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J/NYV 内容简介 k2/t~|5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 F/ui(4 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 FBeo@ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 W4q
|55 B|ctauJ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 $CDRIn50 目录 p0Pmmp7r
Preface 1 #O N^6f2 内容简介 2 L~("C 目录 i 2$b JMx> 1 引言 1 ^VsE2CX 2 光学薄膜基础 2 I#/"6%e 2.1 一般规则 2 GG
%*d] 2.2 正交入射规则 3 x}~Z[ bx 2.3 斜入射规则 6
PckAL 2.4 精确计算 7 HdRwDW@7= 2.5 相干性 8 -ND1+`yD 2.6 参考文献 10 /^$n&gI 3 Essential Macleod的快速预览 10 S;j"@'gz9 4 Essential Macleod的特点 32 %gu | 4.1 容量和局限性 33 B&AF(e ( 4.2 程序在哪里? 33 J"K(nKXO_? 4.3 数据文件 35 QYps5zcn 4.4 设计规则 35 3QCCX$, 4.5 材料数据库和资料库 37 {hoe^07XK 4.5.1材料损失 38 y#FFxSH> 4.5.1材料数据库和导入材料 39 vG:S(/\> 4.5.2 材料库 41 :cKdl[E4z 4.5.3导出材料数据 43 X*M2 O%g`L 4.6 常用单位 43 "dHo6CT,y_ 4.7 插值和外推法 46 y
~Fi 4.8 材料数据的平滑 50 vi]cl=S 4.9 更多光学常数模型 54 5!BW!-q 4.10 文档的一般编辑规则 55
[IgqK5@ 4.11 撤销和重做 56 7U?#Xi5 4.12 设计文档 57 +6$-"lf 4.10.1 公式 58 {qU;;`P]| 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <&2<>*/.y 4.10.3 沉积密度 59 Q1ayd$W@< 4.10.4 平行和楔形介质 60 !uO@4]:Y 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 &:u3-:$:9 4.10.4 性能 61 v*FbvrY 4.10.5 保存设计和性能 64 bsr]Z&9rrk 4.10.6 默认设计 64 `9gV8u 4.11 图表 64 /xcXd+k] 4.11.1 合并曲线图 67 ,zr,>^v 4.11.2 自适应绘制 68 ZJc{P5a1J 4.11.3 动态绘图 68 iH@u3[w 4.11.4 3D绘图 69 l'@!' 4.12 导入和导出 73 WPAUY<6f 4.12.1 剪贴板 73 f6Lc"b3s1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 "'@D\e} 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 N~fE&@- 4.13 背景 77 GB<.kOGQ[ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 q5JQx**g 4.15 生成Rugate 84 </@5>hx/ 4.16 参考文献 91 ryw%0H18 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 9v;HE{> 5.1 Jobs 92 $Dx*[.M3> 5.2 创建一个新Job(工作) 93 [CfZE 5.3 输入材料 94 eThFRU3 F 5.4 设计数据文件夹 95 z5@i"%f 5.5 默认设计 95 pZlt4 6 细化和合成 97 6 C
O5:\ 6.1 优化介绍 97 ao=e{R) 6.2 细化 (Refinement) 98 C.":2F;-e 6.3 合成 (Synthesis) 100 0l& '` 6.4 目标和评价函数 101 "
DLIx} 6.4.1 目标输入 102 EJMd[hMhe 6.4.2 目标 103 (aC=,5N 6.4.3 特殊的评价函数 104 &|}QdbW 6.5 层锁定和连接 104 kX`m(
N$ 6.6 细化技术 104 ; %(sbA 6.6.1 单纯形 105 Vdefgq@< 6.6.1.1 单纯形参数 106 q
}>3NCh 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 =$^90Q,Z; 6.6.2.1 Optimac参数 108 (*=>YE'V{ 6.6.3 模拟退火算法 109 mMOgx 6.6.3.1 模拟退火参数 109
!bCL/[ 6.6.4 共轭梯度 111 VpAwvMw 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 !Q_Wbu\U 6.6.5 拟牛顿法 112 CGlEc 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 /kK!xe 6.6.6 针合成 113 .0RQbc9 6.6.6.1 针合成参数 114 ,H,[)8 6.6.7 差分进化 114 iGz*4^% 6.6.8非局部细化 115 u-s*k*VHoc 6.6.8.1非局部细化参数 115 LAnC8O 6.7 我应该使用哪种技术? 116 4 qY 6.7.1 细化 116 WcS`T?Xa 6.7.2 合成 117 J$5G8<d> 6.8 参考文献 117 00f'G2n 7 导纳图及其他工具 118 ZzTkEz > 7.1 简介 118 V*fv>f:Yv 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 KS$"Re$ 7.2.1 四分之一波长规则 119 53ZbtEwhwr 7.2.2 导纳图 120 ^BRqsVw9 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "*j8G8
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 @Lf&[_ 7.5 斜入射导纳图 141 ER~RBzp 7.6 对称周期 141 rC!"< |