切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 27阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7113
    光币
    29706
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 7小时前
    摘要 ![iAALPNl  
     7@m  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 U&/Jh^Yy  
    h"')D  
    xgtdmv%  
     _~DFZt@T  
    1. 案例 % j7lLSusX  
    %9=^#e+pE  
     rj*4ZA?  
      81/Bn!  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 oZ@_o3VG  
     J%;TK6  
    1. 系统构建模块 ?(!$vqS`f(  
    2|#3rF  
     }{S W~yW  
    N.u)Mbe   
    2. 组件连接器 H.Z:at5n  
    _'dsEF  
    3Cwqy#X#8  
          K,^{|5'3q  
    几何光学仿真 e4ajT  
     ?PSm) ~ Oa  
    以光线追迹 ]`y4n=L.  
     lvb0dOmY  
    1. 结果：光线追迹 /H,!7!6>?  
    ,l` q  
    s%J|r{F6  
          p/'C v  
    快速物理光学仿真 ZV_Z)<  
     l<{]%=Qg  
    以场追迹 NJ 7N*   
     \A5cM\-  
    1. NA=1.4时的光栅成像 p(~>u'c  
    =[?2'riI  
     yc4mWB~gyU  
    ?ae:9ZcH  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 xue-5 '  
       %dS7u$Rnh  
    xK0VWi  
    +vLuzM-  
    3. NA=0.5时的光栅成像 &H,j .~a&l  
       <0R7uH  
    FymA_Eq  
     =2)5_/9au  
    文件信息 \y: 0+s/  
    @iy ^a  
     pR&cdO RsP  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表