[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 ?ztI8I/  
a.n;ika]-  
目前要作一個發光表面 7$;#-l  
#GDnV/0)  
表面的發光強度由中間最強 )\ `AD#  
tx,_0[hZi  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 <G9HVMiP  
+-DF3(  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 (=2-*((&(A  
強度是高斯分佈沒有錯 WpPm|h  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 iKJ-$x_5  
N~""Lc&  
我想要的是 -6Y@_N  
"!V-@F$@N  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 QKW\z aG  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 Nl4,c[$C  
Frn<~  
不知道大家能否給我些建議  ^^" y*F !k{P  
;6 ?a8t@  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ 6`PQP;
 
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 U<YcUmX  
rAn:hR
{  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 A>ve|us$  
bZ>dr{%%e  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup *EwDwS$$  
{pc (b  
在 Beam Setup 中 WfXwI 'y  
cy(4g-b]@e  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian wVq9t|V  
並且 TVM19
)9  
Spatial weighting uniform flux/weighted position X<D fzd oI  
n
)j0h-  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 y9N6!M|'y  
&P,uK+C4  
但是 Yr*!
T= z  
Hz"FGwd  
光線的方向 vqAEF^HYry  
~: fSD
0  
在 Beam Setup 中 8OMMV,QF  
>WA'/Sl<A<  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 e*yl_iW  
D/VEl{ba-  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 *10qP?0H  
#~m8zG  
只能選擇一個光線射出的方向向量 +c8t~2tuN  
73_=CP"t  
kLF~^/  
所以關於小弟的需求希望 2^=8~I!n&  
)MF 4b][  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  id9XwWV  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 \:g\?[   
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 W'~s  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 N4z[=b>  
'd|!Hr<2  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ O')=]6CQ*  
% H<@Y$r  

你真农民啊。 ：） &Nh zEl1  
*p=enflU  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 q7rb3d  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 5}Id[%.x  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 }K@m4`T  
pKpB  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 4:S]n19nq  
如果小弟想要產生 AE+BrN +"2  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 xMNQT.A  
n.qT7d(  
%[5GGd5w  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 [|1I.AZ{  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : Dd5 9xNKm  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 <(lA C
H  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. YK3>M"58  
Kk8}m;  

;3cbXc@]  
DYr#?} 40  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid !lgL=Ys(  
Grid pattern 设成 random