[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 q1r\60M  
W;~^3Hz6  
目前要作一個發光表面 4d!&.Qo9  
SK;f#quUQ  
表面的發光強度由中間最強 hh+GW*'~  
'!yyg#  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 {EW}Wd  
m$QFtrvy  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 pm5Yc@D  
強度是高斯分佈沒有錯 $N,9e  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 
{:4); .  
\Q^\z   
我想要的是 !RiPr(m@y  
O-|RPW}  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 y"t5%Iv  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 LwY_6[Ef  
d[TcA2nF
 
不知道大家能否給我些建議  ^^" S:Yo9~  
IEC:zmkn  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ 0&5}[9?V'  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 $
"_D"/*  
nk-?$'i9q  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 ("IRv>} 0  
Xhi9\wteYw  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup $s?q>Z)  
<A!v'Y  
在 Beam Setup 中 Ro?4t
Gn  
\@tt$ m%  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian VNA VdP  
並且 +D$\^ <#  
Spatial weighting uniform flux/weighted position Qt!l-/flh  
!3d+"tL S  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 op[OB=  
\
6nWt6M  
但是 F) < f8F  
R.+QK6B&  
光線的方向 (x#4BI}L9)  
S'2
B  
在 Beam Setup 中 [;#}BlbN  
[V}I34UN  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 i]xyD'0  
;l+3l ez  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 =f=MtH?0y  
RLecKw&1{3  
只能選擇一個光線射出的方向向量 Hi<{c  
Cc/?-0a2!  
@dD70T  
所以關於小弟的需求希望 4AzS~5
S  
kcM9 ,bG  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  Yb6(KT  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 bU(t5 [
  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 mgh,)=2cE(  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 vR-rCve$P  
WF-B=BRZ  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ FC/m,D50oI  
?VO*s-G:J  

你真农民啊。 ：） KYu3dC'/,&  
a UAPh  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 "Z#97Jc+J  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. (zCas}YAKI  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 w*eO9k  

g0 \c  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 L*6Tz'Qp  
如果小弟想要產生 /9/=]  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 &|LZ%W0Fb  
=iB0ak  
sV@kQ:  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 z)I.^  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : S\poa:D`  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 ~[Fh+t(Y  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. =".sCV9"N  
O$*\JL  

Ny" "lcy  
O>c2*9PM  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid UCBx?9O/0  
Grid pattern 设成 random