TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5669
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 wt_ae|hv  
b*nI0/cbR.  
2012年举办城市 深圳、南京、北京 #:MoZw`rlw  
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照明课程费用 ¥3000元 xA n|OSe  
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南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 _\,4h2(  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 kAx J#RG  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 q7rX4-G$  
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课程名称
n2F*a  
课程编号
RD:LNl<0sh  
课程日期
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课程地点
f,@~@f X  
授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
O=1 #KNS  
TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
kY~yA2*G  
TP
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3月22日-3月23日
K<u~[^R  
南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
?3iN)*Ut  
TP
wS:`c J  
7月7日-7月8日
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南京
Sa6YqOel@  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
f%STkL)  
9月10日-9月11日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
Vao3 &#D8  
10月20日-10月21日
D_I_=0qNd  
北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
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本课程特色: 54&&=NVs|  
[-Mfgw]i  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 &R}2/Mt  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 HG})V PBa  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 DzvGR)>/  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 eN I6V/\`  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 g*:f#u5  
X57\sggK  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 J,wpY$93  
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TracePro 照明设计培训课程表 ^G(+sb[t  
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上课时间
).>O6A4:C  
第一天
k%ckV`y  
第二天
]4oF!S%F  
9:00-10:30 |Ns[{/  
s$OnQc2/  
简单的照明系统实例光通量计算 KZTT2KsYl  
色度学与应用CIE色坐标
p%y|w  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 ;(9q, )  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
QW}N,j$  
10:30-10:45
cH\.-5NQ  
课间休息
t[^68]  
课间休息
mE_?E&T`|  
10:45-12:00
*.NVc  
LED色度学实例快速导览TracePro   62%=%XD  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 /=ro$@  
TracePro的系统树
9mH/xP:y  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: n8>( m,  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 q%GlS=o "  
3 照明透镜均匀化设计优化
dJd(m&.|N  
12:00-14:00
@phb5  
午餐
cYp]zn+6  
午餐
D[ (A`!)  
14:00-15:30
ibskce{H  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 'I roQ M  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 IHtNaN )  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 ~!a~ -:#  
导入原厂IES光源
Zo|# ,AdE>  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 qY$/i#  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 0SLS;s.GX  
反光杯面型设计优化
Vi1= E])  
15:30-15:45
7LY4q/  
课间休息
7nAB^~)6l  
课间休息
ril4*$e7^\  
15:45-17:00
v-mhqhb  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 H[&X${ap  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
V8.o}BWY  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 A~Ov(  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
U6@ j=|q  
>|22%YVX  
第一天课程内容 \d#|n u  
{  'Db  
+ \AiUY  
光度学与色度学 Jx8?x#}  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 xr*hmp1  
EpCsJ08K  
光源建模 光线追迹 UfnjhHu  
照度分析 2'zYrdem  
光强分析 =N%;HfUD  
!yQ#E2/A  
物体建模练习 y BwgLn  
3D模型文件导入导出 Spossp`|  
hI{M?LQd  
-mlBr63Bj  
IES文件导入 xG^6'<  
光科IES文件生成器的使用 H_<X\(  
b xT|  
方光手电筒设计 - W5ml @  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC rmOcA  
S0 AaJty  
光源数据图形识别 \,i?WgWv  
表面光源特性生成器 l |c#  
E6  2{sA^  
,Mp/Y>f  
光线追迹保存光源数据文件 11s*C #  
手动建立SIEMENS LED D/1f> sl  
,s*-2Sz  
散射ABg模型 反射 透射 s6|Ev IVM  
人眼观察效果-亮度计算 Rs<li\GS  
INFbj8T  
CREE Xlamp 系列光源 k%5 o5Hx  
手电筒透镜设计实例 V9tG2m Lf>  
J~3+j6?%  
第二天课程内容 $-zt,iRyV  
4ACL|RF)A  
LED反光杯矿灯设计实例 JlZU31Xws  
-c"nx$  
练习:1 %B&y^mZv*\  
> :s#MwIwm  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 jU~ ! *]  
M~Tx 4_t  
PMMA 直径 < 23MM c5& _'&  
QN!$41A?{  
练习:2 $d]3ek/  
lC8DhRd0_  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 zoUM<6q  
h <s.o#8  
TracePro的自动优化 -hx' T6G%  
光源坐标优化光效 tCFXb6Cz  
反光杯准直优化 VfK8')IXk  
吸顶灯均匀光斑自动优化 '+6SkZ  
&QaFX,N"  
LED透镜均匀光斑自动优化 y6 bl&_  
反光杯均匀光斑自动优化 +} al_.  
U8+5{,$\.  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 =BN_Kvza^6  
bT^6AtsJ  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 SLyeonM-C  
w%(Ats  
设计过程: Sz.sX w;  
第一步:打开初始文件 bG`aF*10)!  
光源Source 调节光线数量 i$GL]0  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 T2Q`Ax7  
}IM*Vsk  
第二步:执行Macro 了解主要参数 g]sc)4  
透镜 中心厚度 外径 1$&(ei]*:  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) [YbnpI  
owz6j:  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 Ifgh yh<d  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) ~(( '1+  
jA&ZO>4  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 q97Z .o  
增加光线数量,看最终效果 R!mFMw"  
2$)xpET  
设计过程参数: Z2HH&3HA  
(%&HufT  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) ~C|. .Z  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) f~HC%C YH  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) tVB9kxtE  
}Zs y&K  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 CK<Wba  
 /i'dhiG  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 FaNr}$Pe  
381a(F[$e  
CPC TIR透镜设计 R^DZ@[\iV  
7+!4pf  
阵列Macro的使用 {yo<19kV@  
双向非球面Macro e XB'>#&s  
_"b[U T}m  
花生粒LED路灯透镜设计 N- !>\n  
LED投影机的整体设计 :gD=F&V  
p_^Jr*Mv  
/$w,8pV =  
yK1@`3@?  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 `>i8$q%  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 x6qQ Y<>  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 R [qfG! "  
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