[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 Tbi]oB#  
joChML_  
目前要作一個發光表面 F%PwIB~cy  
cZDxsd]  
表面的發光強度由中間最強 a)_rka1(  
$c@w$2  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 w*<Y$hnBzF  
e' U"`)S  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 tIGVB+g{F  
強度是高斯分佈沒有錯 R,x>$n  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 SLJ&{`"7
 
aJ5H3X}Y  
我想要的是 2/yXY_L  
d1~_?V'r]  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 ggm2%|?X  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 tLD~  
KMK&[E#r  
不知道大家能否給我些建議  ^^" zd*3R+>U'>  
UT
DcX  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ 7$!`p,@we/  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 t*{,Gk  
|h5kg<Zgo  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 SaCx)8ul0  
+4Q[N;[+*  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup XM$GQn]B  
8$ic~eJ  
在 Beam Setup 中 [6H}/_nD  
s3seK6x'  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian d>&\V)E  
並且 )]73S@P(=  
Spatial weighting uniform flux/weighted position  ozU2  
[a@B =E  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 R;r|cep  
KGu= ;  
但是 >rKhlUD  
*%X.ym'  
光線的方向 OZ^h\m4  
CJp-Y}fGEA  
在 Beam Setup 中 [UoqIU  
[<yz)<<  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 EY~7oNfc`R  
G.Tpl-m  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 ;Z*'
D}  
?;^5ghY$  
只能選擇一個光線射出的方向向量 |CwG3&8  
UeA2c_ 5  
.3
@Ng  
所以關於小弟的需求希望 ojoxXly`  
;}D-:J-z_  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  JA<~xo[Q9  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 S;8.y
j-  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 ugI#ZFjJWE  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 +#~O'r]%GG  
q[P~L`h S  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ [t{](-  
a%E8(ms37y  

你真农民啊。 ：） [/OQyb4F<  
5mavcle{4r  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 :
_Fxy5}  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. x%6hM|U  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 BI.V0@qZ  
TKOP;[1h  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 ZMdW2_*F   
如果小弟想要產生 K_#UZA< Y  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 l3p3tT3+  
3gc"_C\
$  
t77'fm  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 ({M?
Q>s  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : xP@/9SM  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 6 =gp:I  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. DO^y;y>  
*Bw#c j  

r!K|E95oj9  
M|%c(K#E,3  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid OM!=ViN(=  
Grid pattern 设成 random