[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 ir( -$*J  
)Gu0i7iN  
目前要作一個發光表面 Rh05W_?Js  
%Q>~7P  
表面的發光強度由中間最強 /ynKKJx<Y  
oho AUT  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 KqG/a  
tk]_QX %  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 _>Pe]3  
強度是高斯分佈沒有錯 4w?]dDyc%  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 QiQ2XW\E  
&-=G9sb,  
我想要的是 ;%3thm7+  
QI :/,w  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 {d*qlztO  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 k*zc5ev}  

8k*  
不知道大家能否給我些建議  ^^" F|h,a;2  
CrQA :_Z(7  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ ,~ia$vI}R  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 >R'VY "\  
t"Vr;0!{  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 v
>cE59('0  
QRG)~  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup e.Q K%  
^HN  
在 Beam Setup 中 Ch&]<#E>`  
#WmAkzvq  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian z?> y  
並且 $Aoqtz d\  
Spatial weighting uniform flux/weighted position WHj4#v(  
x]01j4HJ  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 pj-HLuZR  
tJF~Xv2L!  
但是 oX~$'/2v  
oZcwbo8  
光線的方向 <|.! Px86  
lN
eF>zz  
在 Beam Setup 中 nXaX=  
?g#t3j>zoF  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 j I@$h_n  
}eRG$)'  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 SIVLYi  
nKJ7K8)  
只能選擇一個光線射出的方向向量 I=Dk'M  
W>s9Mp  
4O"kOEkKT>  
所以關於小弟的需求希望 c5+lm}R?  
+dpj?  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  ){|Lh(  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 #$rT 4Nc;  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 *H<g9<Dn  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 KK3xz*W0  
2*DS_=6o  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ gJ~*rWBK:  
ij5=f0^4.  

你真农民啊。 ：） u)]sJ1p  
9f[[%80  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 )F2tV ]k\  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. ~i#xjD5  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 0t0:soZx  
FeRuZww._J  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 pD/S\E0@t  
如果小弟想要產生 =D$r5D/xd  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 S
kUP9  
CU&,Kq@  
GQNiBsV  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 L4%LE/t|e  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : K:mb$YJ&  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 JHcC}+H[  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. N G4wtDa  
H'+P7*k#M  

YQ&Xd/z-  
J*.qiUAgW  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid k@^)>J^  
Grid pattern 设成 random