TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5337
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 ><i: P*ht  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 9|NH5A"H.  
w9TE E,t;5  
照明课程费用 ¥3000元 Z]08gH  
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南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 :JIJ!Xn)  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 _"[Ls?tRX  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 c<,R,D R  
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课程名称
K5^`,}Q^  
课程编号
eY[kUMo  
课程日期
QJ+Ml  
课程地点
mgMa)yc!dp  
授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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7月7日-7月8日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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9月10日-9月11日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
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本课程特色: @]]&^ 7  
1$+8wDVwad  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 I\x9xJ4x  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节  "iR:KW@  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 Oxa8ue?  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 %`QgG   
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 YWs?2I  
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本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 C fM[<w   
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5\= y9Z- x  
TracePro 照明设计培训课程表 8\^A;5  
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上课时间
Y SB=n d_  
第一天
a+cDH  
第二天
%<x! mE x  
9:00-10:30 6M. |W;  
E3l*_b0  
简单的照明系统实例光通量计算 :o .+<_ &  
色度学与应用CIE色坐标
gnjhy1o  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 ZOMYo]  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
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10:30-10:45
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课间休息
NPS*0y/  
课间休息
EwX{i}j_V  
10:45-12:00
`CH,QT7e  
LED色度学实例快速导览TracePro   7KX27.~F  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 }{VOyPG  
TracePro的系统树
D%nd7 |  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: )Z:D}r8[  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 ];4!0\M  
3 照明透镜均匀化设计优化
YcX\t6VK  
12:00-14:00
($kw*H{Ah^  
午餐
{x.0Yh7  
午餐
)t"-#$,@  
14:00-15:30
@qan&?-Y  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 Pv/ v=s>X  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 a!E22k?((z  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 iGu%_-S  
导入原厂IES光源
eF22 ~P  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 C_kuW+H  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 %ACW"2#(  
反光杯面型设计优化
0Zi+x#&d  
15:30-15:45
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课间休息
t+iHsCG)>  
课间休息
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15:45-17:00
~(ke'`gJ0-  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 Q`<{cFsU  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
xF8n=Lc  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 P .m@|w&.K  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
,M;9|kE*  
Ly+UY.v"  
第一天课程内容 HDhISPg  
]*\MIz{56'  
z6C(?R  
光度学与色度学 `a4&_`E,p  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 kFWwz^x  
Z|uvrFa  
光源建模 光线追迹 Iz09O:ER  
照度分析 <.QaOLD  
光强分析 eZa*WI=  
*y?HaU  
物体建模练习 ,G t!nm_  
3D模型文件导入导出 {,Q )D$i  
F nA Kfh(  
MO8}i?u=z  
IES文件导入 BB/wL_=:  
光科IES文件生成器的使用 nc k/Dw  
OuTV74  
方光手电筒设计 p2Ep(0w,R5  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC |l; Ot=C=  
Nh.+woFq4  
光源数据图形识别 9{jMO  
表面光源特性生成器 Swhz\/u9  
9efDM  
]`&_!T  
光线追迹保存光源数据文件 6(bN*.  
手动建立SIEMENS LED l#KcmOz  
5qtk#FB  
散射ABg模型 反射 透射 Xfq`k/ W  
人眼观察效果-亮度计算 lmzHE8MUNu  
gu(:'5cX  
CREE Xlamp 系列光源 c`!e#w  
手电筒透镜设计实例 d&FXndC4F  
c,~uurVi  
第二天课程内容 3U@jw,K!{A  
)[Tm[o?Y.  
LED反光杯矿灯设计实例 Dt: Q$  
s|Mo3_>  
练习:1 F] c\Qt  
"`49m7q1H  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 xpR`fq  
,TQec:B  
PMMA 直径 < 23MM lvke!~#  
=OH X5:Z  
练习:2 VhUWws3E  
1!v{#w{u7  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 PXMd=,}  
E)_n?>Ar  
TracePro的自动优化 d?*] /ZiR  
光源坐标优化光效 X9m^i2tk  
反光杯准直优化 k: Pn.<  
吸顶灯均匀光斑自动优化 X,k^p[Rcu  
Z=a%)Ki?Ag  
LED透镜均匀光斑自动优化 > <YU'>%  
反光杯均匀光斑自动优化 + `|A/w  
f*o  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 `}Zqmfs  
TJ"-cWpO1  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 lx:$EJ  
GmH DG-  
设计过程: Z3S+")^  
第一步:打开初始文件 Z}+}X|  
光源Source 调节光线数量 dR S:S_  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 ZyGoOk  
~7PD/dre  
第二步:执行Macro 了解主要参数 d0:LJ'<Q  
透镜 中心厚度 外径 L kK *.  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) <w2h@ea  
7iP+!e}$.  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 keAoJeG,J  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) a{nR:zPE  
|R}=HsYey  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 cpdESc9W  
增加光线数量,看最终效果 !Km[Qw k-  
io4<HN  
设计过程参数: pe?)AiTZ:  
l_h:S`z.  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) 7}kJp%-  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) /hl'T'RG  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) lz,M$HG<[  
*fg2bz<~[B  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 <s9{o uZ  
U^dfNi@q  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 C"I jr=w  
;{ifLI0#  
CPC TIR透镜设计 y:;.r:  
/lBK )(  
阵列Macro的使用 %(YQ)=w  
双向非球面Macro xuioU  
P<PZ4hNx  
花生粒LED路灯透镜设计 A=<7*E  
LED投影机的整体设计 sINQ?4_8T  
xp^RAVXq`  
< z<>E1ZLI  
S{=5n R9j  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 2k.VTGak  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 6GxLaI  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 5JzvT JMx  
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