TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5774
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 |AY`OVgcKD  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 V$D+Joj  
BhO*Pfs  
照明课程费用 ¥3000元 m@|0iDS  
b4l=Bg"  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 );8Nj zX1  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 <W,M?r+  
fjc8@S5x9j  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 RnvPqNs  
( MI8Kkb1d  
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03]   
T d7f  
课程名称
v#. %eF m  
课程编号
`y1ne x-0  
课程日期
KW3Dr`A  
课程地点
C'6 yt  
授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
Ts+S>$  
TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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7月7日-7月8日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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9月10日-9月11日
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深圳
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TracePro
Cb`2"mpWS  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
Q1cM{$}M  
10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
E46+B2_~zk  
TP
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12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
GN&-`E]-  
本课程特色: D-v}@tS'  
lk<}`#(g  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 G_5uO58  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 C(4r>TNm  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 ^ UB*Q  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 bu}N{cW  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 n7CwGN%  
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本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 ;5ANw"Dq  
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TracePro 照明设计培训课程表 +NM`y=@@  
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上课时间
`vMrlKq  
第一天
4s <|8   
第二天
 D|8Pe{`  
9:00-10:30 MBjo9P(  
:iKk"r,2P[  
简单的照明系统实例光通量计算 .huk>  
色度学与应用CIE色坐标
= Ff2  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 eeix-Wt*E  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
D^!x@I~:  
10:30-10:45
4^OPzg6Z%p  
课间休息
W%&[gDp  
课间休息
Omkpjr(1  
10:45-12:00
`S&.gPE2  
LED色度学实例快速导览TracePro   n _H]*~4F  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 Klv~#9Si  
TracePro的系统树
2k}8`P;  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: Z%_m<Nf8T  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 oh @|*RU  
3 照明透镜均匀化设计优化
n[`KhRN  
12:00-14:00
RaX :&PE  
午餐
/XeCJxo8  
午餐
>3,t`Z:  
14:00-15:30
6u6,9VG,  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 01br l^5K  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 ;d#`wSF`G  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 &B c$8ZR  
导入原厂IES光源
9_/dj"5  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 IW~q,X+`V  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 $bho]~  
反光杯面型设计优化
HOPi2nf{  
15:30-15:45
Y6R+i0guz  
课间休息
U6sPJc<  
课间休息
m7n8{J1O2  
15:45-17:00
|s}7<A  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 9Q.}jV  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
:5 zXW;s  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 @/yQ4Gr  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
:tTP3 t5  
:jP4GCxU|  
第一天课程内容 920 o]Dh=t  
wV& UB@  
` yXJaTbo  
光度学与色度学 vf&Sk`  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 Mu>WS)1lS  
l` M7a9*U  
光源建模 光线追迹 j3kcNb  
照度分析 \l d{Z;e  
光强分析 A2xfNY<  
7c7:B2Lq  
物体建模练习 V]fsjpvlmr  
3D模型文件导入导出 Ug=)_~  
u@ psVt   
+kdZfv>  
IES文件导入 Q9C; _Up  
光科IES文件生成器的使用 fMSB  
S@WzvM  
方光手电筒设计 YS|Ve*t(L=  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC q<2b,w==  
z~R:!O-  
光源数据图形识别 x]X!nx6G  
表面光源特性生成器 0)Wrfa  
}o  {6  
~6HaZlBB  
光线追迹保存光源数据文件 `VzjXJw  
手动建立SIEMENS LED 017(I:V?(:  
O&( @Ka  
散射ABg模型 反射 透射 ~,: FZ1wh  
人眼观察效果-亮度计算 x*}*0).  
l^"HcP6  
CREE Xlamp 系列光源 PL6f**{-  
手电筒透镜设计实例 Fb:Z.  
U$+G9  
第二天课程内容 <T0+-]i  
'nR'o /!  
LED反光杯矿灯设计实例 IBY(wx[5S  
k#Bq8d  
练习:1 +_E\Omcw  
kd3vlp  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 z:+fiJB_  
JF%_8Ye5  
PMMA 直径 < 23MM hCX_^%  
A['0~tOP  
练习:2 }1)tALA  
7yDWcm_y  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 c&rS7%  
lMN3;}K  
TracePro的自动优化 = "N?v-  
光源坐标优化光效 c|,6(4j>$  
反光杯准直优化 OU /=wpt  
吸顶灯均匀光斑自动优化 @9X+ BdQU  
kbHfdA  
LED透镜均匀光斑自动优化 ~$ FgiW  
反光杯均匀光斑自动优化 Z91GM1lrf8  
|@Mx? (  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 BIM!4MHLA  
" F3M  m  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 8U$(9X  
"-U`E)]w*[  
设计过程: ]3/_?n-"`  
第一步:打开初始文件 g AZe&"K  
光源Source 调节光线数量 SJXA  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 j$u=7Z&E  
m+ww  
第二步:执行Macro 了解主要参数 dQkp &.  
透镜 中心厚度 外径 XX:?7:j}[8  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) &0='z  
{|Pg]#Wi&  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 )A 6 eD  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) K~I%"r|l  
2[; 4D/`*  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 zx7g5;J  
增加光线数量,看最终效果 %JsCw8C6?  
;*Z.|?3 MM  
设计过程参数: mTsl"A>  
VYj*LiR  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) `BA,_N|6  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) Q-qM"8I  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) JO^E x1c  
PU\?eA  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 @-ms_Z  
t;?TXAA  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 />EH]-|  
U~)i&":sN  
CPC TIR透镜设计 {#]vvO2~$  
}0 BKKU+  
阵列Macro的使用 Q#2gjR r  
双向非球面Macro REe<k<>p~  
u*aFWl]=  
花生粒LED路灯透镜设计 c@]_V  
LED投影机的整体设计 MBO3y&\S4  
yl#(jb[?1  
|1@/gqa  
NdlJdq  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 j> ?0Y  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 ~; emUU  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 \R6D'Yt  
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