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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 ^DIN(0u)  
    ( 4b&}46  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 vA+RZ  
    !fz`O>-mZ  
    f~"3#MaV  
    场景 A$|> Jt  
    1!=$3]l0Lj  
     6G1Z"9<2*  
    ^3*gf}  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 b6g,mzqu  
    U6_1L,W  
    系统构建块     !%5{jO1  
    }V9146  
     )[zyvU. J3  
    2X6y^f';\  
    组件求解器 ]4hXK!^Uu  
    iiRK3m  
    9lny[{9  
    y )/d-  
    Zwq uS9  
    G#l zB`i  
    系统构建块 d8Upr1_  
    1eT|  
     :G}tvFcOAF  
    S%Ja:0=}?  
    总结 5X~ko>  
    a^sR?.+3  
    TTqOAo[-Z  
    BRH:5h  
    几何光学仿真 v[lytX4)  
    通过光线追迹 `D#l(gZ  
     uomFE(  
    结果：光线追迹 R[#5E|` `9  
    ?g<*1N?:  
     Y&gfe8%5N  
    P,wFib^1  
    快速物理光学仿真 Ke,-8e#Q  
    通过场追迹 "~FXmKcX  
     oWJ}]ip  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Ppx*  
    Y!Z@1V`  
     _X@:- _  
    L8Z?B\  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -"a])- j  
    d2(eX\56Z  
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    2TAy'BB;)  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9jvg[ H  
    V7^?jy&&  
    ^5GS !u"  
    %:oGyV7a  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r#{lpF,3Ib  
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     dxASU|Yo9  
    B,gQeW&  
    总结 @MN>ye'T  
    j*6!7u.,K  
    }hBv?B2/1  
    zV2c `he%z  
    文件信息 [s7I.rdGzz  
    ? X:RrZ:/  
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