间休息
\w1XOm [)  
10:45-12:00
? eX$Wc{  
LED色度学实例快速导览TracePro   c;q=$MO`  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 }gX hN"  
TracePro的系统树
sHBTB6)lx  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: W3UxFs]$  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 c$ib-  
3 照明透镜均匀化设计优化
T_Tu>wQX  
12:00-14:00
F5x*#/af  
午餐
F68e I%Y  
午餐
Ve"(}z  
14:00-15:30
s&V sK#  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 M-h+'G  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 m0^ "fMV  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 8~Zw"  
导入原厂IES光源
1\@PrO35J  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 {c3FJ5:  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 Gf#l ^yr   
反光杯面型设计优化
tc`3-goX  
15:30-15:45
D mi.@.  
课间休息
Zx{Sxv"  
课间休息
V0>[bzI  
15:45-17:00
E]n]_{BN]  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 (OES~G  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
h&L-G j  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 O6?{@l  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
^(+q 1O'  
AC <2.i_  
第一天课程内容 QpQ2hNf  
I>nYI|o1  
S[$9_Jf  
光度学与色度学 B6&[_cht  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 0!YVRit\N  
&S+*1<|`K  
光源建模 光线追迹 bs\k b-\R  
照度分析 ;0m J4G  
光强分析 M/.M~/ ~  
tik*[1it  
物体建模练习 }a!|n4|`  
3D模型文件导入导出 YC 4c-M  
]8}2  
u{=h%d/  
IES文件导入 Ws3z-U>j  
光科IES文件生成器的使用 ) q'D9x9  
nHbi{,3  
方光手电筒设计 wxK71OH  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC [Uq`B &F:  
%K3U`6kHcd  
光源数据图形识别 4.,|vtp  
表面光源特性生成器 3,G|oR{D  
,2Ed^!`  
vA:ZR=)F  
光线追迹保存光源数据文件 p#4*:rpq4  
手动建立SIEMENS LED J&h59dm-  
:9 (kU  
散射ABg模型 反射 透射 3C!|!N1Hn  
人眼观察效果-亮度计算 a'Cny((  
|*J;X<Vm  
CREE Xlamp 系列光源 _z%\53h  
手电筒透镜设计实例 H74'I}  
0&NM=~  
第二天课程内容 y~]D402Cx  
D +0il=5  
LED反光杯矿灯设计实例 "dv\ 9O  
j8e=],sQ  
练习:1 W?E01"p  
L T`T~|pz  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 mp sX4  
9(HGe+R4o  
PMMA 直径 < 23MM 6@# =z  
4IW90"uc  
练习:2 %2D'NZS  
qOpwl*?x+  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 6v:L8 t$"  
+fozE?  
TracePro的自动优化 g$)0E<  
光源坐标优化光效  Iw?^  
反光杯准直优化 <w~$S0_  
吸顶灯均匀光斑自动优化 })@xWU6!  
rLD1Cpeb,w  
LED透镜均匀光斑自动优化 D6e?J.  
反光杯均匀光斑自动优化 hA/Es?U]  
.XK3o .ZhW  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 ~yXDN4s  
(K6vXq.;\\  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 d/oD]aAEr  
~IO'"h'w  
设计过程: gJwX  
第一步:打开初始文件 {s*1QBM$\Z  
光源Source 调节光线数量 w H=7pS"s  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 _z]v;Q  
 K\ pZ  
第二步:执行Macro 了解主要参数 `_neYT  
透镜 中心厚度 外径 h^IizrqU  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) BH}rg,]G  
4s>L]! W$8  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 F @t\D?  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) h }&dvd  
3\ )bg R:  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 1$ }Tn  
增加光线数量,看最终效果 H_Hr=_8}-  
qa: muW  
设计过程参数: 7PfNPz<4+  
buKkm$@w  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) g:c?%J  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) /NPx9cLW^  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) )99^58my  
#cD$ DA  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 )WEOqaR]  
N1:)Z`r  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 i-95>ff  
c2gZ<[~  
CPC TIR透镜设计 0"sZP\<p  
.UK`~17!  
阵列Macro的使用 %&'[? LXD  
双向非球面Macro s/;S2l$`  
nGJ+.z  
花生粒LED路灯透镜设计 |D;I>O^"R  
LED投影机的整体设计 FVOPC:}bj  
_lH:%E*  
7/=r-  
UY\E uA9  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 F'@[ b   
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 .Ax]SNZ+:A  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 Jj+Hj[(@  
12
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