客户背景
{mU%.5 长春理工大学光电测控与光信息传输技术教育部重点实验室与光电工程学院长期从事微纳
光学、光学超表面等领域的研究工作。研究团队在减反射微纳结构方向积累了丰富的研究基础,致力于推动微纳光学技术在高精度光学探测等领域的实用化进程。
(*A@V%H 2(d 面临的核心挑战
_EMXx4J 减反射微纳结构表面(如“蛾眼”结构)具有宽
光谱、宽角度抗反射的优异光学性能,在光
电池、光探测等领域具有广阔的应用前景。
DQ0S]:tC 然而,研究团队在研发过程中面临一个根本性矛盾:
~;oXLCL0}) 微纳结构为实现宽带减反射需要设置很大的深宽比,导致结构稳定性严重降低,极易因摩擦、灰尘等外界环境而损伤。传统增强机械稳定性的方法(如离散微观结构、
纳米涂层等)主要考虑机械性能与超疏水性能,较少兼顾光学性能,难以直接应用于光学微纳结构表面。
vL _yM /5E0'y,|P 如何在不改变原有微纳结构
光学设计的前提下,提升整体结构的机械稳定性,同时仅引入微弱的光学性能损失,成为团队亟待突破的技术瓶颈。
N@PuC> 5 51_;,t VirtualLab Fusion 解决方案
{EZR}N FtJaX])b 面对这一两难困局,长春理工大学研究团队提出了复合网栅减反射微纳结构表面的创新设计思路——在硅基底上构建氧化硅复合网栅结构,使减反射微纳结构处于复合网栅下层,通过网栅结构实现对内部微纳结构单元的力学保护。
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E0qJ.v 7B0`.E^~ 然而,网栅结构的引入会改变表面的电磁场分布,直接影响减反射性能。研究团队在研究中采用了多款仿真
软件协同工作的策略,其中,VirtualLab Fusion在光学性能评估环节发挥了关键作用。
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?Om]:j 1.网栅材料的选择
w&IYCYK_ 团队利用VirtualLab Fusion对比了Cu(铜)与SiO₂(氧化硅)两种网栅材料对
光学系统的影响。在3~5 μm宽光谱条件下,Cu网栅结构产生的平均衍射能量占比约为9%,而SiO₂网栅结构的衍射能量占比显著更低。从MTF曲线对比来看,SiO₂材料的三种网栅结构(六边形、正方形、三角形)MTF曲线高度重合,而Cu材料的三种网栅结构对应的MTF曲线变化较大,说明金属网栅在实际光学系统应用中会对
成像产生很大影响。
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