[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 {Su?*M2y  
37#&:[w>  
目前要作一個發光表面 IC`3%^  
#2{-6ey  
表面的發光強度由中間最強 L:R4&|E/t
 
$ V^gFes  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 z;c>Q\Q  
LK^|JEu  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 O\5%IfB'"  
強度是高斯分佈沒有錯 t&r.Kf9Z\  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 "HMEo
Z  
"s2_X+4oY  
我想要的是 sZ.<:mu[  
d>NGCe  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 b/SBQ"B%  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 Kb.qv)6i*  
{!"UBALxc  
不知道大家能否給我些建議  ^^" NVyBEAoh  
=$>=EBH,cm  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ 9:j?Jvw$  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 ' \JE>#  
b!<_ JOL2.  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 '+Dsmoy  
JrP`u4f_  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup A95f!a  
.K C* (}-  
在 Beam Setup 中 /[R=-s ;  
&RR;'wLoQT  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian K\xz|Gq  
並且 @iz Onc:  
Spatial weighting uniform flux/weighted position [(X~C*VdxM  
`?VK(<w0q  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 K,4Ig!  
O4rjGTRF  
但是 Xo PJ?63  
pY&6p~\p  
光線的方向 Yy~x`P'g!  
qq)5)S  
在 Beam Setup 中 +17!v_4^  
3.Fko<D4jD  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 F|%PiC,,qO  
G|cjI*  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 @&jR^`Y.  
_Sjj|j  
只能選擇一個光線射出的方向向量 Fe8X@63  
'4,?YcZ?S  
z,Xj$wl  
所以關於小弟的需求希望 Zpd-ob  
; _%zf5;'  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  8\J$\Edv  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 P@y)K!{Nk  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 | BaEv\$K  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 ~/^fdGr  
%!` %21  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ y&\4Wr9m  
("`"?G  

你真农民啊。 ：） $YJ 1
P  
8P]nO+  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 *,u{,$}2  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. NXD-  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 7,)E1dx -V  
?CCQm  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 hq"nRH  
如果小弟想要產生 "s@Hg1  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 "9s}1C;Me  
LYAG
pcG  
}:?*n:g5  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 lhQMR(
w^  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : Q-e(>=Gv_  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 @ +>>TGC  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. PmUq~YZ7  
5n=~l[O  

SQdK`]4  
/p{$HkVw  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid 7MX5hZF"  
Grid pattern 设成 random