光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
jDXGm[U ^jjJM| a 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
h\*rv5\M SoU'r]k1x 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
}, &,Dt IC.<)I 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
cqL7dlhIl :*:fun
c_$&Uii 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
XW_xNkpL5c 2$zq ( f\_!N
"HW 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
}_(^/pnk ?En|
_E_C <` j[;>O 单击Next_Apply即可。
m4SXH> o pUMB)(<k m2q;^o:J 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
<&s)k |;u%JW$4
p $1Rgm\ 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
<ivqe"m pebx#}]p- K*U=;*p) 单击OK.再Load新建的目标,
d?&!y]RS# {_toh/8)r *- IlF] 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
)Z8"uRTb0 56=K@$L {F E7NbPNd 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
MpIw^a3(r Y =g>r]2