[求助]新人镀膜问题求教 [复制链接]

楼主是去年8月份接触光学镀膜行业的，从刚开始什么也不懂，到现在对镀膜设备和工艺有了一定的初步认识，年前在这里注册了账号，潜水看以往的帖子进行学习。 D!/0c]"  
现在工作中遇到几个问题，想问下求助大家（使用磁控溅射，镀膜材料是NB2O5和SIO2） DU`v J2  
1.我们生产AR有两种膜系，一个总膜厚在240nm左右，另一个总膜厚在260nm左右。都是7层。我们修组系数后产品打样测得离散数据和240nm NFV_+{X\  
的膜系就是曲线趋势对的上的，而260nm膜系的产品打样就对不上，这是因为修组系数时镀的单层膜厚有关吗？ V pH|R  
2.设备镀膜的氩气和氧气的最佳配比该如何找？ Y.X4*B  
3.我们真空计是成都睿宝的，电离规的玻璃规管在网上买到后货不对板，不是成都睿宝的，这个能用吗？ T$IUKR  
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起镀真空有点高，但问题还是在抽速上。 `T`c@A  
有时候泵的劣化很隐蔽，只看极限真空是没问题的。 -?Ejbko  
但是一加上负载，真空度就突突的往上跑。 d _uFY:  
这样其实不管对设备还是产品都不是好事。 }`#B
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ouyuu:真空度太差了，一般镀膜应该-2左右，蒸镀要控制在1.5E-2Pa以下。真空度差的话射频容易打火 (2026-04-21 18:16)  ^Kb9@lz/  

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我们设备设定的镀膜真空是0.008pa，到达该真空通Ar和O2后，真空就到了0.3-0.5pa。

剑雨剑芒:我们设备镀膜时真空度大概在0.3到0.5pa左右。 (2026-04-20 15:17)  > Z.TM=qj  

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真空度太差了，一般镀膜应该-2左右，蒸镀要控制在1.5E-2Pa以下。真空度差的话射频容易打火

ouyuu:记录一下各材料镀膜时候的真空度，和之前的记录比较一下。看看是不是差异很大。 ; ei<Q =[  
如果以前的镀膜记录还保留的话，看看以前的充气量和真空度，和现在的比较一下。 (2026-04-07 23:12)  j4 &  

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我们设备镀膜时真空度大概在0.3到0.5pa左右。

记录一下各材料镀膜时候的真空度，和之前的记录比较一下。看看是不是差异很大。 0u&?Zy9&  
如果以前的镀膜记录还保留的话，看看以前的充气量和真空度，和现在的比较一下。

应该说是充气多了，真空度差了，溅射出来材料的量就少了。 g#KToOP  
这个只能是做真空保养。或者你们调整一下氧气充气的出气口位置看看。 GYb2m"a)  
也许是因为出气口位置不好造成的充气不足（氧不够造成的吸收）。

ouyuu:刚刚发现你用的是磁控溅射。 d_|v=^;  
Ar不是反应气体，Ar是用来轰击靶材，让靶材的材料溅射出来。 3&d+U)E  
O2是反应气体，是让靶材的材料发生氧化反应，变成氧化物。 KNyD}1  
这个没有什么最佳配比，如果有问题，应该是你抽真空系统需要保养了。（抽速慢了） GKDG5u;  
....... (2026-04-03 19:16)  }8KL]11b  

LZbHK.G=  
是的，镀硅和铌的气体比例是不一样的，刚开始生产时镀膜的气体比例在流量计上设置为 RX|&cY>  
硅  Ar 190   O2  110      铌   Ar 200  O2  80 0`Qs=R`OM  
但是我们这样配比镀出来的产品时不时有吸收，玻璃盖板摞在一起颜色发黑，550单波段测试透过率在93%或92%。然后更改为现在的 aj-uk(r  
硅  Ar 190   O2  120      铌   Ar 200  O2  100 =]k_Oq-1h  
现在做起来没有吸收了，但是感觉速度变慢了些。 tZ2iSc  
最近了解到Ar充气多少影响分子的平均自由程从而影响镀膜速率，所以就想深入问下这方面的调试经验。

剑雨剑芒:好的，感谢指导。 (2026-04-01 19:37)  e28#Yh@U  

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刚刚发现你用的是磁控溅射。 ^}L$[P  
Ar不是反应气体，Ar是用来轰击靶材，让靶材的材料溅射出来。 AVZ@?aJgF  
O2是反应气体，是让靶材的材料发生氧化反应，变成氧化物。 ^;_b!7*  
这个没有什么最佳配比，如果有问题，应该是你抽真空系统需要保养了。（抽速慢了） [uHI 6Q#  
U#4W"1~iX  
磁控溅射照理来讲膜厚还是比较好控制的，有问题不一定是膜厚控制的问题。 sva$@y7b  
你们不同膜层的氧气氩气变化大吗？会不会是真空度变化或者是气流波动造成的？

ouyuu:对不上有可能是薄层（敏感层）的问题。 zZ63 P  
薄层的折射率是个大问题，特别是你用离子源的情况下。  "(xu  
2是工艺和经验问题，这个自己试吧。 <U*d   
3不知道 :&MiO3#+  
 (2026-04-01 19:18)  _U %B1s3y  

2+HiaYDZ  
好的，感谢指导。