关于举办“2006年光学薄膜培训班”的通知
}LS:f,1oGp &?^S`V8R* 0uzm@'^ 具体信息请登陆协会网站或论坛察看:::
www.coema.org.cn/bbs E6n3[Z "Mgx5d 各会员单位和光学光电行业业界同仁:
<}b`2/wP Zam.g>{] mLU4R Q}5 SU OuayE 光学光电子行业作为未来四大支柱产业之一,近些年得到迅速发展。技术创新和专利获得逐年增长,产品升级换代速度加快,国内国际市场均表现活跃。
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LPv[ 光学薄膜技术是光学光电子行业发展不可或缺的组成部分,正在发挥越来越重要的作用,在激光技术,红外技术,IR-CUT,数码投影等领域都拥有广泛的应用。光学薄膜技术在军民结合技术中更有着广泛的应用前景,逐步走向产业化。
X l#P@60 JqTkNKi/s 2g1[E_? `_sc_Y|C! 中国光学光电子行业协会应广大会员单位的要求,为了逐步普及真空镀膜理论知识,同时为业界骨干企业的青年专家和工艺员工提供沟通交流机会,定于2006年5月14—20日在北京举办“2006年光学薄膜培训班”,敬请参加!
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R6~x! T^u ][I3* e2Sm.H ' 有关培训班具体事宜,详情见附件一。
zVe@`gc b:/ ; 0Vv6B2< J&}/Xw) \o9-[V#Gm ]Mi
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q S (](C 主办:中国光学光电子行业协会
* ]~ug%a `O(ec X-9>;Mb~y 1"3|6&= 北京光学学会
tWQ_.,ld LziEF-_ VTySKY+ }\}pSqW 协办: 中国光学光电子行业协会光学元件和仪器分会
xc[@lr w\k|^ t9SzZ2E {]<l|qK 中国光学光电子行业协会激光分会
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Ol 3}=r.\]U ,<F =\G_f 中国光学光电子行业协会红外分会
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2N F<q'ivj:w i`/_^Fndyu IY6DZP ;hGC.}X =3OK3| 中国光学光电子行业协会
>f #P( jZeY^T)f" }]_/:KUt 6s\niro2 2006年3月17日
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C2\ w naP? |/ ]|62l+ [G2@[CtY1 附件一:光学薄膜培训班培训计划及报名回执表
1oD,E!+^d MTo<COp($ bh|M]*Pq "MHm9D?5 >nV~5f+ lo*OmAF S9R(; 具体培训计划如下:
y\Kr@;q0w D+ mZ7&L $Llv6<B v+uq 1.时间:2006年5月14—20日(14日全天报到,领取培训资料)
pSp/Qpb-B 6yk=4l\ zWKnkIit, Ix@rn 2.地点:北京(具体地点将于培训前一周另行通知)
[xzgk[>5 MyB&mC7Es jGpSECs c} )U:?6 3.专家:
hw! l{yv -F=?M+9[ 2Ya)I k{ NRu_6~^^ 周立伟
}5c%v1 gU\pP,a u3 k% 中国科学院院士
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V;" su;u_rc, xi['knUi2- 卢维强
X[/>{rK p F kA, p3>(ZWPNV 教授
*69{#qN AsFn%8_I HJ#3wk "W <vMna< /d 尤大伟
ql"&E{u? t8X$M;$ o6`4y^Q{/ 研究员
,=sbK?& Ku;|Dz/=o .EeXq}a[ ZK:dhwer 赵福庭
iMG)zPj od~^''/b fP3e{dVf 研究员级高工
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e+6;'Q t~5m[C[`w 张福初
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=} ;]*V6!6RR 研究员级高工
Xge]3Ub %=p:\+`VI +'fy%/ R7)\wP*l5 k^<s|8Y 4.内容:
5\\#kjjx Skb,cKU gut[q mCM7FFl I 上 午
lT.Q)( "ijpqI -NzO ,? 下 午
m7<HK,d *"cK_MH/o 'Cki"4%< (pBPf 每天上午安排光学薄膜系统理论,薄膜光学授课
@8keLrp [tN^)c`s/ 2Y~UeJ_\Lq 每天下午安排专题技术讲座,主要内容如下:
!Cqm=q{K >L5fc". mM`zA%= K6uZ4 m; 离子源辅助蒸发技术
Om%HrT ]JGh[B1gh 'K|Jg.2 rw CFt6;v 光学薄膜厚度控制技术
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