关于举办“2006年光学薄膜培训班”的通知
//K]zu (:M6*RV PY)C=={p 具体信息请登陆协会网站或论坛察看:::
www.coema.org.cn/bbs [sACPn$f ~'v^__8 各会员单位和光学光电行业业界同仁:
Xqf"Wx(X S#2'Jw klv^310 %D e<H* 光学光电子行业作为未来四大支柱产业之一,近些年得到迅速发展。技术创新和专利获得逐年增长,产品升级换代速度加快,国内国际市场均表现活跃。
|I85]'K9a ;2#H M^Mu d=N5cCqq kX5v!pm[ 光学薄膜技术是光学光电子行业发展不可或缺的组成部分,正在发挥越来越重要的作用,在激光技术,红外技术,IR-CUT,数码投影等领域都拥有广泛的应用。光学薄膜技术在军民结合技术中更有着广泛的应用前景,逐步走向产业化。
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+2Mc< &'T7 ~M: 中国光学光电子行业协会应广大会员单位的要求,为了逐步普及真空镀膜理论知识,同时为业界骨干企业的青年专家和工艺员工提供沟通交流机会,定于2006年5月14—20日在北京举办“2006年光学薄膜培训班”,敬请参加!
]+d.X] !i#;P9K dy|r:~j3 )wSsxX7: 有关培训班具体事宜,详情见附件一。
/HI#8 &..'7 Kgk9p`C( 3U1xKF ikyvst>O vnXpC!1 w}oH]jVKL6 主办:中国光学光电子行业协会
[u,B8DX k3^S^Bv\ jpOi Eo /!jn$4fd: 北京光学学会
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NK)mE kw}J~f2 b3y@!_'c 协办: 中国光学光电子行业协会光学元件和仪器分会
)]X_')K cnhYrX^ IBnJ6(. 0#XZ_(@% 中国光学光电子行业协会激光分会
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Qwda B5J=q("P #UI@<0P) ExY
~. 中国光学光电子行业协会红外分会
.NwHr6/s* *8X: fq }3M\&}=8 u_zp?Nc 0o(/%31] LD]XN'?"W [A[vR7&S 中国光学光电子行业协会
j.AAY?L olQ;XTa01F 9b()ck-\F# R &T(S 2006年3月17日
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l(%bdy pbloL3d.;+ PlTY^N6Hn !63x^# kg >(~;V; y*|"!FK 附件一:光学薄膜培训班培训计划及报名回执表
Y/)>\ )[G5qTO I9k o*f $+:_>n^#/ 0u-'{6 :);GeZ *.W![%Be 具体培训计划如下:
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3<zW( [fO \1J g^4'42UX 1.时间:2006年5月14—20日(14日全天报到,领取培训资料)
Hco[p+ ks:Z=%o #pE:!D ndW??wiM 2.地点:北京(具体地点将于培训前一周另行通知)
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>X Ol D]*=.cO ~/iE W[w8@OCNf 3.专家:
^5j9WV m~#98ZJ^ @ 5|F:J iS=}| 8" 周立伟
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h~d $(.[b][S 中国科学院院士
yH@W6' . "P"~/<:) <gQw4 X0Xs"--} 卢维强
"*XR'9~7 e ST8>r vX/~34o]\ 教授
>&Y8VLcK Rco#?' g}P.ksM N[z7<$$ 尤大伟
UIovv%7zZ V!a\:%#^Y y]+i.8[ 研究员
WFsa8qv d%u|)
=7 ~t.*B& A Mw*R~OX 赵福庭
>z.o?F D CcM~ )&;?|X+p 研究员级高工
d^!)',` <p-R{}8 =K-B
I -*M/,O 张福初
^CDQ75tR |Q?IV5%$ yL7a*C& 研究员级高工
CAX|[ NoV)}fX$X8 +F]X XjuAVNY 朱 震
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b:&ACY a=.A/;|0* fnN"a Z 研究员级高工
{I&>`?7. Pp*|EW 1 =3_I;Lw 7D|g|i pGc_Klq 4.内容:
hg/G7Ur" /608P:U z
v*hA/ C C;T[b& 上 午
2E9Cp Nv{r`J. k id3@ 下 午
j,Eo/f+j5 ypSW 9n uosFpa `b=?z%LuT 每天上午安排光学薄膜系统理论,薄膜光学授课
se:]F/ 4onRO!G, vUk <z* 每天下午安排专题技术讲座,主要内容如下:
$-Lk,}s.* h# c.HtVE zYvf}L&]h O-[ lL"T 离子源辅助蒸发技术
F4xYfbwY"] kAsYh4[ s5F,*< T>7$<ulm 光学薄膜厚度控制技术
PHU#$LG dMK|l /o Q^j'v 8=Xy19<;t 光学薄膜材料的最新进展
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MXZ_ +&6R(7XC >`R}ulz) NokAP|<y 薄膜工艺技术及其它
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