[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 kvryDM
  
TB1 1crE  
目前要作一個發光表面 =q>eoXp  
>WG$!o+R  
表面的發光強度由中間最強 } fSbH  
2Xgn[oI{  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 q!}&<w~|  
.rax`@
\8  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 0I079fqk<  
強度是高斯分佈沒有錯 W0l|E&fj[  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 1<pbO:r  
HOXqIZN85  
我想要的是 7?B]X%  
Ks9"U^bPs  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 b\H~Ot[i  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 Mx[tE?!2  
KJJ8P`Kx  
不知道大家能否給我些建議  ^^" mtmtOG_/=  
BDc*N]m}B1  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ A+NLo[swwu  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 dt^yEapjM  
cM.q^{d`  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 ZLxe$.V_  
>")%4@  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup nU||Jg  
jQ1~B1(  
在 Beam Setup 中 %[Ia#0'Y@  
[&3G `8hY  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian laKMQLtv  
並且 wC..LdSR  
Spatial weighting uniform flux/weighted position daY^{u3  
nLJ]tpw^DH  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 0'c<EJ  
H /*^$>0Uo  
但是 <),FI <~  
}us%G&A2u  
光線的方向 ,r:. 3.  
OKxPf]~4E  
在 Beam Setup 中 {(7C=)8):  
OBF5Tl4  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 Y
&]pC  
3Akb|r  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 L}lc=\  
/vwGSuk._  
只能選擇一個光線射出的方向向量 J$]d%p_I  
=
y[eQS$  
j;J4]]R;o  
所以關於小弟的需求希望 qf(!3  
{6a";Xj\e  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  \ bd? `."  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 hdfNXZ{A"  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 :X,1KR  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 X];a(7+2  
d+ql@e]  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ po\QMe  
htkn#s~=  

你真农民啊。 ：） M)i2)]FS  
ERCW5b[RT  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 RVlC8uJ;P  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. W29@`93  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 ,K,n{3]  
G%Wjtrpj  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 Z_ak4C  
如果小弟想要產生 > ~J&i3  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 sMs 0*B-[  
M,3sK!`>  
~eA7:dZLb  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 0L S,(v4  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : 9K!kU6Gh  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 gGZ-B<  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. T<? (KW  
6-E>-9]'E  

.A6D&-&z  
H(?)v.%  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid O06 2c)vIY  
Grid pattern 设成 random