TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:6211
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 :(%5:1W  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 %iB,IEw  
9+N-eW_U  
照明课程费用 ¥3000元 X8\GzNE~R  
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南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 >Q*Wi  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 B5QFK  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 I1J-)R+  
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课程名称
A}!J$V:w]  
课程编号
vQ.R{!",>  
课程日期
2<6UwF  
课程地点
TA\vZGJ('  
授课软件
MK*r+xfSae  
TracePro 照明设计培训课程
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TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
V[V[~;Py  
TP
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3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
H/Jbk*Q  
TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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7月7日-7月8日
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南京
@+DX.9  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
g{LP7 D;6  
TP
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9月10日-9月11日
A(XKyEx  
深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
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本课程特色: =u;MCQ[  
JS77M-Ac  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 t,' <gI  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 TZ`SZDc7_  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 JI5Dy>u:  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 s^SJY{  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 pot~<d`:K"  
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本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 N g,j#  
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TracePro 照明设计培训课程表 adw2x pj  
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上课时间
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第一天
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第二天
0IpmRH/  
9:00-10:30 n`KY9[0U=  
SX*RP;vHy  
简单的照明系统实例光通量计算 Js;h%  
色度学与应用CIE色坐标
}\LQ3y"[  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 1eKT^bgM  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
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10:30-10:45
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课间休息
Ep}s}Stlr}  
课间休息
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10:45-12:00
;Qq\DFe.w  
LED色度学实例快速导览TracePro   y)*RV;^  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 YK\X+"lB  
TracePro的系统树
c9Yrw^  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: wS*E(IAl  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 +n)9Tz5  
3 照明透镜均匀化设计优化
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12:00-14:00
9B4&m|g  
午餐
#1[u (<AS  
午餐
xkn;,`t^lJ  
14:00-15:30
BuwY3F\-O  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 DrQ`]]jj7  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 T;uX4,|(  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 u&NV,6Fj2[  
导入原厂IES光源
Q20 %"&Xp]  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 _g. {MTQ  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 nrb Ok4Dz  
反光杯面型设计优化
1"g<0 W  
15:30-15:45
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课间休息
]{iQ21`a-  
课间休息
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15:45-17:00
ZW}_DT0  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 MJvp6n  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
#F#%`Rv1  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 RpF&\x>  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
3u;oQ5<(v  
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第一天课程内容 7Wno':w8  
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光度学与色度学 68 sB )R  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 Ib`XT0k  
Fp:'M X  
光源建模 光线追迹 "#]$r  
照度分析 g ?k=^C  
光强分析 <m m[S  
z}@7'_iJ  
物体建模练习 `g,..Ns-r  
3D模型文件导入导出 ~`/V(r;o  
*Uh!>Iv;  
p[-O( 3Y  
IES文件导入 K;(mC<  
光科IES文件生成器的使用 zTp"AuNHN  
/,dz@   
方光手电筒设计 j6YOKJX  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC yr6V3],Tp  
Si7*& dw=  
光源数据图形识别 yuVs YV@"  
表面光源特性生成器 ?(PKeq6  
Nl/dX-I  
6mE\OS-I  
光线追迹保存光源数据文件 |zU-KGO&  
手动建立SIEMENS LED pJ=#zsE0  
GeqPRah  
散射ABg模型 反射 透射 .N3mb6#[R  
人眼观察效果-亮度计算 C+]I@Go'Tk  
=vPj%oLp'a  
CREE Xlamp 系列光源 So;<6~  
手电筒透镜设计实例 R/_&m$ZB  
ibw;}^m(  
第二天课程内容 E@\e$?*X  
cS$_\65  
LED反光杯矿灯设计实例  9!GM{  
jylD6IT  
练习:1 +_`7G^U?%  
i@q&5;%%  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 #z(]xI)"  
*hrvYil2b  
PMMA 直径 < 23MM }qUX=s GG  
{_}I!`opr$  
练习:2 r^ XVB`v  
gr{ DWCK  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 u NyVf7u  
_GPe<H  
TracePro的自动优化 zqku e%^?-  
光源坐标优化光效 Zfw,7am/  
反光杯准直优化 vI?, 47Hj+  
吸顶灯均匀光斑自动优化 f^e)O$N9]  
y} '@R$  
LED透镜均匀光斑自动优化 >lm&iF3y  
反光杯均匀光斑自动优化 zCA2X !7F  
K:M8h{Ua  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 rOYx b }1  
xo)P?-  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 ]|@^1we  
<v2;p}A  
设计过程: pCDmXB  
第一步:打开初始文件 _{>vTBU4F  
光源Source 调节光线数量 3q.q YX  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 K"6vXv4QO  
,6/V" kqIP  
第二步:执行Macro 了解主要参数 #4:?gfIj  
透镜 中心厚度 外径 Sdo-nt  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) s"|Pdc4  
$qiya[&G4  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 Sz~OX6L  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) #_1`)VS  
~u{uZ(~  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 &m3lXl  
增加光线数量,看最终效果 wkq 66?  
NbobliC=  
设计过程参数: =]t|];c%  
4*L_)z&4;  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) D9df=lv mD  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) H\ %7%  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) J,hCvm  
EnR}IY&sI  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 R-:2HRaA  
{ax:RUQxy  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 b}f~il  
Dv"9qk  
CPC TIR透镜设计 ]d]]'Hk  
> I?IPQB  
阵列Macro的使用 sB</DS  
双向非球面Macro 4Ig;3 ^%71  
_#niyW+?~  
花生粒LED路灯透镜设计 r$1Qf}J3=  
LED投影机的整体设计 s1rCpzK0  
$ `c:&  
vd ZW%-A&\  
"g|#B4'e  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 6t$8M[0-U  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 v+XJ*N[W  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 HtFDlvdy]  
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