[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 IADHe\.  
lk 1\|Q I  
目前要作一個發光表面 We{@0K/O
 
z='%NZY  
表面的發光強度由中間最強 U)8yd,qG[%  
j$q5m 24L  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 m:h6J''<Z*  
BFW b0;+  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 ,kJ7c;:i  
強度是高斯分佈沒有錯 a|z-EKV  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 :*KTpTa  
v%qOW)].  
我想要的是 i1uoYb?4(I  
$97O7j@  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 \~*<[.8~  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 V,rc&97  
S#M8}+ZD,  
不知道大家能否給我些建議  ^^" QZ&(e2z  
Xeq9Vs zg  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ /iO"4%v  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 Vx<{cHQQ  
.rk5u4yK  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 =i
W hK~S  
f.J^HQ_  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup >
e!J(4.-  
?M'CTz}<\  
在 Beam Setup 中 !y_L~81?  
7Z2D}O+  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian Ru`afjc  
並且 !PoyM[Z"f  
Spatial weighting uniform flux/weighted position 8WDL.IO  
?&0CEfa?  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 pHR`%2!"t  
huv|l6  
但是 D>jtz2y=D  
'E#L6,&  
光線的方向 WrwbLlE  
xytWE:=  
在 Beam Setup 中 Ijiw`\;  
(zsmJe  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 9HR1m3  
!Dc?9W!b  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 e;=R8i  
pm+E)z6Yo  
只能選擇一個光線射出的方向向量 S".|j$  
^) s6`:  
I;jH'._k#  
所以關於小弟的需求希望 8Q/cJ+&  
/|U;_F Pmc  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  )Mq4p'*A[  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 *8qRdI9  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 axnVAh|}S  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 U!+O+(  
y+BiaD!U  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ Z .`+IN(>E  
[i~@X2:Al  

你真农民啊。 ：） ?a+J4Zr3  
0p3) t  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 uAYDX<Ja9  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. s;<]gaonB_  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 IwXQbJ3v_  
SPTx-b[  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 sWA-_4  
如果小弟想要產生 \HoVS  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 2CtCG8o  
_NuHz  
/$qB&OWJn  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 m,]h7xx  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : K$dSg1t  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 @e_ bG
@  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 7 Ld5  
/MB3w m  

:!\?yj{{  
c3&;Y0SD  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid ~4\J}Kn  
Grid pattern 设成 random