[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 /wr6\53J  
D~Z=0yD  
目前要作一個發光表面 Oz:D.V 3~  
g<f
P:/  
表面的發光強度由中間最強 SEYGy+#K  
SV&kWbS  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 a lrt*V|=  
#-,g&)`]  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 <#>Oy&E
 
強度是高斯分佈沒有錯 DYX-5~;!  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 YZ0en1ly  
i#k-)N _$  
我想要的是 ]x2Jpk99a  
pP3U,n   
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 ,NDh@VYe  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 3Q",9(D  
for{  
不知道大家能否給我些建議  ^^" 6{Ks`Af  
TfL4_IAG.  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ )U'yUUi  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 FZpsL-yx^N  
dhW<p5  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 8*s7m   
Sl>>SP  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup q}wj}t#  
~@Kf2dHes  
在 Beam Setup 中 [@3SfQ  
h!e2 +4{4{  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian .45^=2NGmQ  
並且 Z>2]Xx% \  
Spatial weighting uniform flux/weighted position aD ESr?  
@]=f?+y[ 2  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 +9[SVw8  
<GF@L  
但是 a4&:@`=  
w<t,j~ Pr#  
光線的方向 0^#DNq*NQ  
TJOvyz`t  
在 Beam Setup 中 3wC R|ab}  
/\J|Uj  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 <'&F;5F3V  
`*yAiv>  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 #mLuU  
ooE{V*Ie  
只能選擇一個光線射出的方向向量 3taa^e.  
FP@qh  
QaQ'OrP   
所以關於小弟的需求希望 iF9_b  
xU}M;4kH~  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  %l7fR
}  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 =yqHC<8:  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 >uy%-aXiVa  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 7>n"}8i  
&U"X$aFc  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ c+2%rh1  
XmWlv{T+  

你真农民啊。 ：） sLns3&n2  
ut&/\k=N  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 `;F2n2@  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 6RK\}@^=K  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 V'StvU  
K+),?Q ?.p  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 Q~Ea8UT.#  
如果小弟想要產生 }htPTOy5  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 Ty+I8e]{  
 `w<J25  
KQmZ#W%2m  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 `W5-.Tv  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : c:4P%({  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 uh3)0.nR  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. v/QUjXB
r  
nWYCh7  

|%7cdMC  
x_<qzlQt  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid 4 J^Q]-Z  
Grid pattern 设成 random