[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 `[U.BVP'  
:zLf~W  
目前要作一個發光表面 #jW=K&;
 
\=bKuP(it  
表面的發光強度由中間最強 s&-MJ05y  
x
\8|A  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 N&?V=X  
a.}#nSYP  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 L\E>5G;  
強度是高斯分佈沒有錯 # #2'QNN  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 QuPz'Ut#  
F P|cA^$<  
我想要的是 t"q'"FX  
jy?*`q1]  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出
p\lR1  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 'xGhMgR;  
M(LIF^'U:m  
不知道大家能否給我些建議  ^^" C&MqH.K  
t'@mUX:-A  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ i\ X3t5  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 %bN{FKNN  
L,y q=%h|  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 F8-GnTxa  
ojnO69v  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup L.'61ZU  
\{ EVRRXn  
在 Beam Setup 中 oqF?9<Vgc,  
&
!X<F,  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian TF:
'6#p  
並且 {TNORbZz  
Spatial weighting uniform flux/weighted position >o1dc*  
u.X]K:Yow  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 <?7qI85OT  
-z`FKej   
但是 \[3~*eX6  
v3Vve:}+  
光線的方向 EO)JMV?6  
"D.<~!  
在 Beam Setup 中 +=E\sEe  
D8L5t<^1R  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 1<_][u@  
R%RbC!P  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 Wf3BmkZzz  
Y`j$7!j  
只能選擇一個光線射出的方向向量 N E9,kWI  
vEg%ivj3  
{FvFah  
所以關於小弟的需求希望 Hj{.{V  
2(DhKHrF  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  #E!^oZm<Z  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 [oU\l+t  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 NuR7pjNMZ  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 ~ q-Z-MA  
6o#/[Tz  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ <)T| HKx  
4u}Cki,vOK  

你真农民啊。 ：） {`SMxDevc}  
} KyoMs  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 Nksm&{=6S  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. %htI!b+"@  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 q3#[6!  
l-%]f]>  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 GrG'G(NQ  
如果小弟想要產生 i5TGK#3o  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 _$AM=?P&  
:L@;.s  
MuD ? KK  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 O=bkq}  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : S=S/]]e  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 -wH0g^Ed  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. %VB
4/~ "  
Zc38ht\r;  

unFm~rcf  
, 0X J|#%  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid m["e7>9G  
Grid pattern 设成 random