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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 w&p(/y  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 %Z<{CV  
    [|1I.AZ{  
    MTCfs~}m  
    场景 jk&xzJH.  
    "FA. T7G  
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    G 3,v'D5  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 C0/^6Lu"o  
    #@OPi6.#!<  
    系统构建块
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    组件求解器 dt:$:,"   
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    系统构建块 Znb7OF^#"  
    Wj^e)2%  
    9/29>K_  
    ceE]^X;p  
    总结 ltgtD k  
    v;e8W9M  
    \alV #>J5  
    W6i{ yne W  
    几何光学仿真 9D1WUUa  
    通过光线追迹 T2<%[AF0  
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    结果:光线追迹 QcQ%A%VIV  
    y0mNDze  
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    B??07j  
    快速物理光学仿真 ? /z[Jx.  
    通过场追迹 (^ EuF]  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 u3+B/ 5x  
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    ZK^cG'^2|  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 H/*ol^X7  
    WqNXE)'  
    /VT/KT{  
    p 4> ThpX  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 0W*{ 1W  
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    i)z|= |?  
    %DKFF4k  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 f+ceL'fr  
    [UzD3VPg  
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    总结 E:pk'G0bZ  
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    c,2& -T}  
    NVv <vu  
    文件信息 H/O.h@E4X  
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