2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日，免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会，为丰富此次研讨会的专业性，我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍，并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场，共襄盛举！ >4 VN1^  
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! I;FHjnn(  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92 }Y:V&4DW  
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) k..AP<hH  

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08:30	报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) .~u[rc|<	TracePro的演变与7.0功能介绍 t^ Ge"   1.       TracePro的功能演变 r'8qZJgm   l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) IK1'" S|   l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) f\xmv|8   l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) a@!(o  )>   l   7.x – 多进程 (multi-core support) AT%6K.   2.       V7的功能 x n?$@   l   Grouping in model view 0Xb,ne 7   l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) bI+/0Xx	TracePro在背光系统的设计与优化 2ca#@??R   Outline: 7vTzY%v   1.       背光模块的构成与仿真 [n4nnmM   2.       光源的建立 GHY+q{'#V_   3.       TracePro的鳞甲与网点功能 F%P"T%|   4.       网点的设计与优化
10:10 7>"dc+Fg	茶叙交流 coffee break C~Hhi-Xl)
10:30(30分钟) BMug7xl"	荧光粉模拟与LED设计与优化 dIW@L   Outline: hi`[   1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 `J]e.K   2.       快速的建立荧光粉材质与分析 \#4mPk_"   3.       白光LED的设计 ,BUrZA2\U$   4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ (\ge7sE-oo	Q&A 1*" 7q9x

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1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 E5!vw@,  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场