切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 113阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7172
    光币
    30001
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-18
    摘要 Ha/\&Z(  
     +2?0]6EQ  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 h:GOcLYM@X  
    FSBCk  
    z$<6;2  
     >WD^)W fa  
    1. 案例 (Dn-vY'  
    1a)_Lko  
     21WqLgT3 4  
       JA)gM  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 wM yPR_  
     D!<$uAT  
    1. 系统构建模块 I|ULf  
    54;iLL  
     s<dD>SU  
    000 $ZsW?  
    2. 组件连接器 ef. lM]cO  
    q+:(@w6  
    'w!gQ#De  
          $XI<s$P%(%  
    几何光学仿真 XVLuhw i  
     2l SM`cw  
    以光线追迹 M$?6 '  
     j(BS;J$i  
    1. 结果：光线追迹 ChW0vIL`  
    R] [M_ r  
    2at?9{b  
          MU e 'xK  
    快速物理光学仿真 O1ha'@qID  
     &Kv evPF  
    以场追迹 =5/;h+bk+3  
     t? A4xk  
    1. NA=1.4时的光栅成像 +{%4&T<nHw  
    nMa^Eq#  
     g Oj5c  
    t(Zs*c(  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 L@4zuzmlb  
       *D{/p/|[  
    Q kZM(pG  
    :|M/+XPu  
    3. NA=0.5时的光栅成像 9$,gTU_a  
       U&n>fXTHn  
    B#?2,  
     @."o:K  
    文件信息 8T)zB6ng  
    U+"=  
     rH9}nL  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表