[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 Yg<o 9x$  
| z$ba:u5  
目前要作一個發光表面 fPZBm&`C  
!+JSguy  
表面的發光強度由中間最強 r-H~MisL  
ce1KUwo]  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 :*)~nPVV  
8/ZJkI  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 VKS:d!}3E  
強度是高斯分佈沒有錯 "Yq-s$
yBi  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 Q?I)1][ !"  
CNM/}|N^Si  
我想要的是 {jJUS>  
+\\*Iy'xK  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 %4i
mlP  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 UVxE~801Y  
K:465r:  
不知道大家能否給我些建議  ^^" rV[#4,}PF  
8y/YX  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ "z=A=~~<{  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 UH%oGp$ykX  
.%U~ r2Y(  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 7v?tSob:b  
yx{Ac|<mR  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup wju~5  
~_8Ve\Y^/  
在 Beam Setup 中 8kW9.   
:`:<JA3,  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian /v5Pk.!
o  
並且 **_VNDK+  
Spatial weighting uniform flux/weighted position D'fP2?3FK  
'x+0 yd  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 u\t[rC=yd  
mH;Z_ME"  
但是 g_0"T}09(  
X-:Ni_O\ty  
光線的方向 Mky$#SI11  
zesEbR)j  
在 Beam Setup 中 <Ks?g=K-  
n
'P:  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 )6bxP&k  
h,FP,w;G  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 ^>%=/RX  
"{z9 L+  
只能選擇一個光線射出的方向向量 1G.+)*:3  
5CU< ?  
45kMIh~~X  
所以關於小弟的需求希望 B susXW$  
^3=8*Xr  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  oYJ&BPuA'  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 k\ I$ve"*  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 Zr}`W\  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 Y1`.  
;lYO)Z`3\  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ !PUhdW  
ei\X/Z*q%P  

你真农民啊。 ：） 1+y&n?  
f{3FoN=z  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 }PED#Uv  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. ARQ1H0_B  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 ,(c="L4[  
A)`M*(~  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 HnY: gu  
如果小弟想要產生 o,aI<5"  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 .S?,%4v%%  
u{H_q&1  
X='4N<  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 Z+vLEEX*uQ  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : }"%tlU!}  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 9>\s81^  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. A2g+m  
kC0F@'D  

(wnkdI{  
M-"%4^8_  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid j8L!miv6  
Grid pattern 设成 random