[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 %;B(_ht<-w  
>{LJ#Dc6  
目前要作一個發光表面 b$`4Nn|  
9B6_eFb  
表面的發光強度由中間最強 3/SqXu  
|"tV["a  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 te)g',#lT  
]TTJrC:  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 !i"9f_  
強度是高斯分佈沒有錯 ]K0,nj*\c  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 U}vtVvx  
pg}DC0a  
我想要的是 L+0N@`nRF  
^x1D]+  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 Kjca>/id  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 tB(X`A.|  
ywsz"/=@  
不知道大家能否給我些建議  ^^" i7w}
`vs  
UXdC<(vK  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ $}h_EI6hS  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 GMp'KEQQ  
H-y-7PW*~  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 lt2&uYgp  
j[ YTg]  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup *VAi!3Rx;  
HUX+d4sg  
在 Beam Setup 中 %ieAY-<"  
( I~XwP&  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian lcLxqnv  
並且 9GOyVKUv  
Spatial weighting uniform flux/weighted position _E-GHj>k z  
W| eG}`  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 4h@of'  
+n]Knfi  
但是 #.K&]OV/88  
C8SNSeg  
光線的方向 C'"6@-~  
eNKdub  
在 Beam Setup 中 dTNgrW`4  
$O>MV  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 Wsz9X;  
dz DssAHy  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 g9`ytWmM  
pfIvBU?  
只能選擇一個光線射出的方向向量 jtJU5Q  
s7gf7E#Y  
+1A<kJ  
所以關於小弟的需求希望 @uWD>(D  
iTyApLV  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  P,], N)  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 lKSI5d  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 pEP.^[  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 3<SC`6'?  
mQ)l`
wGh  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ "@Fxfd+Ot  
%iML??S  

你真农民啊。 ：） ld6@&34  
60$   
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 l{yPO@ut`F  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. MS)bhZ
vO  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 pq`MO .R  
XDQ1gg`  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 |F`'m":$m  
如果小弟想要產生 :'=C/AL  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 0]HIc  
gsH_pG-jU  
^~od*:  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 9ZwhCsO  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : -K PbA`j+  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 lRn>/7sg$  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. C4ge_u#  
[Qr#JJ  

rcAx3AK.  
{o AJL  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid z;D[7t
T  
Grid pattern 设成 random