TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5847
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 bUm%#a  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 o cW~I3  
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照明课程费用 ¥3000元 5%WAnh  
l3>e-kP  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 x4c|/}\)*  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 2SC-c `9)  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 03v+eT  
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课程名称
xw}yl4WT{  
课程编号
0 a{hCx|$J  
课程日期
iSezrN  
课程地点
2} pZyS  
授课软件
U'ctO%  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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7月7日-7月8日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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9月10日-9月11日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
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本课程特色: b-VtQ%Q  
zTB&Wlt  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 (+(@P*c1  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 |D-[M_T5  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 )S+fc=  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 ph5{i2U0  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 b_nE4>  
i%.NP;Qq]M  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 Oe\(=R  
8k-]u3  
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TracePro 照明设计培训课程表 ZN)EbTpc\a  
^4 $4x  
上课时间
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第一天
p*0[:/4  
第二天
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9:00-10:30 rc[~S  
7d%x7!E   
简单的照明系统实例光通量计算 k/{WlLN  
色度学与应用CIE色坐标
wX}p6yyN  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 k^;n$r"i5  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
KHZ[drb6$  
10:30-10:45
LcvczS T  
课间休息
<9X@\uvU.<  
课间休息
lj}3TbM  
10:45-12:00
Lq>lj`>  
LED色度学实例快速导览TracePro   \78^ O  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 }ZVond$y4  
TracePro的系统树
4@fv%LOQo  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: *KDTBd  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 @;OsHudd  
3 照明透镜均匀化设计优化
!0?o3,of-  
12:00-14:00
{Cm!5QYy  
午餐
`$JvWN,kB  
午餐
EP@u4F  
14:00-15:30
KX9IC 5pR  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 $Ah p4oiE  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 :lo5,B;k  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 @-[}pZ/  
导入原厂IES光源
%Ve@DF8G  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 o%~fJx:]y  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 ?SgFD4<~P  
反光杯面型设计优化
 4 Pc-A  
15:30-15:45
Q /?`);  
课间休息
QGfwvFm  
课间休息
VnW6$W?g  
15:45-17:00
<}[ !k<  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 I[|Y 2i  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
BkB _?^Nv8  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 c6vJ;iz  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
p*lP9[7  
8a 8a:d  
第一天课程内容 zGU MH7 M  
rd0Fd+t/  
PI%l  
光度学与色度学 kbb!2`F!%  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 *O'|NQhNx>  
>xo<i8<Miv  
光源建模 光线追迹 THQ #zQ-  
照度分析 [?7QmZK  
光强分析 5r 4~vK  
g^A^@~M  
物体建模练习 / Q@4HV  
3D模型文件导入导出 WMC^G2 n  
8m' f8.x  
KdozB!\  
IES文件导入 "W6cQsi  
光科IES文件生成器的使用 wX)'1H):T  
vaF1e:(  
方光手电筒设计 " J9  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC jGo%Aase  
0-uj0"r`  
光源数据图形识别 xSN;vrLHR  
表面光源特性生成器 DI8I'c-P  
0o$RvxJ  
?@@$)2_*u  
光线追迹保存光源数据文件 &M@ .d$<C  
手动建立SIEMENS LED ,X_3#!y  
ru`7iqcz  
散射ABg模型 反射 透射 Ux',ma1JK  
人眼观察效果-亮度计算 ]*a(^*}A%  
zu?112-v2  
CREE Xlamp 系列光源 *c4OhMU(  
手电筒透镜设计实例 *3Lo[GE>  
<$?#P#A  
第二天课程内容 Cu%BU}(  
]g$ky.;  
LED反光杯矿灯设计实例 v0) %S  
Jk}3c>^D  
练习:1 [F*yh9%\  
aOg9Dqtg)f  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 BDfMFH[1  
K3:z5j.X  
PMMA 直径 < 23MM (^B1Kt!<  
YkFLNCg4}  
练习:2 R-pON4D"*  
yj_/:eX  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 ]vcT2lr]  
g~21|Sa$[  
TracePro的自动优化 )( 3)^/Xz  
光源坐标优化光效 )2"g)9!  
反光杯准直优化 *j83E[(]  
吸顶灯均匀光斑自动优化 J ##a;6@  
`_LQs9J0J  
LED透镜均匀光斑自动优化 Bkq4V$D_  
反光杯均匀光斑自动优化 7n .A QII  
c[M4l  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 YYI0iM>  
n,2p)#?  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 v,Kum<oi?  
!2AD/dtt   
设计过程: A iR#:r  
第一步:打开初始文件 BIMX2.S1o  
光源Source 调节光线数量 rJf{YUZe  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 _^{RtP#=  
tC1'IE-h  
第二步:执行Macro 了解主要参数 ozS'n]8*  
透镜 中心厚度 外径 FiRe b3zR  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) ]+pE1-p\  
FB?V<x  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 =\ 8 x  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) ^0_>  
!4^Lv{1QZ  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 =1>G * ,  
增加光线数量,看最终效果 s +S6'g--  
x^[0UA]S9  
设计过程参数: p79QEIbk=  
a>#$&&oQ0  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) ,eOZv=:  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) 4avkyFj!h  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) lgt&kdc%o  
.I{u[ "  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 xK[ [b  
Pt-mLINvG  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 DfkGNBY  
d/TFx  
CPC TIR透镜设计 Z 5 .cfI[  
:L:] 3L  
阵列Macro的使用 }n^}%GB  
双向非球面Macro jl;N Fk%  
+c]D2@ctG  
花生粒LED路灯透镜设计 o|84yT!~  
LED投影机的整体设计 yIpgZ0:h  
[G+@[9hn%  
h+q#|N  
0:`YY 8j1k  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 dj,lbUL  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 >Zf*u;/dW$  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 b?9'-hK<  
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