光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
AQ@A$ Q TM+WD 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
U.d*E/OR5 :N(L7&< 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
&:w{[H$- (,HAOs
设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
_k
_F jUdW o}/ CfA
F.H 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
0W#.$X5 1 BVivEG 'Zk&AD ~ 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
/9W-;l{=z 0G;RMR ':5 Yr!<O&= 单击Next_Apply即可。
luAhyEp v='7.A @^/JNtbH! 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
yP~D." ,NKDEcw] uflp4_D 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
u]CW5snz 6SW:'u|90 i5V ly'Q 单击OK.再Load新建的目标,
PJ9JRG7j Wv$e/N`l G$Z8k,g+<7 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
N!^U{;X7/ %q(n'^#Z.y Qq^>7OU>Co 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
sm/l'e wIL5-k,