[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 1Z{ZV.!  
y^7}
oH _  
目前要作一個發光表面 g#]wLm#
 
eHDef  
表面的發光強度由中間最強 p _d:eZ  
pHoEa7:  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 w,Ee>cV]a  
L.]$6Q0  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 $<ld3[l i  
強度是高斯分佈沒有錯 w
u"&|dt  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 tl'n->G>v  
Dde]I_f
}  
我想要的是 X*,Kb(3   
Jjl`_X$CB  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 e L.(p k^<  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 y*M
F&mQ[  
""Q1|  
不知道大家能否給我些建議  ^^" d6i6hcQE  
.k[o$z\EkF  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ xJ2*LM-  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 k=GG>]<i  
];%0qb  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 S]sk7  
D\/xu-&  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup D}3XFuZs_  
U}Hwto`R  
在 Beam Setup 中 (wmBjQ]B<  
`IINq{Zk  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian >ds%].$-\  
並且 2}?wYI*:5|  
Spatial weighting uniform flux/weighted position OPBt$Ki  

]aCk_*U  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 p#f+P?  
(yo;NKq,@  
但是 7 1W5.!  
d+iR/Ssc  
光線的方向 M9!AIHq4  
0^'
B3$>  
在 Beam Setup 中 {J/I-=CmML  
Wl^R8w#Z$  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 yz+, gLY  
b{DiM098  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 sM1RU  

,~zj=F  
只能選擇一個光線射出的方向向量 `nR%Cav,U  
?j7vZ}iRi  
cD1o"bq  
所以關於小弟的需求希望 &@"]+33  
+kdyS
WF  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  Uh.Zi3X6}6  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 1gO2C$  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 Q4s&E\}  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 (UNtRz'=;  
>95TvJ  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ )_zlrX  
&K^MNd  

你真农民啊。 ：） +V v+K(lh$  
t0PQ~|H<KV  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 Z#`0txCF  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. {F*N=p
Sq  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 r -
f  
!>;w
!^U  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 o%(bQV-T  
如果小弟想要產生 2]jPv0u  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 twqFs  
i8V0Ty4~N  
].DY"  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 A^pW]r=Xtk  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : .GtINh
z*  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 )biX8yqhR  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. fA;x{0CAMX  
=$[W,+X6f  

={OCa1  
: qr}M  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid zcZ^s v>  
Grid pattern 设成 random