预镀层改变光控片的组合导纳,从而改变真正成膜时光量的走势。提高判断准确度。 NVF gRJ&
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设想, 要求镀 200nm厚 SiO2,折射率 1.44。 *Y2d!9F}Sa
1.44*200 = 2 *576/4, 即 用 576nm波长监控时,走两个极值。 SAa
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光控片是玻璃或石英时,光量变化幅度很小,光控很难判断。 }+_Z|>qv
如果用 576nm 波长将光控片预镀HLH,H是高折射率材料。 假如H=2.2,那么此时 再镀 SiO2时,它的透过率起伏幅度可以达到 25%。同样走两个极值,但容易判停了。 KLc<c1BZ
在只有单一波长监控下,还是很有用的。