[讨论]Tracepro杂散光分析-PST理论和计算 [复制链接]

有三个问题： wu&7#![,  
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1.PST是为离轴角为θ的点光源经光学系统在像面上产生的辐射照度E（ θ） 与该点光源位于轴上时产生的辐射照度E（０)的比值,这个PST是怎么表示系统的消光能力的？？是不是假设了对于轴上点没有杂光？？但是实际上轴上点不可能没有杂光的啊？ {=7i}xY]T  
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2.PST是E(θ）/E（0）,对应到Tracepro里面irradiation/illumination map里面显示的AVE在不同θ角下的比值？？ 7e[\0:Z  
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3。TP追迹的时候，计算E（0）和E(θ）时，是不是要时刻保证光线全部充满第一片镜片的口径？如果是的话，就需要光源的口径有适当的变化，光源尺寸变化会导致能量的分布变化，从而带来模拟的误差，正确的方法应该是什么呢？？ Vp{2Z9]}  
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谢谢，希望指点！

顶一下，希望高手指点一二！~

第一 PST是为离轴角为θ的点光源经光学系统在像面上产生的辐射照度E（ θ） 与该点光源位于轴上时产生的辐射照度E（０)的比值。这一理解是对的，实际的实验测量杂光也是采用这种方法。轴上同样也有杂光，这个比值只起到归一化的左右。 jMbK7 1K%  
第二 这一说法是对的。 c iX2G  
第三 点光源是发光球体。只有电源距离镜头的变化会影响系统的杂光系数，其他情况不会。

对于照相物镜来说，点源实际上就是平行光，所以E（ θ）应该是以一定角度入射的平行光？~

我现在唯一不明白就是计算PST的时候，光源是采用平行光，还是与光轴相对于入瞳位置成一定夹角的点光源？~希望指点！

回帖赚积分的真讨厌~发个帖子很快就给弄到后面去了~想赚积分去灌水的部分啊~！

同样在搞杂散光分析，进来学习。

第三、可以考慮用Grid Source放在第一片鏡片前面，尺寸約等於第一片鏡片，在Beam Setup的地方修改Beam Orientation Method為Direction Vectors，Normal Vector用=tan(30*pi/180)修改入射光角度，這樣就不用一直修改光源尺寸了

用點光源的話，只有在點光源離第一片鏡片很遠的時候才"近似"平行光，點光源位置不好決定 zVu}7v()  
而且還要動用Important Sampling，小麻煩 ^-ZqS  
用Grid Source可以方便使用Macro Scheme或DDE修改入射角度及收集Flux數據，工程師就可以不用在電腦邊苦等了 _qV_(TpS+  

都牛，我听晕啦