TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:6292
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 Ye\%o[X  
59u7q(  
2012年举办城市 深圳、南京、北京 9UX-)!  
UQ y+ &;#5  
照明课程费用 ¥3000元 ^+&}:9Ml  
2J$Uz,@  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 xgVt0=q  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 GS@ wG  
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Q_S fFsY  
Z1zC@z4sUj  
科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 nr}H;wB  
KT}}=st%  
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SU^/qF%8  
EC7o 3LoND  
课程名称
MLJ8m  
课程编号
yl*S|= 8;k  
课程日期
7~ 2X/  
课程地点
Y,9("'bo  
授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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3月22日-3月23日
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南京
*`\>J.  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
Y40{v(Pi  
TP
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7月7日-7月8日
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南京
~6R| a  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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9月10日-9月11日
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深圳
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TracePro
i_V~SC`  
TracePro 照明设计培训课程
V\Rbnvq  
TP
+DksWb D  
10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
yX?& K}JI  
本课程特色: GAV|x]R  
@MS;qoc  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 [<7Hy,xr_  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 xn}sh[<:P  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 $Ic: c  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 8NWvi%g  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 YeK PoW  
fHdPav f,S  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 6*le(^y`  
1 f).J  
JiCDY)bu  
TracePro 照明设计培训课程表 lt[{u$  
Y]Td+ Zi  
上课时间
!0{":4 \  
第一天
aovRm|aOo'  
第二天
1 ^TOTY  
9:00-10:30 PSNfh7g  
9;NR   
简单的照明系统实例光通量计算 _py%L+&{  
色度学与应用CIE色坐标
43^%f-J 5  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 F_$eu-y  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
|]w0ytL>(2  
10:30-10:45
<:fjWy  
课间休息
TU&gj1  
课间休息
UB|f{7~&  
10:45-12:00
ppP7jiGo  
LED色度学实例快速导览TracePro   [/.o>R#J(  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 % V/J6  
TracePro的系统树
3V>2N)3`A  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: +pURF&Pr  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 v `9IS+Z  
3 照明透镜均匀化设计优化
"9:1>Gr{G  
12:00-14:00
T.]+T[}!  
午餐
VQI  
午餐
<nOK#;O)  
14:00-15:30
O'a Srjl  
在TracePro中的固体模型建立固体几何模型 ZnVi.s ~1V  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 +ffs{g{  
LED光源的建立,CREE及OSRAM光源 D7T(B=S6  
导入原厂IES光源
J39,x=8LL  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 *_ {w0U)  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 VC,wQb1J/  
反光杯面型设计优化
C(qqGK{  
15:30-15:45
pHSq,XP-  
课间休息
}%Dsy2:y  
课间休息
8p p^ w  
15:45-17:00
Q5b~5a  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 O RAKg.49  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
Lwm2:_\_b  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 ?]+{2&&$  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
yu"enA  
{p@uH<)  
第一天课程内容 [x Xa3W  
O+~.p  
#&a-m,Y$sx  
光度学与色度学 i'aV=E5  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 _7Z|=)  
/2Q@M>  
光源建模 光线追迹 d#6'dKV$  
照度分析 (lBgW z  
光强分析 AdMA|!|:hc  
MdM^!sk&`  
物体建模练习 3}V`]B#a  
3D模型文件导入导出 /<,LM8n  
|>(d^<nR^v  
#Ux*":  
IES文件导入 !.9pV.~  
光科IES文件生成器的使用 w],+lN;  
DdJ>1504  
方光手电筒设计 X=$WsfN.h  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC 2~<N  
/cM<  
光源数据图形识别 *;b.x"  
表面光源特性生成器 @=4K%SCw  
8G@Ie  
;T6{J[ h  
光线追迹保存光源数据文件 [^sv.  
手动建立SIEMENS LED ?`T< sk8c  
7 $AEh+f  
散射ABg模型 反射 透射 it V@U  
人眼观察效果-亮度计算 CZaUrr  
(s`oJLW>  
CREE Xlamp 系列光源 Teq1VK3Hr  
手电筒透镜设计实例 5MUM{(C  
3>LyEXOW  
第二天课程内容 HRP4"#9R  
hwgLJY?  
LED反光杯矿灯设计实例 sDNV_} h  
IRy!8A=X  
练习:1 6;"^Id  
/HCd52  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 1HOYp*{#wP  
+|6 '7Z(9  
PMMA 直径 < 23MM f44b=,Lry5  
7g@P$e]  
练习:2 }2dz];bR  
t [gz#'  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 ,=o)R,[  
s%Ez/or(T  
TracePro的自动优化 oJ|8~:)  
光源坐标优化光效 Oa7x(wS  
反光杯准直优化 9e^HTUFbG  
吸顶灯均匀光斑自动优化 !&4<"wQ  
t\YN\`XD  
LED透镜均匀光斑自动优化 (Uk1Rt*h  
反光杯均匀光斑自动优化 !=%E&e]  
$gKMVgD"  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 #H]b Xr  
d V+%x"[:  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 1O" Mo  
] Tc!=SV  
设计过程: B<)c{kj  
第一步:打开初始文件 r0 %WGMk2  
光源Source 调节光线数量 43_;Z| T  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 QEd>T"@g  
^(,qkq'u D  
第二步:执行Macro 了解主要参数 m$glRs @  
透镜 中心厚度 外径 GS),rNBur  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) `LD#fg*  
Yr9>ATR  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 B I9~% dm  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) l!Bc0  
96W!~w2xx  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 h4@v. GI  
增加光线数量,看最终效果 j9)WInYc:  
#is1y3yh  
设计过程参数: L`"PaIMz  
u$T`Bn  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) z\iz6-\&y  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) Z0yy<9q]2  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) Bvbv~7g (  
w-~u[c  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 \W^Mo>l  
.}KY*y  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 ce/Z[B+d  
Koh`|]N  
CPC TIR透镜设计 *e E&ptx1  
AGwFD  
阵列Macro的使用 1.+w&Y5   
双向非球面Macro `o7m)T')  
` oBlv  
花生粒LED路灯透镜设计 S<RJ46  
LED投影机的整体设计 IfyyA  
Y yI4T/0s_  
^1d"Rqtv  
6.]x@=Wm  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 8"2 Y$*)(  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 >UTAk  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 {Mt4QA5iZ  
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