[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 CWNx4)ZGw  
xw3YK!$sIF  
目前要作一個發光表面 >zhO7,=,  
9(L)&S{4K  
表面的發光強度由中間最強 x
,otFp  
qR8u$2}NY  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 .>mr%#p  
5e}A@GyC  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 CXO2N1~(J  
強度是高斯分佈沒有錯 x)JOClLr  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 >A<bBK#  
u_'!_T L  
我想要的是 K"0PTWt  
~>:Z6Le@  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 IR-dU<<9O  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 T<L^N+<,{N  
hTEx]# (  
不知道大家能否給我些建議  ^^" jU3Z*Z)zN  
GHHav12][  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ 0z[dlHi  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 /c$\X<b);  
s%!`kWVJ.  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 QJW`}`R
 
45@]:2j  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup =9G;PVk|  
tQ~WEC  
在 Beam Setup 中 >qo~d?+  
9]>iSG^H  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian .la&P,j_L  
並且 o+?rI p  
Spatial weighting uniform flux/weighted position +zkm(  
qUo-Dq>  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 w# *1/N  
FZH\Q~IUV  
但是 .5Q:Xp  
]fe
yJLF  
光線的方向 t=R6mjb  
^# A.@  
在 Beam Setup 中 nPkZHIxuD  
~JuKV&&}K  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 cE{ =(OQ  
6`$[Ini  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 (shK  
&s)0z)mR8&  
只能選擇一個光線射出的方向向量 [ut#:1h^  
[B0K  
15zrrU~D  
所以關於小弟的需求希望 !RlC~^ -  
uO >x:*^8  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  @("}]/O V:  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 On1v<SD$[  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 0m+8P$)C%  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 D6Y6^eS-  
cX At:m  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ GI
v){[i  
xq!IbVV/h  

你真农民啊。 ：） qSQ@p\O~  
bj"z8kP  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 2[dIOb4b  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. aQcN&UA@  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 bZ#X9fT  
z/1hqxHl  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 JJl7JwSTW  
如果小弟想要產生 e`s
w*m5  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 ,deUsc  
i
<u9:W  
_ K/swT{f  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 JmjxGcG  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : xnT3^
#-h  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 W0C{~|e  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. Xm%iPrl D  
-g9^0V`G  

v'h3CaA9j  
DakLD~H;  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid N?\bBt
@  
Grid pattern 设成 random