-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-10-30
- 在线时间1996小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
P!~B07y 内容简介 WvWZzlw Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 8 Tm/gzx 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 KPI[{T\`ZM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 n_-k <3 cb9@
0^- 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 8:}$L)[V 目录 N"/be Preface 1 vz'<i. Yv4 内容简介 2 ;%xG bg!lg 目录 i ,\E5et4 1 引言 1 kl9<l* 2 光学薄膜基础 2 uCGn9] 2.1 一般规则 2 +ZeK,Y+Xy 2.2 正交入射规则 3 {m5R=22^ 2.3 斜入射规则 6 b;t b&o 2.4 精确计算 7 [NguQ]B. 2.5 相干性 8 )\,hc$<=m 2.6 参考文献 10 Wx-rW 3 Essential Macleod的快速预览 10 _D."KU| 4 Essential Macleod的特点 32 0+"P1/ 4.1 容量和局限性 33 ~n!7 ?4%U 4.2 程序在哪里? 33 u"M^qRhD 4.3 数据文件 35 wfc+E9E 4.4 设计规则 35 %~YQlN 4.5 材料数据库和资料库 37 ($:JI3e[; 4.5.1材料损失 38 %'<m[wf^ o 4.5.1材料数据库和导入材料 39 PVUNi: h 4.5.2 材料库 41 C$fQ[@ 4.5.3导出材料数据 43 h*?/[XY 4.6 常用单位 43 4p_@f^v~QH 4.7 插值和外推法 46 [[d@P%X& 4.8 材料数据的平滑 50 E9n7P'8 4.9 更多光学常数模型 54 &1,qC,:! 4.10 文档的一般编辑规则 55 WJ(E3bb 4.11 撤销和重做 56 <=7^D 4.12 设计文档 57 t!}?nw%$ 4.10.1 公式 58 ];G$~[ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 K>fY9`Whm 4.10.3 沉积密度 59 OX/}j_8E^( 4.10.4 平行和楔形介质 60 D1<$]r, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 E[E[Za^Y 4.10.4 性能 61 L~xzfO 4.10.5 保存设计和性能 64 -YP>mwSN? 4.10.6 默认设计 64 ,c'a+NQ_t 4.11 图表 64 z hFk84 4.11.1 合并曲线图 67 )9JuQ_R 4.11.2 自适应绘制 68 WL5!H.q 4.11.3 动态绘图 68 } ~#^FFe 4.11.4 3D绘图 69 9b*1-1" 4.12 导入和导出 73 _"#ucM=B:- 4.12.1 剪贴板 73 3xz{[ 5<p 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 /4n :!6rt 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 4`+hX' 4.13 背景 77 K# dV. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 y1:#0 4.15 生成Rugate 84 kKg%[zXS 4.16 参考文献 91
[{!5{k! 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 A1,- qv1s 5.1 Jobs 92 m]NyEMYg 5.2 创建一个新Job(工作) 93 b bO1`b- 5.3 输入材料 94 B?tO&$s 5.4 设计数据文件夹 95 y-c2tF@'v 5.5 默认设计 95 7T3ub3\ 6 细化和合成 97 /^z5;aG 6.1 优化介绍 97 @}cZxFQ!C 6.2 细化 (Refinement) 98 mMEa*9P 6.3 合成 (Synthesis) 100 zWh[U'6 6.4 目标和评价函数 101 qSWnv`hL 6.4.1 目标输入 102 =a.avOZ 6.4.2 目标 103 I5J9,j 6.4.3 特殊的评价函数 104 R_2JP C 6.5 层锁定和连接 104 \kGi5G] 6.6 细化技术 104 T=QV =21qn 6.6.1 单纯形 105 :3x |U,wC 6.6.1.1 单纯形参数 106 6M`N| % 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 CS*wvn;. 6.6.2.1 Optimac参数 108 L)o7~M 6.6.3 模拟退火算法 109 %CP:rAd`M. 6.6.3.1 模拟退火参数 109 0-W{(xy@4 6.6.4 共轭梯度 111 Vuqm{bo^ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 uE6;;Ir#mF 6.6.5 拟牛顿法 112 BEzF'<Z 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 iZ3%'~K<3J 6.6.6 针合成 113 0#rv.rJ{ 6.6.6.1 针合成参数 114 1wa zJj=v 6.6.7 差分进化 114 ![BQ;X 6.6.8非局部细化 115 2I#4jy/g 6.6.8.1非局部细化参数 115 *SX'Or, 6.7 我应该使用哪种技术? 116 v@0lTl_ 6.7.1 细化 116 Z;{3RWV 6.7.2 合成 117 I~$LIdzw 6.8 参考文献 117 t4H@ZvAH0 7 导纳图及其他工具 118 YpT x1c- 7.1 简介 118 Tej-mr3P 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 lFNf/j^Z 7.2.1 四分之一波长规则 119 *8uSy/l 7.2.2 导纳图 120 v^h
\E+@ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ?N,'1I 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 @]#0jiS 7.5 斜入射导纳图 141 b&;1b<BwD 7.6 对称周期 141 l0 H,TT~2 7.7 参考文献 142 %7PprN0> 8 典型的镀膜实例 143 ;u'mSJI' 8.1 单层抗反射薄膜 145 l+.E' 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 IwIk;pB O 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {Tp0#fi 8.4 W-膜层 148 |yi3y `f 8.5 V-膜层 149 bN$!G9I!, 8.6 V-膜层高折射基底 150 6ZBg/_m 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 T{={uzQeJJ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 HN\Zrb 8.9 四层抗反射薄膜 153 H V`{YuP 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ,*2%6t`N? 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Ds$8$1=L=k 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 |#x;}_>7 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Rla4XN=mf 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 66?!"w 8.15十五层宽带抗反射膜 159 K2TO,J3 E 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 uD&!]E3 8.17 1/4波长堆栈 162 h94SLj] 8.18 陷波滤波器 163 O /wl";- 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
';x .ry 8.20 褶皱 165 @^y/V@lDm 8.21 消偏振分光器1 169 N7%+n*Z 8.22 消偏振分光器2 171 6y,M+{ 8.23 消偏振立体分光器 172 ,@=qaU 8.24 消偏振截止滤光片 173 N5rY*S 8.25 立体偏振分束器1 174 _F^k>Lq& |