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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 >o(*jZ  
    M8 ++JI  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 t6LTGWs/_o  
    g%^Zq"  
    6`EyzB%.$  
    场景 [rGR1>U?i  
    [D /q%  
     .H9!UQ&It  
    `t#C0  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 GfVMj7{  
    /GCSC8T  
    系统构建块     [?;oiEe.|  
    <;W4Th<4  
     KA.@q AEB  
    0z\=uQ0  
    组件求解器 =axi0q?}  
    k%uRG_  
    m@"!=CTKd  
    E6BW&Xp  
    o'R_kadN[T  
    ?jb7Oq#[  
    系统构建块 yUBic~S  
    @-Gf+*GZys  
     D|UDLaz~  
    9/^4W.  
    总结 \#~~,k 6f  
    XbG=H-|  
    E-n!3RQ(w  
    |nMbf  
    几何光学仿真 vChkSY([  
    通过光线追迹 O+(Z`,^  
     %K?~$;Z.  
    结果：光线追迹 YIjBKh  
    ./.E=,j  
     At.WBa3j%{  
    LP.-  
    快速物理光学仿真 0wxQ,PI1'  
    通过场追迹 G=\rlH]N  
     `5h$@  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 0]NjsOU =  
    vzs6YsA  
     r+\it&cW+  
    4dl?US[-  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 R"K{@8b  
    \:^$ZBQr<n  
     7Nx@eoZ  
    #& R x(  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 L"#Tas\5  
    &\K,kS[.r  
    p5>TL!4M  
    | u36-  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 hoeOdWI pf  
    &V iIxJZ1$  
     SlsMMD  
    &`t-[5O\  
    总结 >P+V!-%#  
    #P18vK5  
    ^!E;+o' t  
    'U5 E{  
    文件信息 <S TwylL  
    E$*I.i_m  
     {h|3P/?7  
     
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