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    [求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

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    离线little1516
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-09-28
    小弟剛接觸tracepro三個多月 }nRTw2-z  
    R > [2*o"  
    目前要作一個發光表面 "Q`Le{  
    eiQ42x@Z  
    表面的發光強度由中間最強 E?0Vo%Vh  
    9~J#> C0}  
    依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 d=0{vsrB  
    < V*/1{  
    我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 " ?Ux\)*  
    強度是高斯分佈沒有錯 P=aYwmC  
    但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 SyI\ulmL  
    m al?3*x/  
    我想要的是 !CdF,pd/)m  
    7~~suQ{F4  
    光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 -(},%!-_  
    且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 R"y xpw  
    Px3I+VP  
    不知道大家能否給我些建議  ^^" 2fgYcQ8`  
    ;\(LovUy6  
    先謝謝大家了
     
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    离线qdmagi
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    只看该作者 1楼 发表于: 2009-09-28
    不知道用那个表面属性编辑功能是否可以? Z2 Vri  
    就是自己定义不同角度的光线能量,我也不是很懂,期盼高人出现!
    离线tb天保
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    只看该作者 2楼 发表于: 2009-09-29
    你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 4M!wm]n/%5  
    [&IcIZ  
    用GridSource可以设定。很方便的
    离线qdmagi
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    只看该作者 3楼 发表于: 2009-09-29
    嗯,Gridsource里面好像有高斯分布!
    离线little1516
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    只看该作者 4楼 发表于: 2009-10-13
    我有使用 K'/if5>Bc  
    GIT"J}b}  
    Define ~> Grid source ~> Beam Setup cW_l|  
    , Y,^vzX6  
    在 Beam Setup 中 sxS%1hp3  
    c<lEFk!g  
    Spatial profile 項目我選擇 Gaussian e2BC2K0  
    並且 ay| |yn:  
    Spatial weighting uniform flux/weighted position /fLm )vN  
    Q1{9>NI  
    這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 $RB p!7  
    '/9q7?[E!  
    但是 KX3A|  
    s|:1z"q  
    光線的方向 kma>'P`G  
    fFoZ! H  
    在 Beam Setup 中 8^D1u`  
    xX9snSGz  
    Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 QN?EI: q=  
    )m[<lJ bw  
    都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 FV3[7w=D\  
    RnU7|p{  
    只能選擇一個光線射出的方向向量 -"{g kjuv  
    XPZ8*8JL  
    #_`q bIOAj  
    所以關於小弟的需求希望 *0eV9!y  
    a1Q%Gn@R  
    光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  Gg]Jp:GF  
    且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 ho B[L}<c  
    如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 BX6kn/i  
    而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 Hq,@j{($  
    ,!LY:pMK  
    不知能否有高手提供經驗分享呢? '\+"3!$  
    fL d2{jI,  
    离线tb天保
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    只看该作者 5楼 发表于: 2009-10-13
    你真农民啊。 :) #`f{\  
    ~(yW#'G  
    Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 "vQ%` Q  
    你的光源, 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. q,%Fvcmx+e  
    离线little1516
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    只看该作者 6楼 发表于: 2009-10-15
    謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 q8-hbWNm4  
    mk^, {D  
    不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 \=[j9'N>  
    如果小弟想要產生 Xdl dUK[  
    朝四面八方射出的高斯分佈光源 z$}9f*W}B  
    sf[|8}(  
    *)`PY4zF  
    應該怎麼設定比較好呢?
    离线操大刚
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    只看该作者 7楼 发表于: 2009-12-31
    唉,好难懂啊 W94u7a  
    离线linmuyu
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    只看该作者 8楼 发表于: 2009-12-31
    看得有点懂了好累哦
    离线asm
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    只看该作者 9楼 发表于: 2009-12-31
    引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : e:4,rfF1  
    你真农民啊。 :)
    Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 }1V+8'D  
    你的光源, 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 2G5|J{4w  
    3*j1v:x`  
    9eP*N(m<  
    nSQ]qH&4d  
    我猜他要的是spatial profile 设成Guassian,angular profile 设成 Uniform,beam orietation 设成 perpendicular to grid 62.Cq!~  
    Grid pattern 设成 random