[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 D} B?~Lls  
]&H"EHC<$  
目前要作一個發光表面 _IdW5G  
TrzAgNt  
表面的發光強度由中間最強 fZpi+I  
sN8pwRjb  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 \]4EAKJE  
=v^#MU{k?  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 `Y.~eE  
強度是高斯分佈沒有錯 ;Q,t65+Am  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 C)R hld  

S'^ q  
我想要的是 kJl^,q
 
ML'y`S  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 DzMg^
Kp  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 UUDHknm"  
C{$iuus0  
不知道大家能否給我些建議  ^^" ,9d]-CuP;  
?o.d FKUe  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ , d $"`W2  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 :,JjN
&  
Z5(9=8hB/  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 ]7Vg9&1`  
Oq.ss!/z  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup ?p@J7{a  
%a~/q0o>  
在 Beam Setup 中 =^u;uS[IW  
iWD|F-  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian u5A?; a  
並且
a,vS{434J  
Spatial weighting uniform flux/weighted position ;B=aK"\  
DO80HS3ZD  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 zw+aZDcV(  
l{Df{1b.  
但是 b&F9<XLqq  
RJ3oI+gI  
光線的方向 t>cGfA  
Ldjz-  
在 Beam Setup 中 QnVr)4"  
).5X  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 WSHPhhM  
GVXdyi  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 {3`385  
G
HGyeqNM  
只能選擇一個光線射出的方向向量 ]Orx%8QS!  
 JaY"Wfc  
{zAI-?#*u  
所以關於小弟的需求希望 oa:YAqT  
:82h GU  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  sWYnoRxu  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 ;yJ:W8U]+;  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 *vaYI3{qN  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 {Uw 0zC  
Ax=HDW}  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ %rptI$^*X  
0ae8Xm3J@R  

你真农民啊。 ：） _nbr%PD,  
"@UQSf,  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 OT{"C"%5t  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. lxL5Rit@Px  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 H-kX-7C  
w"^h<]b  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 Pv'Q3O2<I  
如果小弟想要產生 ntW@Fm:bw>  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 I_J&>}V'  
ote,`h  
.9jKD*U|  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 /(N/DMl[  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : "L~(%Nx3  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 jvT'N@  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. {K(mfTqm  
*[Hrbln  

XQ}Zr/f6  
S{YzHK  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid kc,"w\ ai  
Grid pattern 设成 random