TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 !fZ\GOx  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 oS0l Tf\  
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照明课程费用 ￥3000元 QxH%4 )?  
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南京总部报名电话： 025-84305866 陈小姐 X#'DS&{  
深圳公司报名电话：0755-23116599 郑小姐 ' 7+x,TszI  
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科学合理的授课过程，TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 pYa8iQ`6U;  
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$~!%Px)   课程名称	F{0Z   课程编号	VdjS\VYe,   课程日期	Qn(2UO!pD   课程地点	bGOOC?[UX   授课软件
Wf/r@/q   TracePro 照明设计培训课程	]W~\%`#8?   TP	0_q8t!<xJw   2月18日-2月19日	:m]~o3KRy   深圳	p:Ry F4{b2   TracePro
&a5UQ>   TracePro 照明设计培训课程	W@`2+}   TP	"3.v(GVr   3月22日-3月23日	>h1 3i@`r   南京	3)88B"E   TracePro
5.5<.")   TracePro 照明设计培训课程	4~xKW2*`K   TP	Q)c3=.[>   4月21日-4月22日	WvR-0>E   深圳	nNz1gV:0X   TracePro
E-IVv   TracePro 照明设计培训课程	[~*5uSG   TP	V 6I77z   7月7日-7月8日	w=:o//~6j   南京	WfpQ    TracePro
O42`Z9oK   TracePro 照明设计培训课程	i)y8MlC{   TP	+Ac.@!X}%   9月10日-9月11日	,`PC^`0c}o   深圳	]<L(r,@,   TracePro
p[R4!if2   TracePro 照明设计培训课程	N(uHy@   TP	<|Srbs+   10月20日-10月21日	uonCD 8   北京	2?P H||   TracePro
`ppyCUX   TracePro 照明设计培训课程	M.fAFL   TP	-f pe   12月8日-12月9日	&H8wYs   深圳	WX .Ax$fT   TracePro

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本课程特色： "| Oj!&0  
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从基础到高级的应用，结合实际工程案例进行讲解 fwQVxJe  
LED二次光学设计：手电筒非球面镜头，光斑形状调节 JguPXHa0  
LED路灯二次光学设计，LED阵列设计。照度等多种分析方法。 dUN{@a\R0  
全程操作，全程练习。LED微型投影机设计案例。 $mxm?7ZVR  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM，光源近场及原厂分析及封装特性 R!i\-C1 S  
T_R2BBT v  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 F<.oTP-B  
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TracePro 照明设计培训课程表 '41'Gn  

aeZ$Wu>]W   上课时间	1WjNFi   第一天	#($~e|   第二天
5aj%<r   9:00-10:30 :eIi^K z[	Hlhd6be   简单的照明系统实例光通量计算 nQGl]2   色度学与应用CIE色坐标	Cj%n?-    TracePro光线追迹算法总览实例：导光管设计案例 Pi+p QFz5   TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
~c,CngeL0   10:30-10:45	+*RaX (&   课间休息	K|pg'VT"   课间休息
 Q XSS   10:45-12:00	FKZ'6KM&A   LED色度学实例快速导览TracePro   {W+IUvn   TracePro的建模和窗口窗口的控制 g(_xo\   TracePro的系统树	1aI&jdJk   LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧： QyghNImp   1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 IR2=dQS   3 照明透镜均匀化设计优化
;b{yu|   12:00-14:00	GYZP?E p*   午餐	=yF]#>Ah   午餐
Ii9[[I   14:00-15:30	\sMe2OL#z   在TracePro中的固体模型建立固体几何模型 apOXcZ   TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 acrR   LED光源的建立，CREE及OSRAM光源 cY5w,.Q/!   导入原厂IES光源	_aeIK   TracePro高级案例：LED手电筒透镜设计优化 8` <e\g7-   LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 VwudNjL   反光杯面型设计优化
VV;%q3}:   15:30-15:45	3k3C\Cw   课间休息	vPz$+&{I   课间休息
7fI2b,~   15:45-17:00	0G31Kou   TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 }* \*<d 3   TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形	H;R~d%!b   传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 PYBE?td   花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计

b)@D@K"5  
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第一天课程内容 cYp
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a^={X<K|/  
It7R}0Smg  
光度学与色度学 h!@7'Q  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 %
x.du9  
VKkvf"X  
光源建模 光线追迹 "OwK-  
照度分析 j7U&a}(  
光强分析 &wAVO_s  
Q 0G5<:wc  
物体建模练习 j]FK.G'  
3D模型文件导入导出 "~=-Q#xO  
RL:B.Lv/W  
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IES文件导入 CY*o"@-o5)  
光科IES文件生成器的使用 [UXN= 76N  
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方光手电筒设计 U?an\rv  
球差调节，根据实际的光线情况，来调节或选择非球面形 - CONIC GeDI\-  
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光源数据图形识别 X;H\u6-|>6  
表面光源特性生成器 -%5#0Ogh M  
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WW.@&#S5  
光线追迹保存光源数据文件 _P=+\[|y  
手动建立SIEMENS LED 51JB,}dGH}  
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散射ABg模型 反射 透射 x!fG%o~h  
人眼观察效果-亮度计算 CIz0Gjtx6m  
u7^(?"x  
CREE Xlamp 系列光源 ~|9VVeE  
手电筒透镜设计实例 I 1n,c d[  
V y$*v  
第二天课程内容 O!%T<2
i3  
YGC%j  
LED反光杯矿灯设计实例 -uWV( ,|  
gyD;kn\CP  
练习：1 a_+?#m  
h}!9?:E  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 F|{uA/P{  
04jvrde8-O  
PMMA 直径 < 23MM /q+;!E
M  
r8@]|`j  
练习：2 yhYF "~CM  
,% QhS5e  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 &oMWs]0  
SOq:!Qt
  
TracePro的自动优化 :IU7dpwDl  
光源坐标优化光效 !b7"K|  
反光杯准直优化 }04mJY[  
吸顶灯均匀光斑自动优化 w6Nnx5Ay  
R2n 2mQ<  
LED透镜均匀光斑自动优化 qxb]UV,R  
反光杯均匀光斑自动优化 4MS#`E7LrC  
}mXYS|{  
自动优化练习：LED 二次透镜设计 'Gqv`rq&  
%2T i Rb  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 |bz%SB  
3PGAUQR#"q  
设计过程： 6IG?t  
第一步：打开初始文件 6_4B!  
光源Source 调节光线数量 BH1h2OEe#  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 ,#UZp\zZ*  
RzjUrt  
第二步：执行Macro 了解主要参数 *9"x0bth  
透镜 中心厚度 外径 EC;>-s  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) ^\AeX-q2v'  
.dk<?BI#H  
第三步：根据第二步最佳结果，来调节优化参数 k1q/L|')  
反复执行这个过程（执行前删除原来的透镜） =K18|Q0m  

o(oOB  
第四步：手动微调参数让光斑完全符合要求 c%C6d97q  
增加光线数量，看最终效果 +ZM,E8  
z'"7zLQ  
设计过程参数： zk FX[-'O  
X8Q'*  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) =&}_bd/]  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) k_L`  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) u*G<?  
o]4\Geg$  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀，但尺寸小，于是终止优化，手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 &jHsFS  
R,G*]/r`  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5，满足光斑要求，设计结束。 qU7_%Z  
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CPC TIR透镜设计 }I&.xzJ  
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阵列Macro的使用 nf0u:M"fm  
双向非球面Macro )Xjn:  
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花生粒LED路灯透镜设计 t`
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LED投影机的整体设计 ={)85N  
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