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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 ZW2s[p r  
    q/J3cXa{K  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 fSC.+,qk  
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    场景 Jh(mbD  
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     W[ "HDR  
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    在VirtualLab Fusion中构建系统 c.6QhE  
    q]?+By-0  
    系统构建块     E$&;]a  
    s|p(KWo2U  
     }amE6  
    dff#{  
    组件求解器 'T{pdEn8u  
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    tQCj)Ms'X  
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    系统构建块 {!tOI  
    'U*udkn 2]  
     fIlIH  
    wtUG^hV #_  
    总结 2PI #ie4  
    {8W |W2o$!  
    R3cG<MjmK  
    cxk=| ?l  
    几何光学仿真 Cb<~i  
    通过光线追迹 6vZt43"m?\  
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    结果：光线追迹 SaTEZ.  
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     Q,O]x#  
    W|)(|W  
    快速物理光学仿真 1w6.   
    通过场追迹 uJ7,rq  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 d!FONi  
    MEDskvBG  
     ^S3A10f,  
    KS8\F0q  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 s@R3#"I  
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    jWz|K  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9eksCxFg  
    ?T~3B]R  
    ]eORw $f  
    =]6_{#Z<  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X/K| WOO6  
    9? v)  
     I*%&)Hj~  
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    总结 I]s:Ev[~  
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    ^$3w&$K*  
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    文件信息 eo-XqiJ,]  
    Yk x&6M@t  
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