[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 \alV #>J5  
`8W HVC$  
目前要作一個發光表面 bg-/ 8,  
30uPDDvar  
表面的發光強度由中間最強 Kus=.(  
<A)M^,#o  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 o=($'(1  
zq{UkoME  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 WM ?a1j  
強度是高斯分佈沒有錯 Icrnu}pl_  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 4)8VmCW  
K-C,n~-  
我想要的是 (?\+
  
1Y'4 g3T  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 d6QrB"J`  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 }p
sRgF  
}l7+W4~  
不知道大家能否給我些建議  ^^" >[|N%9\  
7:
u
+cv  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ b/z-W`gw  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 0 jth}\9  
pD$4nH4KST  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 d9f7 &  
]at$ohS  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup mk>; 3m*  
fq7#rZCxX  
在 Beam Setup 中 7>Z|K  
cI=6zMB  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian ,-pE/3|(  
並且 HGQ</5Z  
Spatial weighting uniform flux/weighted position B]rdgjz*  
boo361L  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 iiPVqU%  
;sB=f  
但是 l;; 2\mL?  
:R;w<Tbz"  
光線的方向 8?yIixhw  
7H6Ts8^S  
在 Beam Setup 中 \]ib%,:YU  
4>gfLK\R:  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 I5Vn#_q+b  
^)AECn  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 [?]N GTr#  
;wv[';
J  
只能選擇一個光線射出的方向向量 ?
x%s j  
|9E:S  
'oa.-g5  
所以關於小弟的需求希望 }LUvh  
PUdv1__C  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  ng1E'c]0@  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 ?WI v4
 
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 q*hn5K*  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 W5|{A])N  
5aQ)qUgAW  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ $S6(V}yh  
LRJX>+@  

你真农民啊。 ：） OM EwGr(  
iJ>=!Q  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 ^ D0"m>3r  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. e,(Vy  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 <&eJIz=  
jFQy[k-B  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 %Wtf24'o;v  
如果小弟想要產生 zw<<st Bp  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 0:{W t  
6~dAK3v5  
rJ/HIda  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 .*NPoW4Kv  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : 3 ;"[WOv  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 A*:|d~  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. oM>UIDCY_v  
3H<%\SYp  

u,:hT] ~+  
y5c\\e  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid 4dN <B U  
Grid pattern 设成 random