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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 [DD#YL\P  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 SL 5QhP  
    12LGWhDp  
    Xv2Q8-}w  
    场景 +<rWYF(ii/  
    \V%l.P4>e  
    hQ\W~3S55  
    Ye]-RN/W  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ]US  
    JIU8~D  
    系统构建块
    s6(bTO.  
    0P l>k'9  
    =58:e7(df  
    |mF=X*  
    组件求解器 O#n=mJ  
    d7P' c!@+  
    VI k]`)#  
    /Y0oA3am  
    -(JBgM"  
    kK_9I (7c  
    系统构建块 W0k7(v)  
    ]S7>=S  
    ^*'fDP*  
    cP^c}e*;NS  
    总结 Ctx{rf_~  
    0S#T}ITm4Z  
    }9~U5UXWU  
    Kr%w"$<  
    几何光学仿真 CZDWEM}   
    通过光线追迹 g=e~YM85  
    L XHDX  
    结果:光线追迹 8;$zD]{D1  
    1 Sz v4  
    @n^2UJ  
    1T0s UIY  
    快速物理光学仿真 dh V6r  
    通过场追迹 /|p6NK;8L  
    (y5 ]]l  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _<u>? Qt  
    j2s{rQQ  
    &Ivf!Bgm{Z  
    *:"p*qV*  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~n;U5hcB  
    [7Liken  
    ` M!'PMX  
    6kHuKxY,  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 J[al4e^  
    F4$9r^21r  
    $f AZ^   
    P~h 0Ul  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 p9[gG\  
    n'8 3P%x  
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    总结 0?*":o30  
    +[7 DRT:  
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    文件信息 an)Z.x  
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