[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 abk:_  
uwS'*5tU  
目前要作一個發光表面 BKP!+V/  
lj}1'K@M  
表面的發光強度由中間最強 Om?:X!l"  
$GfxMt  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 ?$8 ,j+&I  
{*]=qSz  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 GL0':LsZ  
強度是高斯分佈沒有錯 B8#f^}8  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求  q&Ua(I  
BKjPmrZ|  
我想要的是 &B5R
zz-'  
cF<DUr)Ve  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 z )}wo3  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 G?/8&%8  
I8pxo7(-  
不知道大家能否給我些建議  ^^" RV@(&eM  
+WEO]q?K  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ &7y1KwfXn  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 w9?wy#YI  
k5\ zGsol  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 D'=`O6pK  
:zZM&r>  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup je0 ?iovY  
v<4X;4p^  
在 Beam Setup 中 7}?z=LHb3  
W#/Ol59  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian v:ZD}Q_  
並且 B9 {DO  
Spatial weighting uniform flux/weighted position 8XE0 p7  
TMs\#  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 X> KsbOZ  
T}LJkS~*l  
但是 Lf<9GYNy>`  
Sa(rl^qZ2  
光線的方向 'S ;vv]}Gs  
=1uI >[aN  
在 Beam Setup 中 Y`RfE  
>l[N]CQ  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 +{*&I DW  
tt91)^GdYa  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 a_x6 v*  
 ,1kV9_x  
只能選擇一個光線射出的方向向量 9tgkAU`  
Sy~Mh]{E  
=ye}IpC*M  
所以關於小弟的需求希望 @5ybBh]   
/267Q;d C)  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  ]YKWa"  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 `_ L|Is=n  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 !Hg#c!eOg  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 p*,mwKN:  
;RYKqUE  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ Lr&tpB<  
n40Z  

你真农民啊。 ：） 03y<'
n  
c9'b`#'  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 }#M|3h;q9+  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. wz=I+IN:  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 P[~a'u  
:gn!3P}p?  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 r+2dBp3  
如果小弟想要產生 :KwYuwYS  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 ;8UHPDnst  
uNjy&I:  
c"r( l~fc  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 5}f$O  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : K '7M\:zy  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 >E6w,Ab  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 5V]!xi  
_I+QInD;)  

V& _  
;X*I,g.+H  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid RX\%R  
Grid pattern 设成 random