[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 {/th`#o4b  
5~v(AB(x  
目前要作一個發光表面 Ompi~  
>SY2LmV'a  
表面的發光強度由中間最強 z(c@(UD-_  
EY,;e\7O,  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 3(cU)  
yBJ/>SAcG  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 {d&X/tT  
強度是高斯分佈沒有錯 ocb%&m;i  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 A73V6"  
]J8KCjq@  
我想要的是 )Ix-5084  
C.b,]7i  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 ^D%}V-"  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 +,ZUTG  
 muK'h`  
不知道大家能否給我些建議  ^^" 61ON  
]}UeuF\  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ %J/fg<W1  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 kz$6}&uk  
$ g1wK}B3  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 =xlYQ}-(a  
{%+3D,$)  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup 1=o(sIeA  
2Xj-A\Oh~  
在 Beam Setup 中 i
}$N&  
(

F"& A?  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian [V#&sAe  
並且 yw3U"/yw  
Spatial weighting uniform flux/weighted position b3 %&   
P7BJ?x  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 U7f&N  
r/s&ee  
但是 &:cTo(C'  
hF=V
?\  
光線的方向 JG+g88  
<+i`W7  
在 Beam Setup 中 ^v'g~+@o  
wJ]$'c3  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 L[[H&#\  
zm)CfEF 8  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 xdTzG4  
dC;d>j,  
只能選擇一個光線射出的方向向量 D^R! |K/  
(EF$^FYPK  
MS*M
em,  
所以關於小弟的需求希望 l<)JAT;P  
\<MTY:  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  :R|2z`b!  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 Zkb,v!l  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 "6Hjji@A  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 E/ed0'|m  
GF.g'wYc)Y  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ {*=5qV}  
)>A%F
L9  

你真农民啊。 ：） O6/=/-?N=c  
XkfUPbU  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 BxN#Nk~  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. wCEfR!i  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 [~r$US  
_@3O`
 
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 JC?V].) y5  
如果小弟想要產生 Fe>#}-`  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 { dxyBDK  
_xwfz]lb+  
M(f*hOG{Y  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 qoq<dCt3  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : +{Ttv7l_2  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 b7/4~_s  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. :KwYuwYS  
5Ml}m  

P? n`n!qZ  
+X%yF{^m(  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid v>6r|{  
Grid pattern 设成 random